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1. 发明申请

WO2016192997A1 A DEVICE FOR TREATING SKIN USING NON-THERMAL PLASMA 审中-公开
标题翻译：使用非热等离子体处理皮肤的装置
公开(公告)号：WO2016192997A1
公开(公告)日：2016-12-08
申请号：PCT/EP2016/061178
申请日：2016-05-19
申请人： KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
发明人： ZUIDERVAART, Jasper , VAN DER ZWAN, Eduard Antonius , MOOIBROEK, Stephan , NIJDAM, Jeroen Christian
IPC分类号： A61N1/44 , H05H1/00
CPC分类号： A61N1/44 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2240/20 , H05H2245/122 , H05H2245/1225 , H05H2245/123 , H05H2245/125
摘要： The present application relates to a device for treating skin using non-thermal plasma. It comprises a housing having a skin interface electrode for application to skin during treatment, a generator for generating non-thermal plasma at the skin interface electrode; and an isolating element to isolate a region surrounding said skin interface electrode other than during treatment so that non-thermal plasma generated at the skin interface electrode within said region sterilises the skin interface electrode.
摘要翻译：本申请涉及一种使用非热等离子体治疗皮肤的装置。它包括具有用于在治疗期间施用于皮肤的皮肤界面电极的壳体，用于在皮肤界面电极处产生非热等离子体的发生器; 以及隔离元件，除了在处理期间除了围绕所述皮肤界面电极的区域，使得在所述区域内的皮肤界面电极处产生的非热等离子体使皮肤界面电极消失。

2. 发明申请

WO2016132759A1 情報処理装置、加工装置、推定方法、プログラム、および、加工方法审中-公开
标题翻译：信息处理装置，制造装置，估计方法，程序和制造方法
公开(公告)号：WO2016132759A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：PCT/JP2016/050430
申请日：2016-01-08
申请人：ソニー株式会社
发明人：久保井　信行 , 木下　隆
IPC分类号： H01L21/3065 , H05H1/46
CPC分类号： H01L22/20 , G05B19/41885 , G05B2219/45031 , H01L21/2253 , H01L21/268 , H01L21/3065 , H05H2245/123
摘要：　エッチングプロセスのシミュレーションをパラメータを変更しながら繰り返し実行する際に物理量を効率的に推定する。　情報処理装置は、基本形状記憶部および物理量推定部を具備する。この情報処理装置において基本形状記憶部は、チャンバー内においてエッチングされた試料の形状を基本形状として記憶する。また、情報処理装置において物理量推定部は、そのチャンバー内における物理量に関連する試料の加工条件と基本形状とに基づいて物理量を推定する。
摘要翻译：在重复执行具有参数修改的蚀刻工艺模拟期间，物理量被有效地估计。信息处理装置设置有基本形状存储单元和物理量估计单元。在信息处理装置中，基本形状存储单元将在腔室中蚀刻的样本的形状作为基本形状存储。在信息处理装置中，物理量估计单元基于与室内的物理量相关的基本形状和样本处理条件，估计物理量。

3. 发明申请

WO2015051175A3 APPLICATION OF ELECTRON-BEAM INDUCED PLASMA PROBES TO INSPECTION, TEST, DEBUG AND SURFACE MODIFICATIONS 审中-公开
标题翻译：电子束诱导等离子体探针在检测，测试，调试和表面修饰中的应用
公开(公告)号：WO2015051175A3
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/US2014058899
申请日：2014-10-02
申请人： ORBOTECH LTD
发明人： SALEH NEDAL , TOET DANIEL , STERLING ENRIQUE , LOEWINGER RONEN , KRISHNASWAMI SRIRAM , GLAZER ARIE
IPC分类号： G01R31/308
CPC分类号： G01N27/70 , G01R31/305 , H01J33/00 , H01J37/3233 , H01J37/32449 , H01J37/32825 , H01J2237/063 , H01J2237/164 , H01J2237/188 , H01J2237/317 , H05H2240/10 , H05H2245/123
摘要： An electron-beam induced plasmas is utilized to establish a non-mechanical, electrical contact to a device of interest. This plasma source may be referred to as atmospheric plasma source and may be configured to provide a plasma column of very fine diameter and controllable characteristics. The plasma column traverses the atmospheric space between the plasma source into the atmosphere and the device of interest and acts as an electrical path to the device of interest in such a way that a characteristic electrical signal can be collected from the device. Additionally, by controlling the gases flowing into the plasma column the probe may be used for surface modification, etching and deposition.
摘要翻译：利用电子束诱导等离子体建立与感兴趣器件的非机械电接触。该等离子体源可以被称为大气等离子体源并且可以被配置成提供具有非常细直径和可控特性的等离子体柱。等离子体柱穿过等离子体源之间的大气空间进入大气和感兴趣的装置，并且充当通向感兴趣的装置的电气路径，使得可以从装置收集特征电信号。另外，通过控制流入等离子体柱的气体，探针可用于表面改性，蚀刻和沉积。

