专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

KR1020180084144A 기판 처리 장치 및 표시 소자의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR1020180084144A
公开(公告)日：2018-07-24
申请号：KR1020187019872
申请日：2010-11-26
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 미야지아키라 , 기우치도루 , 나라게이
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , H01L27/32 , H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要： 기판처리장치는, 기판에대해서소정의처리를실시하는처리부와, 해당처리부에대해서이동함과아울러, 기판의피처리면(被處理面)을형성시키면서기판을유지하는기판유지부를구비한다.

2. 发明授权

KR101816343B1 카세트 장치 有权
标题翻译：盒式设备
公开(公告)号：KR101816343B1
公开(公告)日：2018-02-21
申请号：KR1020147028039
申请日：2012-12-17
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 하마다도모히데 , 스즈키도모나리
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/673 , B65H23/04
CPC分类号： H01L21/6776 , B65H18/103 , B65H23/185 , B65H23/198 , B65H2220/02 , B65H2513/102 , B65H2513/11 , B65H2801/61 , H01L21/67706 , B65H2220/01
摘要： 카세트장치는, 기판의공급및 회수중 일방을행하는제1 유닛부와, 상기기판의공급및 회수중 타방을행하는제2 유닛부를가지며, 상기제1 유닛부및 상기제2 유닛부는, 서로접근또는이간가능하다.
摘要翻译：盒装置具有执行基板的供给和回收中的一个的第一单元部分和执行基板的供给和回收中的另一个的第二单元部分，并且第一单元部分和第二单元部分被布置为彼此靠近间隔是可能的。

3. 发明公开

KR20180010218A 기재 및 접착제층을 갖는 리플로우 오븐 라이너 및 리플로우 오븐의 표면의 처리 방법 审中-公开
标题翻译：处理回流炉衬垫和回流炉表面的基板和粘合剂层的过程
公开(公告)号：KR20180010218A
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：KR20177036390
申请日：2016-05-13
IPC分类号： H01L21/67 , B23K1/008 , B23K3/04 , F27B9/24 , F27B9/30 , F27D1/00 , F27D1/16 , F27D7/04 , F27D9/00 , H01L21/677
CPC分类号： B08B7/0014 , B08B9/027 , B23K1/008 , B23K3/04 , B23K3/08 , F27B9/24 , F27B9/3077 , F27D1/0003 , F27D1/1684 , F27D7/04 , F27D9/00 , F27D2009/0072 , H01L21/67109 , H01L21/67173 , H01L21/6776
摘要： 표면을갖는리플로우오븐에서오염물제어를위한라이너(92)를개시하며, 이라이너는, 면적을획정하는길이와폭을갖고있는기재(94)를포함한다. 그기재(94)는제1 및제2 측면에의해획정되는두께를갖는다. 접착제가기재(94)의제1 측면에배치된다. 기재(94)는리플로우오븐의표면에제거가능하게접착되고, 라이너(92)는솔더리플로우오염물이그 상에축적되거나솔더플럭스증기및/또는연기를반발하도록구성되고또한임의의축적된오염물과함께표면으로부터제거되도록구성된다. 리플로우오븐의표면을처리하는방법또한개시한다.
摘要翻译：一种用于在具有表面的回流炉中控制污染物的衬里（92），其中衬里包括具有限定区域的长度和宽度的衬底（94）。基材94具有由第一和第二方面限定的厚度。粘合剂布置在基材94的第一侧的一侧上。基板94可移除地粘附到回流炉的表面上，衬套92是在其上的焊料回流污染物积累或经配置以抵制所述焊剂蒸汽和/或烟另外任何积聚的污物并从表面上移除。还公开了一种处理回流炉表面的方法。

4. 发明公开

KR1020170135982A 기판 이송 디바이스 및 기판들을 이동시키는 방법 审中-实审
标题翻译：一种移动基板传送装置和基板的方法
公开(公告)号：KR1020170135982A
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020177034134
申请日：2012-09-10
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 린덴베르크,랄프
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , C23C14/50 , C23C14/56
CPC分类号： H01L21/67748 , B65G13/00 , B65G47/52 , B65G49/063 , B65G49/067 , B65G2201/02 , C23C14/50 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/677 , H01L21/67751 , H01L21/6776
摘要： 운송방향을따르는기판이송을위한, 그리고상기운송방향을따라연장되는, 제 1 운송경로와제 2 운송경로사이의변경을위한이송디바이스가제공된다. 제 1 운송경로는, 운송방향에대해수직인스위치방향으로제 2 운송경로에대하여변위된다(displaced). 이송디바이스는, 챔버에서기판또는기판캐리어를지지하기위한제 1 트랙을정의하는제 1 기판지지어셈블리를포함한다. 이송디바이스는, 챔버에서기판또는기판캐리어를지지하기위한제 2 트랙을정의하는제 2 기판지지어셈블리를더 포함한다. 제 1 기판지지어셈블리및 제 2 기판지지어셈블리는, 적어도스위치방향으로서로에대하여이동가능하다.
摘要翻译：提供了用于沿着传送方向和沿着传送方向在用于基板传送的第一传送路径和第二传送路径之间传送的传送装置。第一传送路径相对于第二传送路径在垂直于传送方向的切换方向上移位。该传送装置包括第一基板支撑组件，该第一基板支撑组件限定用于支撑腔室中的基板或基板载体的第一轨道。运输装置还包括第二基板支撑组件，该第二基板支撑组件限定用于在腔室中支撑基板或基板载体的第二轨道。第一基板支撑组件和第二基板支撑组件能够至少在切换方向上相对于彼此移动。

