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1. 发明申请

WO2016205257A1 DIAMOND DELAYERING FOR ELECTRICAL PROBING 审中-公开
标题翻译：金刚石调速电气探测
公开(公告)号：WO2016205257A1
公开(公告)日：2016-12-22
申请号：PCT/US2016/037453
申请日：2016-06-14
申请人： DCG SYSTEMS, INC.
发明人： IPPOLITO, Stephen , ZUMWALT, Sean , ERICKSON, Andrew Norman
IPC分类号： G01Q30/20 , G01Q60/30 , G01Q70/14 , G01N1/28 , G01R31/28 , H01L21/66
CPC分类号： G01R31/2601 , G01N1/286 , G01N2001/2873 , G01Q30/20 , G01Q60/30 , G01Q70/06 , G01Q70/14 , G01Q80/00 , G01R31/2898 , G01R31/44 , H01L22/14
摘要： Milling using a scanning probe microscope with a diamond tip removes a layer of material and produces a surface that is sufficiently smooth that it can be probed using a nanoprober to provide site-specific sample preparation and delayering. Diamond milling provides in situ, localized, precision delayering inside of a nanoprobing tool, thereby decreasing the turnaround time for integrated circuit analysis. Furthermore, unlike focused ion beam delayering, the diamond tip should not alter the electrical characteristics of the integrated circuit.
摘要翻译：使用具有金刚石尖端的扫描探针显微镜进行铣削可去除一层材料，并产生足够光滑的表面，使其可以使用纳米纤维探测，以提供位点特异性样品制备和延迟。金刚石铣削提供了纳米孔工具内部的原位，局部的，精确的延迟，从而减少了集成电路分析的周转时间。此外，与聚焦离子束延迟不同，金刚石尖端不应该改变集成电路的电气特性。

2. 发明申请

WO2016018880A1 APERTURELESS CANTILEVER-FREE TIP ARRAYS FOR SCANNING OPTICAL LITHOGRAPHY AND PHOTOCHEMICAL PRINTING 审中-公开
标题翻译：用于扫描光学平版印刷和光电印刷的无损无刷头阵列
公开(公告)号：WO2016018880A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/US2015/042401
申请日：2015-07-28
申请人： NORTHWESTERN UNIVERSITY , THE HONG KONG POLYTECHNIC UNIVERSITY
发明人： MIRKIN, Chad, A. , BROWN, Keith, A. , ZHOU, Yu , ZHENG, Zijian , XIE, Zhuang
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/01 , G01Q70/06 , B05D3/12 , G03F7/26
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q70/06 , G01Q80/00
摘要： A tip array can include a tip substrate layer comprising a first surface and an oppositely disposed second surface, a plurality of tips fixed to the first surfaces, the tips comprising a tip end disposed opposite the first surface, a blocking layer coated on the first surface. The tip substrate layer is formed from a substrate material and the tips are formed from a tip material. The substrate material and the tip material each comprise an at least translucent material. The tips have a radius of curvature of less than about 1 μιη. The tips are substantially free from the blocking layer.
摘要翻译：尖端阵列可以包括尖端基底层，其包括第一表面和相对设置的第二表面，固定到第一表面的多个尖端，末端包括与第一表面相对设置的末端，涂覆在第一表面上的阻挡层。尖端基底层由基底材料形成，尖端由尖端材料形成。基底材料和尖端材料各自包括至少半透明的材料。尖端具有小于约1微米的曲率半径。尖端基本上不含阻挡层。

