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1. 发明专利

TW393814B 具氣體添加物之窄波帶準分子雷射有权
简体标题：具气体添加物之窄波带准分子激光
公开(公告)号：TW393814B
公开(公告)日：2000-06-11
申请号：TW087116811
申请日：1998-10-09
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：湯瑪斯.霍夫曼 , 石原敏彥 , 帕拉許P.達斯 , 亞歷山大I.厄爾秀夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要：本發明提供一種極窄帶脈衝準分子雷射，其可以能量劑量控制增強及再現性升高而產生速率於約500至2000 Hz範圍之脈衝。極小量由氧氣或重貴氣(氙或氡用於KrF雷射，或氪、氙或氡用於ArF雷射)組成此穩定型添加物添加至氣體混合物。試驗顯示藉由添加約30ppm氙至KrF雷射能量穩定性實質改進。試驗顯示對ArF雷射添加約6-10 ppm氙或40 ppm氪其性能改良。較佳具體例中，於KrF雷射藉由降低氟分壓至低於O.10%及經由增高輸出耦合器之反射率至大於25%可達到極窄帶寬。較佳具體例中，先前技術線窄化模組使用的先前技術融合矽氧束擴大稜鏡以氟化鈣稜鏡替代。
简体摘要：本发明提供一种极窄带脉冲准分子激光，其可以能量剂量控制增强及再现性升高而产生速率于约500至2000 Hz范围之脉冲。极小量由氧气或重贵气(氙或氡用于KrF激光，或氪、氙或氡用于ArF激光)组成此稳定型添加物添加至气体混合物。试验显示借由添加约30ppm氙至KrF激光能量稳定性实质改进。试验显示对ArF激光添加约6-10 ppm氙或40 ppm氪其性能改良。较佳具体例中，于KrF激光借由降低氟分压至低于O.10%及经由增高输出耦合器之反射率至大于25%可达到极窄带宽。较佳具体例中，先前技术线窄化模块使用的先前技术融合硅氧束扩大棱镜以氟化钙棱镜替代。

2. 发明专利

TW382842B 窄帶準分子雷射有权
简体标题：窄带准分子激光
公开(公告)号：TW382842B
公开(公告)日：2000-02-21
申请号：TW087114785
申请日：1998-09-05
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：石原敏彥 , 湯瑪斯.霍夫曼 , 帕拉許P.達斯 , 亞歷山大I.厄爾秀夫
IPC分类号： H01S
CPC分类号： G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70558 , G03F7/70575 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/08009 , H01S3/0971 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要： A very narrow band pulse excimer laser capable of producing pulses at a rate in the range of about 500 to 2000 Hz with enhanced energy dose control and reproducibility. A prior art burst mode ""slug effect"" occuring at one gas circulation time after the beginning of a burst of pulses is eliminated by the addition of a minute quantity of oxygen. In a preferred embodiment very narrow bandwidth is achieved by reducing fluorine partial pressure to less than 0.10 percent and by increasing the reflectance of the output coupler to greater than 25 percent. In a preferred embodiment, prior art fused silica beam expansion prisms used in the prior art line narrowing module were replaced with calcium fluoride prisms.

3. 发明专利

TW412891B 可靠模組化生產品質窄帶高重複率氟雷射失效
简体标题：可靠模块化生产品质窄带高重复率氟激光
公开(公告)号：TW412891B
公开(公告)日：2000-11-21
申请号：TW088108176
申请日：1999-06-11
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：湯瑪斯.霍夫曼 , 珍–馬可.哈伯 , 帕拉許P.達斯 , 石原俊彥 , 湯瑪斯P.杜菲 , 約翰T.梅爾奇歐 , 赫夫A.比索斯爾
IPC分类号： H01S
摘要：本發明提供一種可靠模組化生產品質準分子雷射，其能產生在1000Hz至2000Hz範圍或更大之l0mJ雷射脈波。可取代模組包含一組雷射容室;含有三組模組之一組脈波電源系統;含有線窄化模組和輸出耦合器模組之一組光學共振器；一組波長計模組，一組電氣控制模組，一組冷卻水模組以及一組氣體控制模組。
重要改進被提供於這脈波電源單元中以產生更快的上升時間以及改進的脈波能量控制。這些改進包含具有供準確電壓調整之電壓放電電路之增加容量的高壓電源供應，一組改進的轉向模組，其從被高壓電源供應充電之電容器產生高壓脈波並且將該脈波電壓以具有單一四片段不鏽鋼桿組成之次要繞線的非常快速電壓變壓器放大23倍。一種奇特設計的壓縮頭可飽和感應器大幅地減低所需的變壓器油數量並且實際地消除過去具有傷害性之油漏可能性。
简体摘要：本发明提供一种可靠模块化生产品质准分子激光，其能产生在1000Hz至2000Hz范围或更大之l0mJ激光脉波。可取代模块包含一组激光容室;含有三组模块之一组脉波电源系统;含有线窄化模块和输出耦合器模块之一组光学共振器；一组波长计模块，一组电气控制模块，一组冷却水模块以及一组气体控制模块。重要改进被提供于这脉波电源单元中以产生更快的上升时间以及改进的脉波能量控制。这些改进包含具有供准确电压调整之电压放电电路之增加容量的高压电源供应，一组改进的转向模块，其从被高压电源供应充电之电容器产生高压脉波并且将该脉波电压以具有单一四片段不锈钢杆组成之次要绕线的非常快速电压变压器放大23倍。一种奇特设计的压缩头可饱和感应器大幅地减低所需的变压器油数量并且实际地消除过去具有伤害性之油漏可能性。

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