5. 发明公开

KR1020170051447A 플래시 램프를 이용한 어닐링 방법 审中-实审
标题翻译：使用闪光灯的退火方法
公开(公告)号：KR1020170051447A
公开(公告)日：2017-05-11
申请号：KR1020177006735
申请日：2015-08-20
申请人： 쌩-고벵 글래스 프랑스
发明人： 카노바로렌조 , 미뭉에마뉘엘 , 뒤보스브리스
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/268 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L31/18 , C03C17/00
CPC分类号： C03C17/366 , C03C17/06 , C03C17/22 , C03C23/0005 , C03C2217/24 , C03C2217/254 , C03C2217/256 , C03C2218/32 , C23C14/5806 , H01L21/02565 , H01L21/02667 , H01L21/268 , H01L21/67115 , H01L21/6776 , H01L31/1884 , Y02E10/50
摘要： 본발명은코팅을갖는기판의표면을어닐링하기위한방법으로서, 어닐링될코팅(2)을갖는기판(1)을상기코팅(2)이있는기판(1) 면이플래시램프(4)를향하게하여플래시램프(4) 아래로지나게하는단계, 및플래시램프와어닐링될코팅사이에위치하고기판의진행방향에대해수직인세로축을갖는슬릿을포함하는마스크(3)를통하여플래시램프(4)에의해방출된고출력펄스광으로어닐링될코팅을조사하고, 플래시램프의주파수및 기판의진행속도를조정하여, 어닐링될코팅의각각의지점이적어도하나의광 펄스를받게하는단계를포함하고, 마스크의하부면과어닐링될코팅의표면사이의거리는 1 mm 이하이며, 슬릿의형상과크기는, 마스크가없을경우어닐링될코팅에도달했을광 세기가이하 "공칭광 세기"라고하는임계광 세기보다낮은모든영역에서마스크가어닐링될코팅을엄폐하도록하는것을특징으로하는방법에관한것이다.
摘要翻译：本发明提供了一种用于退火具有涂层，其中，所述衬底（1）具有涂层的基板的表面（2）是退火的涂层（2）的基板（1）侧朝向闪光灯（4）闪光灯（4），包括：传下来，闪光灯和位于之间通过掩模（3），包括具有用于在基板的移动由所述闪光灯的方向上的竖直的纵向轴线的狭缝被退火的涂层的放电（4）通过照射涂层进行退火作为脉冲光，并调整频率的行进速度和所述闪光灯的基板doengo输出，其中，所述涂层中的每个点进行退火的工序的下表面接收所述至少一个光脉冲，并且所述掩模和的距离是被退火，是在涂层到达狭缝的形状和大小没有掩模的被退火不是“标称光强度”的光强度的涂层的表面之间1mm或更小，在低比光强度每个区域的阈值掩码，覆盖待退火的涂层本发明涉及其特征在于，一个过程。

6. 实用新型

KR2020170000465U 진공 프로세싱 챔버에서 기판을 지지하기 위한 캐리어 审中-实审
标题翻译：用于在真空加工室中支撑基底的载体和方法
公开(公告)号：KR2020170000465U
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：KR2020167000065
申请日：2014-05-30
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 린덴버그,랄프 , 클라인,볼프강 , 라우,지몬 , 베르거,토마스
IPC分类号： C23C14/50 , C23C16/458 , C23C14/56 , C23C16/54 , H01J37/32 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/562 , C23C16/458 , C23C16/545 , H01J37/32715 , H01J37/32752 , H01L21/67173 , H01L21/67712 , H01L21/67748 , H01L21/6776 , H01L21/68721
摘要： 선형운송경로를갖는진공프로세싱챔버에서기판을지지하기위한캐리어(100)가제공된다. 캐리어(100)는, 선형운송경로(133)를따른운송을위해구성된캐리어본체(110), 및캐리어본체(110)에제공되고기판(101)을지지하도록구성된적어도하나의기판지지어레인지먼트(120)를포함하며, 기판지지어레인지먼트(120)는, 적어도하나의굽힘축(130)을기판(101)에대해정의하도록구성되고, 그리고적어도하나의굽힘축(130)은본질적으로수직배향을갖는다.
摘要翻译：提供了一种用于在具有线性传送路径的真空处理室中支撑衬底的载体（100）。载体（100）包括构造成沿着线性传送路径（133）传送的载体主体（110）和设置在载体主体（110）处并构造成用于支撑基板（101）的至少一个基板支撑装置（120）），其中所述基板支撑装置（120）被配置为限定用于所述基板（101）的至少一个弯曲轴线（130），其中所述至少一个弯曲轴线（130）具有基本垂直的取向。