3. 发明申请

WO2012143627A1 CAPTEUR PASSIF ET RÉVERSIBLE DE DÉFORMATIONS 审中-公开
标题翻译：被动，可逆变形传感器
公开(公告)号：WO2012143627A1
公开(公告)日：2012-10-26
申请号：PCT/FR2012/000155
申请日：2012-04-20
申请人： ÉTAT FRANÇAIS REPRÉSENTÉ PAR LE DÉLÉGUÉ GÉNÉRAL POUR L'ARMEMENT , SILMACH , LOUVIGNÉ, Pierre-François , MINOTTl, Patrice , VESCOVO, Paul , WALTER, Vincent
发明人： LOUVIGNÉ, Pierre-François , MINOTTl, Patrice , VESCOVO, Paul , WALTER, Vincent
IPC分类号： G01B3/30 , G01B7/16
CPC分类号： G01D9/00 , G01B5/30 , G01K7/01 , G01Q80/00
摘要： La présente invention concerne le domaine des microcapteurs et a plus particulièrement pour objet un capteur passif et réversible de déformations, notamment de cycles de déformations selon une direction OX d'une structure notamment lors de cycles de températures ou de contraintes mécaniques subis par cette structure, ce capteur comportant des moyens de détection (4. 5, 6) et, préférablement des moyens de comptage, des cycles de variations de distance entre deux points ou zones d'une structure, ces moyens comportant un support possédant une première et une seconde partie (41, 44) aptes à être fixées respectivement à l'une et à l'autre desdits deux points ou zones de la structure, les moyens de détection étant associés à chacune des dites première et seconde parties du support, capteur caractérisé en ce que les moyens de détection comporte des moyens (54 1 , 54 2 , 54 3 , 55 1 , 55 2 , 55 3 , 56 1 , 56 2 ,56 3 ) de discrimination d'au moins deux seuils différents de cycles de variations de distance.
摘要翻译：本发明涉及微传感器领域，特别涉及一种无源可逆变形传感器，特别是用于检测结构方向OX上的变形循环的传感器，特别是在所述结构受到的温度或机械应力周期期间，所述传感器包括用于检测并且优选地计数结构的两个点或区域之间的距离变化的周期的装置（4,5,6），所述装置包括具有能够具有第一和第二部分（41,44）的基板分别附接到所述结构的所述两个点或区域，所述检测装置与所述基板的所述第一和第二部分中的每一个组合，其特征在于，所述检测装置包括装置（541,542,543,551,552 ，553,561,562,563），用于区分距离变化周期的至少两个不同阈值。

4. 发明申请

WO2011009094A3 LEVELING DEVICES AND METHODS 审中-公开
标题翻译：水平设备和方法
公开(公告)号：WO2011009094A3
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：PCT/US2010042352
申请日：2010-07-16
申请人： NANOINK INC , BUSSAN JOHN EDWARD , ROZHOK SERGEY V , VAL-KHVALABOV VADIM , FRAGALA JOSEPH S , HAAHEIM JASON R , NELSON MICHAEL R , SOLHEIM EDWARD R , VAKIL JAVAD M
发明人： BUSSAN JOHN EDWARD , ROZHOK SERGEY V , VAL-KHVALABOV VADIM , FRAGALA JOSEPH S , HAAHEIM JASON R , NELSON MICHAEL R , SOLHEIM EDWARD R , VAKIL JAVAD M
IPC分类号： G03F7/00 , B82B3/00 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q80/00 , G03F9/7034 , G03F9/7053
摘要： Devices for leveling an object for patterning a substrate surface, including an array of scanning probe tips, are provided. A device may include a support structure adapted to mount an object, the object having a plurality of protrusions adapted to form a pattern on a surface of a substrate upon contact of the object to the surface; and at least one flexible joint assembly mounted to the support structure and adapted to allow the object to achieve a parallel orientation with respect to the surface upon contact of the object to the surface. Also provided are apparatuses and kits incorporating the devices and methods of making and using the devices and apparatuses.
摘要翻译：提供了用于调整用于图案化衬底表面的对象的设备，包括扫描探针尖端的阵列。装置可以包括适于安装物体的支撑结构，所述物体具有适于在物体与表面接触时在基底的表面上形成图案的多个突起; 以及至少一个柔性接头组件，其安装到所述支撑结构并且适于允许所述物体在所述物体与所述表面接触时相对于所述表面实现平行取向。还提供了结合设备的装置和套件以及制造和使用设备和装置的方法。

5. 发明申请

WO2010086773A1 METHOD FOR PATTERNING NANO-SCALE PATTERNS OF MOLECULES ON A SURFACE OF A MATERIAL 审中-公开
标题翻译：在材料表面上绘制分子的纳米尺度图案的方法
公开(公告)号：WO2010086773A1
公开(公告)日：2010-08-05
申请号：PCT/IB2010/050293
申请日：2010-01-22
申请人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION , DUERIG, Urs T , GOTSMANN, Bernd W , HEDRICK, James L. , KNOLL, Armin W , PIRES, David
发明人： DUERIG, Urs T , GOTSMANN, Bernd W , HEDRICK, James L. , KNOLL, Armin W , PIRES, David
IPC分类号： G03F7/00 , G11B9/00 , G01Q80/00
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q80/00 , G11B9/14 , G11B11/007 , Y10T428/24355
摘要： Probe-based methods for patterning a surface of a material are described. In particular, high resolution patterning of molecules on a surface of a material, such as nano-scale patterns with feature sizes of less than 30 nanometers, are described. In one aspect, a method for patterning a surface of a material includes providing a material having a polymer film. A heated, nano-scale dimensioned probe is then used to desorb molecules upon interacting with the film. The film includes a network of molecules (such as molecular glasses) which are cross-linked via intermolecular (noncovalent) bonds, such as hydrogen bonds.
摘要翻译：描述了用于图案化材料表面的基于探针的方法。特别地，描述了材料表面上的分子的高分辨率图案化，例如特征尺寸小于30纳米的纳米尺度图案。一方面，用于图案化材料表面的方法包括提供具有聚合物膜的材料。然后使用加热的纳米级尺寸的探针在与膜相互作用时解吸分子。该膜包括通过分子间（非共价）键如氢键交联的分子网络（如分子玻璃）。

