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    • 3. 发明申请
    • ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER DEVICE AND METHOD OF FORMING A ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER DEVICE
    • 机电传感器装置及形成机电传感器装置的方法
    • WO2010061364A2
    • 2010-06-03
    • PCT/IB2009/056020
    • 2009-11-25
    • FREESCALE SEMICONDUCTOR, INC.COMMISSARIAT à L'ENERGIE ATOMIQUE (CEA)PERRUCHOT, FrançoisDEFAY, EmmanuelREY, PatriceLIU, LianjunPACHECO, Sergio
    • PERRUCHOT, FrançoisDEFAY, EmmanuelREY, PatriceLIU, LianjunPACHECO, Sergio
    • B81B3/00H01L41/09
    • B81B3/0072B81B2201/032H01L41/0933H01L41/094
    • A micro or nano electromechanical transducer device (200) formed on a semiconductor substrate (210) comprises a movable structure (203) which is arranged to be movable in response to actuation of an actuating structure. The movable structure (203) comprises a mechanical structure (204) comprising at least one mechanical layer (204) having a first thermal response characteristic and a first mechanical stress response characteristic, at least one layer (202) of the actuating structure, the at least one layer having a second thermal response characteristic different to the first thermal response characteristic and a second mechanical stress response characteristic different to the first mechanical stress response characteristic, a first compensation layer (206) having a third thermal response characteristic and a third mechanical stress characteristic, and a second compensation layer (207) having a fourth thermal response characteristic and a fourth mechanical stress response characteristic. The first (206) and second (207) compensation layers are arranged to compensate a thermal effect produced by the different first and second thermal response characteristics of the mechanical structure and the at least one layer (202) of the actuating structure such that movement of the movable structure (203) is substantially independent of variations in temperature and to adjust a stress effect produced by the different first and second stress response characteristics of the mechanical structure and the at least one layer (202) of the actuating structure such that the movable structure is deflected a predetermined amount relative to the substrate when the electromechanical transducer device (200) is in an inactive state.
    • 形成在半导体衬底(210)上的微型或纳米机电换能器装置(200)包括可移动结构(203),其被布置成响应于致动结构的致动而是可移动的。 可移动结构(203)包括机械结构(204),其包括具有第一热响应特性和第一机械应力响应特性的至少一个机械层(204),所述致动结构的至少一个层(202) 具有与第一热响应特性不同的第二热响应特性和与第一机械应力响应特性不同的第二机械应力响应特性的至少一个层,具有第三热响应特性和第三机械应力的第一补偿层(206) 以及具有第四热响应特性和第四机械应力响应特性的第二补偿层(207)。 第一(206)和第二(207)补偿层布置成补偿由机械结构和致动结构的至少一个层(202)的不同的第一和第二热响应特性产生的热效应, 可移动结构(203)基本上独立于温度变化并且调节由机械结构和致动结构的至少一个层(202)的不同的第一和第二应力响应特性产生的应力效应,使得可移动的结构 当机电换能器装置(200)处于非活动状态时,结构相对于基板偏转预定量。
    • 8. 发明申请
    • DISPOSITIF DE MESURE DE FORCE PAR DETECTION RESISTIVE A DOUBLE PONT DE WHEASTONE
    • 通过电力检测测量力的装置与双层桥梁
    • WO2006097613A1
    • 2006-09-21
    • PCT/FR2006/000550
    • 2006-03-13
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUEREY, Patrice
    • REY, Patrice
    • G01L5/16
    • G01L5/162G01L1/2262
    • Un dispositif de mesure de force par détection résistive à double pont de Wheastone comprend au moins huit jauges résistives (R x1 , R x2 , R x3 , R x4 , R y1 , R y2 , R y3 , R y4 ) placées sur une membrane déformable (12, 13, 14) et sensiblement plane et montées selon deux directions différentes. Les jauges résistives (R x1 , R x2 , R x3 , R x4 , R y1 , R y2 , R y3 , R y4 ) de chacun des ponts de Wheastone sont disposées respectivement sur des portions disjointes de membrane (12, 13, 14), et deux jauges (R x2 , R x3 ; R y1 , R y4 ) d'au moins un pont de Wheastone sont placées sur une zone non déformable (13) de la membrane (12, 13, 14).
