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    • 5. 发明申请
    • MOLDMODUL, VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES MOLDMODULS UND MOLDWERKZEUG FÜR DIE MOLDUMSPRITZUNG EINES MOLDMODULS
    • 模具模块,用于制造模具模块的方法和用于模具模具的模具成型的模具工具
    • WO2017133941A1
    • 2017-08-10
    • PCT/EP2017/051506
    • 2017-01-25
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • MICHELS, DanielAYDOGMUS, IrfanSUENNER, ThomasKLUTHE, ChristianMESSNER, OliverLEMM, AlexanderWEHRMANN, FrankKOVACS, Vince
    • H01L23/31H01L21/56
    • H01L21/56H01L21/565H01L23/3107H01L23/49541H01L23/49551H01L23/49572
    • Die Erfindung betrifft eine Moldmodul (1) mit mindestens einem elektronischen und/oder elektrischen Bauteil (3), welches von einer Moldmasse (30) umgeben ist, und mindestens einem am Modulrand angeordneten Einpresskontakt (20), welcher einen Kontaktierungsbereich (22) mit einer von beiden Oberflächen zugänglichen Einpressöffnung (24) aufweist, sowie ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Moldmoduls (1) und ein Moldwerkzeug für die Moldumspritzung eines solchen Moldmoduls (1). Hierbei ist die Moldmasse (30) im Bereich des mindestens einen Einpresskontaktes (20) abgesetzt und bildet auf beiden Ober- flächen des Einpresskontaktes (20) jeweils einen Moldkragen (32) aus, welcher den korrespondierenden Einpresskontakt (20) bereichsweise umschließt und bei der Kontaktierung auftretende Einpresskräfte aufnimmt und oberhalb und unterhalb der korrespondierende Einpressöffnung (24) jeweils einen Raum (34) freilässt, wobei der Einpresskontakt (20) auf beiden Oberflächen um die Einpressöffnung (24) eine Verprägungszone (26) aufweist, welche den Kontaktierungsbereich (22) von der Moldmasse (30) trennt.
    • 本发明涉及一种Moldmodul(1)与至少一个电子和/或电气部件(3),其通过模制化合物(30)所包围,和至少一个布置在模块边界压入式触头(20), 其中一个接触区域(22)与具有开口2个表面BEAR(24)中的一个,以及用于制造的方法,例如一个Moldmoduls(1)和用于导航中使用的模制工具;陈列车BEAR nglichen压入&oUML R,使得Moldmoduls的Moldumspritzung(1)。 这里,模制化合物(30)在至少一个压入配合触点(20)和形成于两个上FL&AUML的区域偏移;压配合触点(20)各自具有的陈一个Moldkragen(32),从该相应的压入式触头(20)部分地包围ROAD吨 在每种情况下开口(24)的空间(34)Freil叶片,其中,所述压入两个表面&AUML上的接触(20);和所述接触Einpresskr&TribeBASE期间发生的接收和上述和相应的压入及oUML下面陈钳紧&oUML;开口(24) 将接触区域(22)与模塑料(30)分开的压缩区(26)

    • 6. 发明申请
    • KONTAKTANORDNUNG, ELEKTRONIKBAUGRUPPE UMFASSEND DIE KONTAKTANORDNUNG UND VERFAHREN ZUR AUSBILDUNG DER KONTAKTANORDNUNG
    • WO2019219536A1
    • 2019-11-21
    • PCT/EP2019/062063
    • 2019-05-10
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • SUENNER, ThomasZIPPRICH, JuergenSCHIELE, Christian
    • H01L23/492H01L21/60H01L23/488
    • Eine Kontaktanordnung (100) weist einen Schichtstapel von drei übereinander angeordneten Fügepartnern (10, 20, 30) auf, wobei der mittlere Fügepartner (20) mit jeweils einer Schicht aus einem verfestigten Lotmittel (40) mit dem darüberliegenden und mit dem darunterliegenden Fügepartner (30, 10) stoffverbunden ist. Dabei weist der darüberliegende und/oder der darunterliegende Fügepartner (30, 10) jeweils eine dem mittleren Fügepartner (20) zugewandte ebene und lötbare Seitenoberfläche (30.1, 10.2) auf. Ferner ist innerhalb dieser jeweiligen Seitenoberfläche (30.1, 10.2) ein flächenkleinerer Teilbereich als Verbindungsfläche (21, 23) der Lotschicht (40) ausgebildet, wobei zur Zentrierung des mittleren Fügepartners (20) während eines geschmolzenem Zustands des Lotmittels (40) zumindest innerhalb einer der beiden Seitenoberflächen (30.1, 10.2) und in einem Abstand zu deren jeweiligen Außenkanten (60.32, 60.33, 60.34) zumindest ein Begrenzungselement (60, 60.3a, 60.3b) (eine Formerhöhung, eine Formvertiefung oder Formaussparung, insbesondere in Form eines Langloches, oder eine Außenkante (60.34, 60.32, 60.33) der Seitenoberfläche (30.1)) für einen Lötmeniskus der Lotschicht (40) ausgebildet ist und dort die Verbindungsfläche (21, 23) der Lotschicht (40) über zumindest einen Außenkonturabschnitt definiert abschließt. In einem Verfahren zur Ausbildung einer solchen Kontaktanordnung (100) werden der darüberliegende und der darunterliegende Fügepartner (30, 10) in einer festen Lageposition fixiert und die Anordnung (100) wird temperaturbehandelt, wobei das Lotmittel (40) in einen geschmolzenen Zustand gebracht wird und der mittlere Fügepartner (20) schwimmend mittels des geschmolzenen Lotmittels (40) getragen wird, wobei dann eine definierte Vorzugsposition des mittleren Fügepartners (20) relativ zum darüberliegenden und darunterliegenden Fügepartner (30, 10) eingenommen wird, indem ein Lötmeniskus der Lotschicht (40) durch mindestens das eine innerhalb zumindest einer der Seitenoberflächen (30.1, 10.2) ausgebildete Begrenzungselement (60, 60.3a, 60.3b) begrenzt wird und dort die Verbindungsfläche (21, 23) der Lotschicht (40) über zumindest einen Außenkonturabschnitt definiert abgeschlossen wird. Der mittlere Fügepartner (20) ist beispielsweise ein elektrisches und/oder elektronisches Bauelement (70), insbesondere ein Leistungshalbleiter, der darunterliegende Fügepartner (10) ist beispielsweise ein Schaltungsträger (80) und der darüberliegende Fügepartner (30) ist ein Metallclip (90). Alternativ ist der mittlere Fügepartner (20) als Wärmesenke vorgesehen, beispielsweise ein Metallelement oder ein unbestücktes Keramiksubstratelement.
