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    • 3. 发明申请
    • MANUFACTURING METHOD OF A MAGNETIC TUNNEL JUNCTION ELEMENT USING TWO MASKS
    • 使用两个掩模的磁性隧道结构元件的制造方法
    • WO2009129283A1
    • 2009-10-22
    • PCT/US2009/040612
    • 2009-04-15
    • QUALCOMM INCORPORATEDKANG, Seung, H.LI, XiaGU, ShiqunNOWAK, Matthew, M.
    • KANG, Seung, H.LI, XiaGU, ShiqunNOWAK, Matthew, M.
    • H01L43/08H01L43/12
    • H01L43/08G11C11/161H01L43/12
    • A method for forming a magnetic tunnel junction (MTJ) for magnetic random access memory (MRAM) using two masks includes depositing over an interlevel dielectric layer (36) containing an exposed first interconnect metallization, (37) a first electrode, (30) a fixed magnetization layer, (32) a tunneling barrier layer, (12) a free magnetization layer (11) and a second electrode (6). An MTJ structure including the tunnel barrier layer, free layer and second electrode is defined above the first interconnect metallization by a first mask. A first passivation layer (40) encapsulates the MTJ structure, leaving the second electrode exposed. A third electrode (15) is deposited in contact with the second electrode. A second mask is used to pattern a larger structure including the third electrode, the first passivation layer, the fixed magnetization layer and the first electrode. A second dielectric passivation layer (8) covers the etched plurality of layers, the first interlevel dielectric layer and the first interconnect metallization.
    • 用于使用两个掩模形成用于磁性随机存取存储器(MRAM)的磁性隧道结(MTJ)的方法包括在包含暴露的第一互连金属化的层间介质层(36)上沉积(37)第一电极,(30) 固定磁化层,(32)隧道势垒层,(12)自由磁化层(11)和第二电极(6)。 包括隧道势垒层,自由层和第二电极的MTJ结构通过第一掩模限定在第一互连金属化之上。 第一钝化层(40)封装MTJ结构,留下第二电极。 沉积与第二电极接触的第三电极(15)。 使用第二掩模来图案化包括第三电极,第一钝化层,固定磁化层和第一电极的较大结构。 第二介电钝化层(8)覆盖被蚀刻的多个层,第一层间介质层和第一互连金属化层。