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1. 发明公开

KR1020020082769A 하전입자선노광장치와 디바이스의 제조방법 및하전입자선응용장치 失效
标题翻译：充电颗粒光束对准器，器件的制造方法和充电粒子束应用器件
公开(公告)号：KR1020020082769A
公开(公告)日：2002-10-31
申请号：KR1020020021943
申请日：2002-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤 , 가부시키가이샤 어드밴티스트 , 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
发明人： 무라키마사토 , 소다야스나리 , 하시모토신이치
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： PURPOSE: To provide a high-precision multiple charged particle beam aligner without raising the performance of a demagnification electronic optical system. CONSTITUTION: There are provided a charged particle beam source ES which radiates a charged particle beam, an aperture array AA in which a plurality of openings are arrayed to divide the charged particle beam from the charged particle source ES into a plurality of charged particle beams, a lens array A in which a plurality of electron lenses are arrayed to form a plurality of intermediate images of the charged particle beam source ES on an almost identical plane by a plurality of charged particle beam from the aperture array AA, a blanker array BA which is on a plane where a plurality of intermediate images are formed ad comprises a plurality of blankers, and a demagnification electron optical system which projects a demagnified image of the charged particle beam source ES on a substrate.
摘要翻译：目的：提供高精度多重带电粒子束对准器，而不会提高缩小电子光学系统的性能。构成：提供了一个辐射带电粒子束的带电粒子束源ES，其中排列多个开口以将带电粒子束从带电粒子源ES分成多个带电粒子束的孔径阵列AA，透镜阵列A，其中排列多个电子透镜，以通过来自孔径阵列AA的多个带电粒子束在几乎相同的平面上形成带电粒子束源ES的多个中间图像;消隐器阵列BA，在形成有多个中间图像的平面上，包括多个遮蔽物，以及将带电粒子束源ES的缩小图像投影在基板上的缩小电子光学系统。

2. 发明授权

KR100495651B1 하전입자선노광장치와 디바이스의 제조방법 및하전입자선응용장치 失效
标题翻译：充电颗粒光束曝光装置，装置制造方法和充电颗粒光束应用装置
公开(公告)号：KR100495651B1
公开(公告)日：2005-06-16
申请号：KR1020020021943
申请日：2002-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤 , 가부시키가이샤 어드밴티스트 , 가부시끼가이샤 히다치 세이사꾸쇼
发明人： 무라키마사토 , 소다야스나리 , 하시모토신이치
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： 고정밀도의 멀티하전입자선노광장치는 축소전자광학계의 성능을 증가시키지 않고 제공된다. 멀티하전입자선노광장치는 하전입자선을 방사하는 하전입자원(ES)과, 하전입자원(ES)으로부터 하전입자선을 복수의 하전입자선으로 분할하는 복수의 개구를 배치함으로써 얻은 애퍼추어어레이(AA)와, 애퍼추어어레이(AA)로부터 복수의 하전입자선에 의해 실질적으로 동일평면위에 하전입자원(ES)의 복수의 중간상을 형성하는 복수의 전자렌즈를 배치함으로써 얻은 렌즈어레이(LA)와, 복수의 중간상이 형성될 평면위에 위치하고 복수의 블랭커를 가진 블랭커어레이(BA)와, 하전입자원(ES)의 상을 기판위에 축소투영하는 축소전자광학계와를 포함한다.

3. 发明授权

KR101790829B1 묘화 장치 및 물품의 제조 방법 有权
标题翻译：绘图设备和制造物品的方法
公开(公告)号：KR101790829B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020140047828
申请日：2014-04-22
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라키마사토 , 히라타요시히로
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/3026 , H01J2237/31766
摘要： 본발명은, 하전입자선으로기판에묘화를행하는묘화장치이며, 기판을보유지지해서이동되도록구성된스테이지와, 제1 축을따라배열된복수의하전입자선을조사하도록구성된하전입자광학계와, 복수의하전입자선으로기판상의대상부분의다중조사를행하도록묘화를제어하도록구성된컨트롤러를포함하고, 상기컨트롤러는, 기판상에제1 축을따라서형성된복수의영역에대해서, 제1 축을따라서한 방향으로스테이지가이동되고, 복수의영역의각각의묘화에대해서, 제1 축을따른하전입자선의변위에대한하전입자선의편향이행해지도록, 묘화를제어하도록구성되는, 묘화장치를제공한다.
摘要翻译：本发明，并且用于成像在带电粒子束在基板上的摄像装置，和配置成由保持上述衬底载台时，第一移动并且被配置为照射所述阵列中的多个带电粒子束的带电粒子光学系统沿轴线，多个一个控制器被配置为控制成像带电粒子束在基板上实现了靶部的多照射，并且其中所述控制器相对于沿着所述基板上的轴形成的第一多个区域，并因此第一轴的方向上阶段并且控制绘图，使得带电粒子线相对于带电粒子线沿着第一轴的位移的偏转对于多个区域中的每一个进行。

4. 发明授权

KR101721070B1 묘화 장치 및 물품의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101721070B1
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：KR1020140074142
申请日：2014-06-18
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라키마사토 , 모리타도모유키
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/3007 , H01J37/3023 , H01J2237/31766
摘要： 하전입자빔으로기판에묘화를행하는묘화장치는, 상기기판상에서의상기하전입자빔의복수의위치각각에대응하는목표위치로부터의상기복수의위치각각의어긋남의정보와, 상기복수의위치각각에대응하는상기목표위치에서의상기하전입자빔의목표조사량에기초하여, 상기기판상에서의상기하전입자빔의복수의위치각각에서의상기하전입자빔의조사량을제어하도록구성된컨트롤러를포함한다.