    • 7. 发明申请
    • ENTWÄRMUNGSANORDNUNG FÜR EIN HALBLEITERLEISTUNGSMODUL
    • WO2019219535A1
    • 2019-11-21
    • PCT/EP2019/062062
    • 2019-05-10
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • SUENNER, ThomasKAISER, AlexanderZIPPRICH, JuergenSCHIELE, Christian
    • H01L25/07H01L23/373
    • Die Erfindung betrifft eine Entwärmungsanordnung (20) für ein Halbleiterleistungsmodul, mitdrei gestapelten Fügepartnern (24, 26, 28), welche durch eine erste Lotschicht (22A) und durch eine zweite Lotschicht (22B) stoffschlüssig miteinander verbunden sind, sowie ein korrespondierendes Halbleiterleistungsmodul mit mindestens einer solchen Entwärmungsanordnung (20) und ein Verfahren zum Verbinden eines Schichtstapels aus drei Fügepartnern (24, 26, 28) einer solchen Entwärmungsanordnung (20). Hierbei ist die erste Lotschicht (22A) zwischen einem elektrisch leitenden ersten Fügepartner (24) und einem elektrisch isolierenden mittleren Fügepartner (26) ausgebildet, und die zweite Lotschicht (22B) ist zwischen dem elektrisch isolierenden mittleren Fügepartner (26) und einem elektrisch leitenden zweiten Fügepartner (28) ausgebildet, wobei der erste Fügepartner (24) eine zu entwärmende erste Leiterbahn (24A) ist, an welcher ein erstes Spannungspotential anliegt, wobei der zweite Fügepartner (28) eine als Wärmesenke wirkende zweite Leiterbahn (28A) ist, an welcher ein vom ersten Spannungspotential verschiedenes zweites Spannungspotential anliegt, und wobei der mittlere Fügepartner (26) eine elektrisch isolierende Zwischenschicht (26A) ist, welche einen elektrisch isolierten Wärmeableitpfad zwischen dem ersten Fügepartner (24) und dem zweiten Fügepartner (28) ausbildet.
    • 8. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM BILDEN EINES KONTAKTS AUF EINEM HALBLEITERSUBSTRAT UND HALBLEITERVORRICHTUNG
    • 方法的接点上的半导体基板及半导体装置
    • WO2013131690A1
    • 2013-09-12
    • PCT/EP2013/051684
    • 2013-01-29
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • SUENNER, ThomasGRIEB, Michael
    • H01L21/285H01L21/04
    • H01L29/41775H01L21/0485H01L21/28518H01L21/32051H01L21/321H01L21/32135H01L29/1608H01L29/45H01L29/66068H01L29/78
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bilden eines Kontakts auf einem Halbleitersubstrat (50) mit den Schritten, Aufbringen mindestens eines Metalls (66) auf mindestens eine freiliegende Teilfläche(68) einer Außenseite des Halbleitersubstrats (50) und/oder einer auf das Halbleitersubstrat (50) aufgebrachten Schicht, wobei die Teilfläche (68) von mindestens einem Randbereich (70) einer Isolierschicht (58) umrahmt wird, und wobei der mindestens eine Randbereich (70) der Isolierschicht (58) zumindest teilweise mit dem mindestens einen Metall (66) bedeckt wird, Erhitzen des Halbleitersubstrats (50), wodurch das auf die mindestens eine Teilfläche (68) aufgebrachte mindestens eine Metall (66) mit mindestens einem Halbleitermaterial der mindestens einen Teilfläche (68) zu einem Halbleiter-Metall-Material als Endmaterial oder Weiterverarbeitungsmaterial des mindestens einen Kontakts reagiert, und Ausführen eines Ätzschritts unter Verwendung eines Ätzmaterials mit einer höheren Ätzrate für das mindestens eine Metall (66) als für das Halbleiter-Metall-Material. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Halbleitervorrichtung.
    • 本发明涉及一种形成在半导体衬底(50)上的接触的方法,包括(50)和/或(半导体衬底50上的半导体基板的外侧面中的至少一个暴露的表面部分(68)将至少一种金属(66)的步骤 )施加的绝缘层(58)的层,其中,所述部分表面(68)包围的(至少一个边缘区域70),并且其中所述绝缘层的至少一个边缘区域(70)(58)至少部分地覆盖所述至少一个金属(66) 是,加热所述半导体衬底(50),由此,所述至少一个部分的表面(68)施加至少一种金属(66)与所述至少一个部分的表面(68)的半导体金属材料作为最终或进一步处理材料的至少一个半导体材料的至少 响应一个接触,并且使用具有较高的蚀刻的蚀刻材料进行蚀刻的步骤 率为至少一种金属(66)比用于半导体 - 金属材料。 此外,本发明涉及一种半导体器件。