    • 本发明涉及一种用于通过电阻检测来测量力的装置,其中包括至少八个电阻量规(R 1,X 2,R 2,X 2,R 3) ,R x4,R y1,R y2,R y3,R y4,/ 3 )布置在基本上平面的可变形膜(12,13,14)上并沿两个不同的方向安装。 电阻量规(R x1,R 2,X 2,R x 3,R x 4,R y 1, 每个Wheastone桥分别布置在隔膜的不相交部分上(的第一,第二,第三,第三,第三,第三,第三,第三, 12,13,14)和两个量规(R x2,R,x3,R,y1,R,y4) )至少一个Wheastone桥被放置在膜(12,13,14)的不可变形区域(13)上。
    • 9. 发明申请
    • METHOD OF FORMING AN ELECTROMECHANICAL TRANSDUCER DEVICE
    • 形成机电传感器装置的方法
    • WO2011001293A2
    • 2011-01-06
    • PCT/IB2010001950
    • 2010-06-15
    • FREESCALE SEMICONDUCTOR INCCOMMISSARIAT ENERGIE ATOMIQUEPERRUCHOT FRANCOISLIU LIANJUNPACHECO SERGIODEFAY EMMANUELREY PATRICE
    • PERRUCHOT FRANCOISLIU LIANJUNPACHECO SERGIODEFAY EMMANUELREY PATRICE
    • H02N1/00
    • B81C1/00666B81B2203/0118B81C2201/0167B81C2201/0169
    • A method of forming an electromechanical transducer device (200) comprises forming (500) on a fixed structure (210) a movable structure (203) and an actuating structure of the electromechanical transducer device, wherein the movable structure (203) is arranged in operation of the electromechanical transducer device (200) to be movable in relation to the fixed structure in response to actuation of the actuating structure. The method further comprises providing (504) a stress trimming layer (216) on at least part of the movable structure (203), after providing the stress trimming layer (216), releasing (506) the movable structure (203) from the fixed structure (210) to provide a released electromechanical transducer device (200), and after releasing the movable structure (203), changing (508) stress in the stress trimming layer of the released electromechanical transducer device such that the movable structure (203) is deflected a predetermined amount relative to the fixed structure (210) when the electromechanical transducer device (200) is in an off state.
    • 一种形成机电换能器装置(200)的方法包括在固定结构(210)上形成(500)可移动结构(203)和机电换能器装置的致动结构,其中可移动结构(203)布置在操作中 所述机电换能器装置(200)响应于所述致动结构的致动而相对于所述固定结构可移动。 该方法还包括在提供应力修剪层(216)之后,在可移动结构(203)的至少一部分上提供(504)应力修剪层(216),将可移动结构(203)从固定 结构(210)以提供释放的机电换能器装置(200),并且在释放可移动结构(203)之后,改变(508)释放的机电换能器装置的应力修剪层中的应力,使得可移动结构(203) 当机电换能器装置(200)处于关闭状态时相对于固定结构(210)偏转预定量。
    • 10. 发明申请
    • CAPTEUR DE PRESSION A JAUGES RESISTIVES
    • 带电阻测量的压力传感器
    • WO2007096225A1
    • 2007-08-30
    • PCT/EP2007/050766
    • 2007-01-26
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUEDELAPIERRE, GillesGRANGE, HubertREY, Patrice
    • DELAPIERRE, GillesGRANGE, HubertREY, Patrice
    • G01L9/00
    • G01L9/0044G01L9/0055Y10T29/49103
    • Selon l'invention on prévoit que le capteur comporte une cavité (V) hermétiquement fermée d'un côté par un substrat (40) de silicium, et de l'autre par une membrane (58) déformable sous l'effet de la pression extérieure à la cavité, le capteur comportant au moins une jauge résistive (54, 56) solidaire de la membrane et ayant une valeur de résistance variable en fonction des déformations de la membrane. La membrane, de préférence en nitrure de silicium, est solidaire des jauges résistives. Les jauges sont situées sous la membrane à l'intérieur de la cavité fermée (V). Il n'est pas nécessaire de creuser le substrat pour réaliser la cavité : la membrane est formée par dépôt d'une couche isolante sur une couche sacrificielle, par exemple en polyimide ; elle peut recouvrir des circuits de mesure intégrés dans le substrat de silicium.
    • 根据本发明,传感器设置有一个通过硅衬底(40)在一侧气密密封的腔体(V),另一侧由隔膜(58)密封,该膜片可在外部压力的作用下变形 所述传感器具有紧固到所述隔膜的至少一个电阻计(54,56),并具有作为所述隔膜变形的函数而变化的电阻。 优选由氮化硅制成的隔膜紧固到电阻计。 仪表位于密封腔(V)内的隔膜下方。 不需要蚀刻基板以产生空腔:隔膜通过在例如由聚酰亚胺制成的牺牲层上沉积绝缘层而形成,并且可以覆盖硅基板​​中的集成测量电路。