发明申请
WO2010085768A1 LARGE AREA, HOMOGENEOUS ARRAY FABBRICATION INCLUDING LEVELING WITH USE OF BRIGHT SPOTS
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： LARGE AREA, HOMOGENEOUS ARRAY FABBRICATION INCLUDING LEVELING WITH USE OF BRIGHT SPOTS
- 专利标题（中）：大面积，均匀的阵列包括使用亮点的水平
- 申请号：PCT/US2010/022014 申请日：2010-01-25
- 公开(公告)号：WO2010085768A1 公开(公告)日：2010-07-29
- 发明人： AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
- 申请人： NANOINK,INC. , AMRO, Nabil, A. , SANEDRIN, Raymond
- 申请人地址： 8025 Lamon Avenue Skokie, IL 60077 US
- 专利权人： NANOINK,INC.,AMRO, Nabil, A.,SANEDRIN, Raymond
- 当前专利权人： NANOINK,INC.,AMRO, Nabil, A.,SANEDRIN, Raymond
- 当前专利权人地址： 8025 Lamon Avenue Skokie, IL 60077 US
- 代理机构： RUTT, J., Steven et al.
- 优先权： US61/147,449 20090126
- 主分类号： G03F7/00
- IPC分类号： G03F7/00 ; G01Q70/06
摘要：
Better leveling procedures for patterning at the small scale including the nanoscale. A method comprising: providing at least one array of cantilevers comprising tips thereon, wherein the cantilevers comprise at least one relatively bright spot, or at least two relatively bright spots, near the tip upon viewing, providing a substrate, leveling the array and the substrate with respect to each other, wherein the relatively bright spot near the tip is viewed to determine a contact of the tip and substrate.
摘要（中）：
更好的平整程序，在小规模的图案化，包括纳米尺度。 一种方法，包括：提供包括其上的尖端的悬臂的至少一个阵列，其中所述悬臂包括在观察时在所述尖端附近的至少一个相对亮点或至少两个相对较亮的点，提供衬底，使所述阵列和所述衬底 相对于彼此，其中观察到靠近尖端的相对亮点以确定尖端和基底的接触。