4. 发明申请

WO2015131981A1 PLASMA TREATMENT OF SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：基板等离子体处理
公开(公告)号：WO2015131981A1
公开(公告)日：2015-09-11
申请号：PCT/EP2015/000394
申请日：2015-02-21
申请人： DOW CORNING FRANCE , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
发明人： DESCAMPS, Pierre , MASSINES, Françoise , GAUDY, Thomas , CAMPEOL, Frederick , KAISER, Vincent
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/42 , H05H1/48
CPC分类号： H05H1/42 , H05H1/48 , H05H2001/245 , H05H2240/10 , H05H2240/20 , H05H2245/123
摘要： Apparatus for depositing an oxide film on a substrate comprises a first chamber (13) defined by a dielectric housing (14) and having an inlet for process gas and an outlet (15), at least one first electrode (10,12) positioned between an inlet for process gas and the first chamber, means for introducing an oxide precursor into process gas flowing from the said inlet through the said first chamber (13) to the outlet (15), and means for applying a high voltage to the first electrode to generate a non-thermal equilibrium atmospheric pressure plasma in the first chamber (13); a second chamber (23) defined by a dielectric housing and having an inlet for process gas comprising oxygen and an outlet (25), at least one second electrode (21,22) positioned between the inlet for process gas comprising oxygen and the second chamber (23), the first chamber (13) and the second chamber (23) being interconnected at their outlets, and means for applying a high voltage to the second electrode to generate a non-thermal equilibrium atmospheric pressure plasma in the second chamber; and support means (37) for the substrate (35) positioned adjacent to the interconnected outlets of the first chamber and second chamber.
摘要翻译：用于在衬底上沉积氧化膜的设备包括由绝缘壳体（14）限定并具有用于工艺气体的入口和出口（15）的第一腔室（13），位于第二腔室之间的至少一个第一电极用于处理气体的入口和第一室，用于将氧化物前体引入从所述入口通过所述第一室（13）流到出口（15）的工艺气体的装置，以及用于向第一电极施加高电压的装置以在所述第一室（13）中产生非热平衡大气压等离子体; 由绝缘壳体限定并具有包括氧气和出口（25）的工艺气体入口的第二腔室（23），至少一个第二电极（21,22），其位于用于包含氧的工艺气体的入口和第二腔室（23），第一室（13）和第二室（23）在其出口处相互连接，以及用于向第二电极施加高电压以在第二室中产生非热平衡大气压等离子体的装置; 以及用于所述基底（35）的支撑装置（37），所述支撑装置邻近所述第一腔室和所述第二腔室的互连出口定位。

5. 发明申请

WO2015051175A2 APPLICATION OF ELECTRON-BEAM INDUCED PLASMA PROBES TO INSPECTION, TEST, DEBUG AND SURFACE MODIFICATIONS 审中-公开
标题翻译：电子束诱导等离子体探针在检测，测试，调试和表面改性中的应用
公开(公告)号：WO2015051175A2
公开(公告)日：2015-04-09
申请号：PCT/US2014/058899
申请日：2014-10-02
申请人： ORBOTECH LTD.
发明人： SALEH, Nedal , TOET, Daniel , STERLING, Enrique , LOEWINGER, Ronen , KRISHNASWAMI, Sriram , GLAZER, Arie
IPC分类号： H01J49/04
CPC分类号： G01N27/70 , G01R31/305 , H01J33/00 , H01J37/3233 , H01J37/32449 , H01J37/32825 , H01J2237/063 , H01J2237/164 , H01J2237/188 , H01J2237/317 , H05H2240/10 , H05H2245/123
摘要： An electron-beam induced plasmas is utilized to establish a non-mechanical, electrical contact to a device of interest. This plasma source may be referred to as atmospheric plasma source and may be configured to provide a plasma column of very fine diameter and controllable characteristics. The plasma column traverses the atmospheric space between the plasma source into the atmosphere and the device of interest and acts as an electrical path to the device of interest in such a way that a characteristic electrical signal can be collected from the device. Additionally, by controlling the gases flowing into the plasma column the probe may be used for surface modification, etching and deposition.
摘要翻译：利用电子束诱导的等离子体来建立与感兴趣的器件的非机械的电接触。该等离子体源可以被称为大气等离子体源，并且可以被配置为提供非常细的直径和可控特性的等离子体柱。等离子体柱穿过等离子体源之间的大气空间到大气中和感兴趣的器件，并且作为到目的器件的电通路，使得可以从器件收集特征电信号。此外，通过控制流入等离子体柱的气体，探针可用于表面改性，蚀刻和沉积。