6. 发明申请

WO2010085768A1 LARGE AREA, HOMOGENEOUS ARRAY FABBRICATION INCLUDING LEVELING WITH USE OF BRIGHT SPOTS 审中-公开
标题翻译：大面积，均匀的阵列包括使用亮点的水平
公开(公告)号：WO2010085768A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/US2010/022014
申请日：2010-01-25
申请人： NANOINK,INC. , AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
发明人： AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
IPC分类号： G03F7/00 , G01Q70/06
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q80/00 , G03F9/7034
摘要： Better leveling procedures for patterning at the small scale including the nanoscale. A method comprising: providing at least one array of cantilevers comprising tips thereon, wherein the cantilevers comprise at least one relatively bright spot, or at least two relatively bright spots, near the tip upon viewing, providing a substrate, leveling the array and the substrate with respect to each other, wherein the relatively bright spot near the tip is viewed to determine a contact of the tip and substrate.
摘要翻译：更好的平整程序，在小规模的图案化，包括纳米尺度。一种方法，包括：提供包括其上的尖端的悬臂的至少一个阵列，其中所述悬臂包括在观察时在所述尖端附近的至少一个相对亮点或至少两个相对较亮的点，提供衬底，使所述阵列和所述衬底相对于彼此，其中观察到靠近尖端的相对亮点以确定尖端和基底的接触。

7. 发明申请

WO2010085767A1 LARGE AREA, HOMOGENEOUS ARRAY FABRICATION INCLUDING CONTROLLED TIP LOADING VAPOR DEPOSITION 审中-公开
标题翻译：大面积，均匀的阵列制造，包括控制尾料加载蒸气沉积
公开(公告)号：WO2010085767A1
公开(公告)日：2010-07-29
申请号：PCT/US2010/022013
申请日：2010-01-25
申请人： NANOINK. INC. , AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
发明人： AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
IPC分类号： G03F7/00 , G01Q60/00
CPC分类号： G03F7/0002 , G01Q80/00
摘要： Improved methods for loading arrays of tips with a material for subsequent deposition of the material from the tip to the substrate. Tip loading can be done by controlled vapor deposition which reduces the amount of non-specific material deposition onto a substrate. Improved nanoscale and microscale engineering and lithography can be achieved. Applications include better cellular studies including stem cell studies and stem cell differentiation control.
摘要翻译：改进的用于将材料阵列装载到材料的方法，用于将材料从尖端沉积到衬底。尖端加载可以通过控制气相沉积来进行，这减少了非特异性材料沉积到基底上的量。可以实现改进的纳米尺度和微尺度工程和光刻。应用包括更好的细胞研究，包括干细胞研究和干细胞分化控制。

8. 发明申请

WO2010048940A1 SCHNEIDVORRICHTUNG ZUM SCHNEIDEN VON GRAPHEN SOWIE VERFAHREN ZUM SCHNEIDEN VON GRAPHEN MITTELS EINER SCHNEIDVORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：切割装置于切割图形和方法切割GRAPH由切割装置
公开(公告)号：WO2010048940A1
公开(公告)日：2010-05-06
申请号：PCT/DE2009/001513
申请日：2009-10-29
申请人： HUMBOLDT-UNIVERSITÄT ZU BERLIN , RABE, Juergen , SEVERIN, Nikolai , KIRSTEIN, Stefan
发明人： RABE, Juergen , SEVERIN, Nikolai , KIRSTEIN, Stefan
IPC分类号： C01B31/04 , G01Q80/00 , H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67092 , C01B32/194 , G01Q80/00 , Y10T225/371
摘要： Die Erfindung bezieht sich auf eine Schneidvorrichtung zum Schneiden von Graphen, mit einer Aufnahme (10), die konfiguriert ist, das Graphen (19) zum Schneiden aufzunehmen, einem Schneidelement (12), das zumindest im Bereich einer Schneidspitze mit einem katalytisch aktiven Material beladen ist, einer Verlagerungseinrichtung, die konfiguriert ist, die Aufnahme (10) und das Schneidelement (12) mit der Schneidspitze relativ zueinander zu verlagern, und einer Heizvorrichtung (14), die konfiguriert ist, beim Schneiden des Graphens (19) Wärmeenergie für eine katalytische Reaktion des Graphens im Bereich einer Schneidbahn unter Beteiligung des katalytisch aktiven Materials bereitzustellen.
摘要翻译：本发明涉及一种切割装置用于切割所述曲线图，其被配置为接收所述图形（19）的容座（10）进行切割，在切割尖端的区域中至少装一个切割元件（12）配有催化活性材料是位移装置，其被配置，所述接收器（10）和切割元件（12）与相对于彼此的切削刀片移动，并且加热装置（14）中的曲线图（19）的热能的切割用于催化被配置在切割路径的区域中的图形的反应以提供催化活性材料的参与。