7. 发明公开

KR1020160144330A 실리콘 표면 조직화 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：用于刻蚀硅表面的方法和装置
公开(公告)号：KR1020160144330A
公开(公告)日：2016-12-16
申请号：KR1020160071315
申请日：2016-06-08
申请人： 마이어 부르거 (저머니) 아게
发明人： 울리히마티아스
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/02 , H01L21/67 , H01J37/32 , H05H1/46
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J37/32192 , H01J37/3244 , H01L21/67069 , H01L21/6776 , H01L31/02363 , H01L31/068 , Y02E10/547 , H01J37/321 , H01L21/02315 , H01L21/0234 , H01L21/02367 , H01L2924/01009 , H05H1/46
摘要： 본발명은, 불소가스를이용하여기판표면을에칭하는것을통해적어도하나의결정실리콘기판의적어도하나의기판표면을조직화하기위한방법에관한것이며, 실리콘기판의에칭공정은플라스마에칭챔버내에서생성되는플라스마내에서실행된다. 또한, 본발명은, 불소원과연결된가스공급유닛과적어도하나의플라스마원을구비한플라스마에칭챔버를포함하여적어도하나의결정실리콘기판의적어도하나의기판표면을조직화하기위한장치에도관한것이다. 그러므로본 발명의과제는, 재료및 환경을보호하면서실리콘표면의고품질의조직화를가능하게하는실리콘표면조직화방법및 장치를제안하는것에있다. 상기과제는, 한편으로플라스마에칭챔버로불소가스와더불어적어도기상황산화물이공급되는방법을통해해결된다. 또한, 상기과제는, 가스공급유닛이적어도하나의황 산화물원과추가로연결되는장치를통해서도해결된다.
摘要翻译：用于纹理化至少一个晶体硅衬底的至少一个衬底表面的方法包括在等离子体蚀刻室中产生的等离子体中用氟气蚀刻衬底表面。用于纹理化至少一个晶体硅衬底的至少一个衬底表面的器件包括等离子体蚀刻室，与氟源耦合的气体入口装置和至少一个等离子体源。除了氟气之外，通过向等离子体蚀刻室中提供至少一种气态硫氧化物，在该方法中以物质和环境友好的方式实现硅表面的高质量纹理化，并且在该装置中，通过将气体入口装置与至少一种硫氧化物源。

8. 发明公开

KR1020160118251A 캐리어에 의해 지지되는 기판 상에 하나 또는 그 초과의 층들을 증착하기 위한 시스템 및 그러한 시스템을 사용하는 방법 审中-实审
标题翻译：具有蒸发源的有机材料蒸发源的有机材料的蒸发源与有机材料的蒸发源和用于有机材料的蒸发源的方法有关的沉积物
公开(公告)号：KR1020160118251A
公开(公告)日：2016-10-11
申请号：KR1020167020830
申请日：2014-02-04
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 뱅거트,슈테판 , 슈외클러,우베 , 디에구에츠-챔포,요제마누엘 , 하아스,디에터
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/04 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/56 , B05D1/60 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/243 , C23C14/246 , C23C14/505 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C14/566 , C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L21/67196 , H01L21/67271 , H01L21/67712 , H01L21/67718 , H01L21/67727 , H01L21/67742 , H01L21/67748 , H01L21/6776 , H01L51/001 , H01L51/0011 , C23C14/50
摘要： 하나또는그 초과의층들, 특히층들에유기재료들을포함하는층들을증착하기위한시스템이설명된다. 시스템은, 프로세싱될기판을로딩하기위한로드락 챔버, 기판을운송하기위한이송챔버, 이송챔버와로드락 챔버사이에제공된진공스윙모듈, 적어도하나의증착장치― 적어도하나의증착장치는, 적어도하나의증착챔버의진공챔버에서재료를증착하기위한것이고, 적어도하나의증착장치는이송챔버에연결됨―, 프로세싱된기판을언로딩하기위한추가적인로드락 챔버, 기판을운송하기위한추가적인이송챔버, 추가적인이송챔버와추가적인로드락 챔버사이에제공된추가적인진공스윙모듈, 및추가적인진공스윙모듈로부터진공스윙모듈로의캐리어리턴트랙을포함하며, 여기에서, 캐리어리턴트랙은, 진공조건들하에서, 그리고/또는제어되는비활성분위기하에서, 캐리어를운송하도록구성된다.
摘要翻译：描述了一种用于在其中沉积一层或多层，特别是其中包括有机材料的层的系统。该系统包括用于加载要处理的基板的负载锁定室，用于输送基板的传送室，设置在负载锁定室和传送室之间的真空摆动模块，至少一个用于在真空室中沉积材料的沉积设备的至少一个沉积室，其中所述至少一个沉积设备连接到所述传送室; 用于卸载已经被处理的基底的另外的负载锁定室，用于输送基板的另外的传送室，设置在另外的负载锁定室和另外的传送室之间的另外的真空摆动模块，以及来自另外的真空的载体返回轨道摆动模块到真空摆动模块，其中载体返回轨道构造成在真空条件下和/或在受控的惰性气氛下运输载体。