6. 发明申请

WO2013191430A1 플라스마 이온을 이용한 세정 장치 및 세정 방법 审中-公开
标题翻译：使用等离子体离子清洁的装置和方法
公开(公告)号：WO2013191430A1
公开(公告)日：2013-12-27
申请号：PCT/KR2013/005342
申请日：2013-06-18
申请人： 주식회사 다원시스
发明人： 박선순 , 이해룡 , 최용남
IPC分类号： B08B7/00 , B08B6/00
CPC分类号： H01J37/3053 , B08B7/0035 , H05H2245/123
摘要： 본 발명은 세정 대상물의 표면을 플라스마 상태의 이온을 이용하여 효과적으로 세정하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 플라스마 이온을 이용한 세정 장치는 플라스마 발생기와 자기장 형성수단을 포함한다. 플라스마 발생기는 대상물의 표면을 세정하기 위한 플라스마 상태의 이온을 발생시키고 대상물을 향해서 배출하기 위한 것으로서, 플라스마 상태의 이온이 배출되기 위한 출구를 구비한다. 자기장 형성수단은 상기 플라스마 발생기의 출구로부터 배출된 플라스마 상태의 이온을 양이온과 음이온으로 분리시켜 대상물의 표면에 충돌시키기 위한 것으로서 상기 플라스마 발생기의 출구 전방에 이온의 진행 방향에 대하여 수직인 방향으로 자기장을 형성하도록 설치된다.
摘要翻译：本发明涉及一种通过等离子体状态的离子有效地清洁待清洁物体的表面的方法和装置。根据本发明的通过等离子体离子清洁的装置包括等离子体发生器和用于产生磁场的装置。等离子体发生器以等离子体状态向物体产生和排出离子，以清洁待清洁物体的表面，并且因此设置有用于以等离子体状态排出离子的出口。用于产生磁场的装置将从等离子体发生器的出口排出的等离子体状态的离子分离成正离子和负离子，并引起相同的碰撞在靶的表面上，因此被配置在等离子体发生器的出口，以便在相对于离子的运动方向的正交方向上产生磁场。

7. 发明申请

WO2011078299A1 異種元素結合形成法审中-公开
标题翻译：在不同元素之间形成粘结的方法
公开(公告)号：WO2011078299A1
公开(公告)日：2011-06-30
申请号：PCT/JP2010/073255
申请日：2010-12-23
申请人：日産化学工業株式会社 , 古性均 , 野原雄貴 , 渡邊久幸 , 後藤裕一
发明人：古性　均 , 野原　雄貴 , 渡邊　久幸 , 後藤　裕一
IPC分类号： H01L21/265 , H01L21/318 , H05H1/24 , H05H1/46
CPC分类号： C08J3/28 , B01J19/081 , B01J19/087 , C08J2383/16 , H01L21/0242 , H01L21/02532 , H01L21/02576 , H01L21/02579 , H01L21/02592 , H01L21/02628 , H01L21/2254 , H01L31/0288 , H01L31/182 , H01L31/20 , H05H2245/123 , Y02E10/546 , Y02P70/521
摘要：【課題】　低温で、安定なアモルファスシリコン膜及び多結晶シリコン膜を形成すると同時に大気圧環境下における導電性を付与するドーピング技術を提供する。【解決手段】　大気圧下において金属管又は絶縁体管に高電圧電極を取り付けた放電管内又は平板電極間に導入ガスを流しながら低周波数で高電圧を印加させることにより放電管内又は平板電極間に存在する分子をプラズマ化させ、そのプラズマを２種以上の元素単体又は化合物に照射することを特徴とする周期律表の第４族元素乃至第１５族元素間の異種元素結合を含む化合物の製造方法。上記異種元素結合を含む化合物が、周期律表の第１３族元素乃至第１５族元素間の異種元素結合を含む化合物である。上記プラズマ又はプラズマにより励起された周囲ガスのラジカルを照射すると共に、更に紫外線を照射する製造方法。
摘要翻译：提供了一种掺杂技术，其中在低温下形成稳定的非晶硅膜和多晶硅膜，同时在大气压环境中赋予导电性。该技术是生产含有属于周期表第4至15族的不同元素之间的键的化合物的方法，其特征在于：将低电压（低频和大气压）施加到放电通过在将气体通过放电管或平板电极之间的空间的同时将高压电极附接到金属管或绝缘体管或平板电极板而获得的管，由此转换放电管中存在的分子或者在平电极板成等离子体; 以及将所述等离子体施加到两种或更多种元素或化合物上。含有不同元素之间的键的化合物是包含属于周期表第13至15族的不同元素之间的键的化合物。还公开了包括施加由等离子体激发的周围气体的等离子体或自由基并照射紫外线的方法。