9. 发明申请

WO2009157055A1 磁気ヘッド、ヘッドアッセンブリ、及び、磁気記録装置审中-公开
标题翻译：磁头，头组件和磁记录装置
公开(公告)号：WO2009157055A1
公开(公告)日：2009-12-30
申请号：PCT/JP2008/061454
申请日：2008-06-24
申请人：株式会社フォスメガ , サンドゥーアダルシュ
发明人：サンドゥーアダルシュ
IPC分类号： G11B21/21 , G01N13/10 , G01N13/22 , G01R33/07 , G11B9/14
CPC分类号： G01R33/091 , B82Y10/00 , B82Y25/00 , G01Q60/54 , G01Q80/00 , G11B5/4826 , G11B5/4833
摘要：　微弱な磁気の測定及び記録を十分な高感度かつ高空間分解能で、しかも極めて簡便な構成で実現でき、これにより、磁気ディスク等の磁気記録媒体への高密度記録と読み出しが可能であり、さらに、信頼性に優れる磁気ヘッド、ヘッドアッセンブリ、及び、磁気記録装置を提供することを目的とする。本発明による磁気記録装置は、磁気記録媒体と、磁気記録媒体を回転させる媒体駆動手段と、片持ち梁状の可撓性部材、可撓性部材の自由端部に設けられ且つ磁気記録媒体に対向配置される磁気検知素子、可撓性部材の少なくとも一部に設けられた歪みゲージ、可撓性部材を駆動する駆動手段、及び、歪みゲージからの出力信号に基づいて駆動手段の駆動を制御する制御手段を備えるヘッドアッセンブリとを備える。
摘要翻译：一种磁头，头部组件和磁记录装置，其以足够高的灵敏度，高空间分辨率和非常简单的结构实现微弱磁性的测量和记录，从而能够对磁性进行高密度记录和读取诸如磁盘的记录介质并且是可靠的。磁记录装置具有磁记录介质，使磁记录介质旋转的介质驱动装置和磁头组件。磁头组件设置有悬臂梁状态的柔性构件，设置在柔性构件的自由端处并设置为面对磁记录介质的磁检测器，设置在柔性构件的一部分或更多的应变计构件，驱动柔性构件的驱动装置，以及根据来自应变计的输出信号来控制驱动装置的驱动的控制装置。

10. 发明申请

WO2009118883A1 露光ヘッド、露光装置および露光ヘッド製造方法审中-公开
标题翻译：曝光头，曝光装置和曝光头制造方法
公开(公告)号：WO2009118883A1
公开(公告)日：2009-10-01
申请号：PCT/JP2008/056051
申请日：2008-03-28
申请人：富士通株式会社 , 佐藤朋美 , ▲高▼橋宏
发明人：佐藤朋美 , ▲高▼橋宏
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/7035 , G01Q60/22 , G01Q80/00
摘要：　本願の開示する技術は、近接場光を用いて露光処理を実行する手段を安価に提供することを課題とする。この課題を解決するため、露光ヘッド（２０）は、電極間に放電を発生させることにより光を発生させる放電部（２１）と、放電部（２１）において発生させられた光を光源として、光出射口（１１４）から近接場光（３）を生じさせる露光部（２２）とを備える。このように放電により生じる光を光源とすることにより、装置を小型化し、コストを低減させることが可能になる。
摘要翻译：该技术的一个目的是提供使用近场光以低成本进行曝光处理的装置。为了实现该目的，曝光头（20）包括用于在电极之间产生放电从而产生光的放电部分（21）和用于允许从场景光（3）产生近场光（3）的曝光部分（22）使用在放电部（21）中产生的光作为光源的发光口（114）。该装置可以小型化，并且通过使用由放电产生的光作为如上所述的光源可以降低成本。

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