9. 发明公开

KR1020160099479A 웨이퍼 처리 시스템 审中-实审
标题翻译：波浪加工系统
公开(公告)号：KR1020160099479A
公开(公告)日：2016-08-22
申请号：KR1020160011094
申请日：2016-01-29
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 세키야가즈마
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/66
CPC分类号： H01L22/10 , H01L21/67092 , H01L21/67115 , H01L21/67294 , H01L21/67346 , H01L21/67736 , H01L21/6776
摘要： 불필요한대기시간을삭감하는것이가능한웨이퍼처리시스템을제공하는것이다. 웨이퍼를처리하는웨이퍼처리시스템으로서, 웨이퍼를수용하는트레이와, 상기트레이에수용된웨이퍼를반송하는컨베이어와, 상기컨베이어를따라서로이격하여설치된, 상기컨베이어로부터상기트레이를반출하며, 반출된상기트레이를상기컨베이어에반입하는제1 및제2 트레이유지장치와, 상기제1 및제2 트레이유지장치에대응하여설치되고, 각각상기컨베이어에의해반송되는웨이퍼를처리하는처리수단과, 상기제1 또는제2 트레이유지장치에유지된상기트레이로부터웨이퍼를반출또는반입하는반출입수단을갖는제1 및제2 장치를구비하며, 웨이퍼를 1장마다처리하는것을특징으로한다.
摘要翻译：本发明的目的是提供一种能够减少不必要的等待时间的晶片处理系统。用于处理晶片的晶片处理系统包括：接收晶片的托盘; 输送机将接收在托盘中的晶片返回; 第一和第二托盘维持装置沿输送机安装以彼此分离，从输送机排出托盘，并在输送机中接收排出的托盘; 以及具有处理装置的第一和第二装置，其对应于第一和第二托盘维持装置安装并处理返回到输送机的晶片，以及接收和排出装置，其将第一和第二托盘维持装置。晶片处理系统逐个处理晶片。

10. 发明授权

KR101631930B1 이온 빔 조사 장치 有权
标题翻译：离子束辐照器件
公开(公告)号：KR101631930B1
公开(公告)日：2016-06-20
申请号：KR1020147024309
申请日：2013-02-13
申请人： 닛신 이온기기 가부시기가이샤 , 가부시키가이샤 알박
发明人： 야마모토,요시아키 , 김영두 , 오비세,요시노리 , 오카야마,사토히로
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/20 , H01J37/30 , H01L21/67 , H01L21/677
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/30 , H01J37/317 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01L21/67173 , H01L21/67213 , H01L21/67259 , H01L21/67712 , H01L21/6776
摘要： 이온빔 조사장치(10)는기판(S)을보유하는반송트레이(T)가수용되는진공조(14)와, 진공조(14) 내에서반송트레이(T)가반송방향으로반송되는반송부와, 진공조(14) 내의소정의조사부위에이온빔을조사하는이온빔 조사부들(21L, 21U)과, 반송트레이(T)의위치를검출하는위치검출부들(23A 내지 23D)을구비한다. 위치검출부들(23A 내지 23D)은반송트레이(T)에있어서부위를나타내며반송방향으로배열된서로다른복수의지표들의각각을반송트레이(T)의반송을통하여소정의촬상위치에서촬상하며, 상기촬상된지표에근거하여촬상위치에대한반송트레이(T)의위치를검출한다.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式