8. 发明申请

WO2017129582A1 SPRITZGUSSBAUTEIL MIT EINLEGETEIL, VERFAHREN ZU DESSEN HERSTELLUNG UND VERWENDUNGEN DAFÜR 审中-公开
标题翻译：具有插入装置的注射成型组件及其制造方法及其用途
公开(公告)号：WO2017129582A1
公开(公告)日：2017-08-03
申请号：PCT/EP2017/051483
申请日：2017-01-25
申请人： PLASMATREAT GMBH
发明人： BUSKE, Christian , GRISHIN, Artur , FEHLING, Kay , KNOSPE, Dr. Alexander
IPC分类号： B29C45/14
CPC分类号： H05H1/48 , B29C45/14311 , B29C2045/14885 , H05H1/42 , H05H2245/123
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Spritzgussbauteils (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), bei dem ein Einlegeteil (40, 72, 92, 112) mit einer anorganischen Oberfläche (42) bereitgestellt wird und bei dem das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) im Spritzguss zumindest teilweise umspritzt wird, wobei der beim Spritzguss umspritzte Bereich der anorganischen Oberfläche (42) des Einlegeteils (40, 72, 92, 112) vor dem Umspritzen zumindest bereichsweise beschichtet wird, indem die anorganische Oberfläche (42) mit einem atmosphärischen Plasmastrahl (26, 48) und einem Precursor (28, 50) beaufschlagt wird. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Spritzgussbauteil (64, 70, 90, 110) mit Einlegeteil (40, 72, 92, 112), wobei das Einlegeteil (40, 72, 92, 112) eine zumindest teilweise umspritzte anorganische Oberfläche (42) aufweist und wobei zwischen der anorganischen Oberfläche (42) und dem umspritzten Kunststoff zumindest bereichsweise eine durch Plasmabeschichtung, insbesondere Plasmapolymerisation, aufgebrachte Schicht (44) angeordnet ist.
摘要翻译：
本发明涉及一种用于生产具有一个插入件（40，72，92，112），注射模制部件（64，70，90，110），其中一个插入件（40，72，92，112 ）用无机表面BEAR设置面（42）和其中插入件（40，72，92，112）由注射模制封装，至少部分地，其中所述包覆模制在该插入件的无机表面BEAR表面（42）的注塑成型区域（通过将大气等离子体射流（26,48）和前体（28,50）施加到所述无机表面（42）上，在包封之前至少在区域中涂覆所述第一层（40,72,92,112）。本发明还涉及具有插入件（40，72，92，112）的注射模制部件（64，70，90，110），其中所述插入件（40，72，92，112）具有至少部分地包覆成型无机表面BEAR枝（42）并且其中在所述无机表面（42）和所述包覆成型塑料之间至少在区域中布置通过等离子体涂布，特别是等离子体聚合涂布的层（44）

9. 发明申请

WO2017037223A1 VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINES PLASMA-JETS UND VERFAHREN ZUR OBERFLÄCHENBEHANDLUNG 审中-公开
标题翻译：装置，用于产生等离子体射流和方法进行表面处理
公开(公告)号：WO2017037223A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：PCT/EP2016/070697
申请日：2016-09-02
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , HAWK HOCHSCHULE FÜR ANGEWANDTE WISSENSCHAFT UND KUNST HILDESHEIM/HOLZMINDEN/GÖTTINGEN , ROBERT BOSCH GMBH
发明人： VIÖL, Wolfgang , HAESE, Christian , DAMM, Roland
IPC分类号： H05H1/24 , H05H1/34
CPC分类号： H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2001/2456 , H05H2245/123
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (1) zur Erzeugung eines Plasma-Jets mit zumindest einem Strömungskanal (2), welchem ein Arbeitsgas zuführbar ist und zumindest zwei Feldelektroden (31, 32, 34, 36), mit welchen im Strömungs- kanal (2) ein elektrisches Feld erzeugbar ist, wobei der Strömungskanal (2) durch zumindest ein Dielektrikum (10, 11) begrenzt ist, und die Vorrichtung weiterhin zumindest zwei Passivelektroden (41, 42) enthält, welche kapazitiv an jeweils zugeordnete Feldelektroden (31, 32, 34, 36) gekoppelt sind. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung, bei welchem ein durch zumindest zwei Feldelektroden (31, 32, 34, 36) erzeugter Plasma-Jet auf eine zu behandelnde Oberfläche einwirkt und zeitgleich eine Gleitentladung zumindest auf eine Teilfläche der vom Plasmajet beaufschlagten Fläche einwirkt.
摘要翻译：本发明涉及一种装置（1），用于生成与至少一个流动通道的等离子流（2），其特征在于，工作气体被供给和至少两个电场电极（31，32，34，36）与所述流动通道（2）的电场产生，其中，所述流动通道（2）由电容性至少一个介电层（10,11），并且所述装置还包括至少两个无源电极（41，42）的限制（分别相关联的场电极31，32，34 ，36）耦合。此外，本发明涉及一种用于表面处理的方法，其中由至少两个电场电极（31，32，34，36）中产生等离子流被施加到待处理表面，并在同一时间至少基于通过滑动放电由等离子体射流区作用于的作用的部分表面时。

10. 发明申请

WO2016202836A1 PROCEDE D'ACTIVATION DE SURFACE DE CARTE ELECTRONIQUE POUR AMELIORATION DE L'ADHERENCE D'UNE COUCHE PROTECTRICE TELLE QU'UN VERNIS OU D'UN LIANT ELECTRIQUE, MECANIQUE OU THERMIQUE 审中-公开
标题翻译：用于激活电子卡表面的方法用于改善保护层的附着，如作为变压器或机电或热粘合剂的保护层
公开(公告)号：WO2016202836A1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：PCT/EP2016/063710
申请日：2016-06-15
申请人： EXELSIUS
发明人： LANTERI, Alain , SUBILEAU, Ronan , FERRARI, Francis , SARRAZY, Mathieu
IPC分类号： G06K19/00 , H05K3/12 , H05K3/28
CPC分类号： C08J7/123 , B29C59/14 , C08J7/12 , H05H2240/10 , H05H2245/123 , H05K3/28 , H05K3/381 , H05K2201/09972 , H05K2203/095
摘要： Procédé de traitement de surfaces d'une carte électronique (4) à l'aide d'une torche à plasma (1), cette carte (4) comportant plusieurs composants électroniques (C1a, C1b, C1c, C2a, C2b, C3a) et plusieurs surfaces à traiter disposées à différentes hauteurs par rapport à un plan de référence (Ref) de la carte électronique (4). On détermine au moins une zone à traiter (Zn) contenant les surfaces à traiter, on détermine des strates (S1, S2, S3) parallèles audit plan de référence (Ref) et contenant chacune au moins une surface à traiter, puis on génère une trajectoire de déplacement de torche telle que : - les surfaces sont traitées, strate par strate; - pour chaque strate, la torche est exclusivement déplacée parallèlement au plan de référence (Ref); - lors de la projection du flux plasma (2), chaque surface traitée est exclusivement placée dans la plage de travail idéale (Pt).
摘要翻译：本发明涉及一种通过等离子体焰炬（1）处理电子卡（4）的表面的方法，所述卡（4）包括多个电子部件（C1a，C1b，C1c，C2a，C2b，C3a）以及相对于电子卡（4）的参考平面（Ref）以各种高度布置的要处理的多个表面。确定含有待处理表面的至少一个待处理区域（Zn），平行于所述参考平面（Ref）并且各含有至少一个待处理表面的层（S1，S2，S3）然后产生火炬运动路径，使得：表面被层次处理; 对于每个层，割炬仅与参考平面（Ref）平行移动; 在等离子体流（2）的投影过程中，每个被处理的表面都被放置在理想的工作区（Pt）中。

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