5. 发明授权

KR101833094B1 블랭킹 장치, 묘화 장치 및 물품의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101833094B1
公开(公告)日：2018-02-27
申请号：KR1020140074110
申请日：2014-06-18
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 모리타도모유키 , 무라키마사토
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435
摘要： 본발명은, 물체상의목표위치에대하여복수의빔을각각블랭킹하도록구성되는복수의블랭커와, 상기복수의블랭커를구동하도록구성되는구동디바이스를포함하는블랭킹장치이며, 상기구동디바이스는, 상기복수의빔의빔의조합과목표선량사이의관계를변경하도록구성되는변경디바이스를포함하는블랭킹장치를제공한다.

6. 发明公开

KR1020130142923A 묘화 장치, 데이터 처리 방법 및 물품의 제조 방법 无效
标题翻译：绘图装置，数据处理方法和制造方法
公开(公告)号：KR1020130142923A
公开(公告)日：2013-12-30
申请号：KR1020130066569
申请日：2013-06-11
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라키마사토 , 오이시사토루 , 기네부치히로미
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , G06T11/00
CPC分类号： G11B23/38 , G03F7/2057 , G03F7/70291 , G03F7/70475 , G03F7/70508 , H01L24/00 , H01L2924/12042 , H01L21/0274 , G06T11/001 , H01J37/305 , H01L2924/00
摘要： A drawing apparatus performs a drawing process on a first and a second part region. The first and the second part region have an overlap region. A first pattern data for the first part region is changed into a first quantized pattern data according to a first conversion rule. A second pattern data for the second part region is changed into a second quantized pattern data according to a second conversion rule different from the first second conversion rule. Based on the first conversion rule, the drawing of the first part region is controlled. Based on the second conversion rule, the drawing of the second part region is controlled. [Reference numerals] (AA) One time exposure;(BB) A (double exposure);(CC) B (double exposure)
摘要翻译：绘图装置对第一和第二部分区域执行绘制处理。第一和第二部分区域具有重叠区域。第一部分区域的第一图案数据根据第一转换规则被改变为第一量化图案数据。根据与第一第二转换规则不同的第二转换规则，第二部分区域的第二图案数据被改变为第二量化图案数据。基于第一转换规则，控制第一部分区域的图形。基于第二转换规则，控制第二部分区域的绘图。（附图标记）（AA）一次曝光;（BB）A（双曝光）;（CC）B（双曝光）

7. 发明公开

KR1020130088772A 묘화 방법 및 물품의 제조 방법 有权
标题翻译：制图方法及制作方法
公开(公告)号：KR1020130088772A
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：KR1020130007497
申请日：2013-01-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 츠지타고우이치로오 , 무라키마사토
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/20 , G03F7/203 , H01L21/268 , H01L21/0274 , H01J37/317 , H01L29/66477
摘要： PURPOSE: A drawing method and a method for manufacturing article are provided to be applied to the manufacture of various articles including micro devices and devices of fine structure. CONSTITUTION: First line type patterns are self-aligned with a predetermined pitch (P) in a second direction. Cut patterns are drawn on the first line type patterns. The first line type patterns are formed on second line type patterns which are self-aligned with a predetermined pitch in a second direction in a first direction. The first line type patterns form a gate region. The second line type patterns form an isolation region and an active region. [Reference numerals] (AA) Active region; (BB) Isolation region; (CC) Gate region; (DD) Cut pattern; (EE) Contact
摘要翻译：目的：提供一种用于制造物品的制造方法和制造方法，用于包括微型装置和精细结构的装置的各种制品的制造。构成：第一线型图案在第二方向上以预定间距（P）自对准。剪切图案绘制在第一行类型图案上。第一线型图案形成在第二线型图案上，其在第一方向上沿第二方向以预定间距自对准。第一线型图案形成栅极区域。第二线型图案形成隔离区域和有源区域。（附图标记）（AA）有效区域; （BB）隔离区; （CC）门区; （DD）切割图案; （EE）联系人

8. 发明授权

KR100375015B1 하전입자선노광장치 및 이 장치를 사용한 디바이스제조방법 失效
标题翻译： 하전입자선노광장치및이장치를사용한디바이스제조방
公开(公告)号：KR100375015B1
公开(公告)日：2003-03-06
申请号：KR1020000014762
申请日：2000-03-23
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 유이요시키요 , 무라키마사토
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3026 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3174
摘要： 전자선을 사용해서 웨이퍼상에 패턴을 묘화하기 위한 노광장치는 하전입자선으로 웨이퍼를 주사하면서 웨이퍼상에 패턴을 묘화하는 복수의 구동요소, 복수의 구동요소를 구동하기 위한 복수의 시계열구동데이터열을 기억하는 복수의 구동데이터메모리, 각 구동데이터메모리는 동작지령에 따라서 제 1데이터로부터 대응하는 구동요소까지 시계열구동데이터열을 형성하는 데이터를 순차적으로 공급하며, 그리고 동작지령과 비동작지령을 시계열로 정렬해서 얻어진 복수의 동작지령데이터열을 기억하는 클록패턴메모리를 구비하고, 각 동작지령데이터열을 구성하는 상기 동작지령 및 비동작지령은 클록패턴메모리에 공급된 묘화동기클록에 따라서 제 1동작지령데이터로부터 대응하는 구동데이터메모리까지 순차적으로 공급된다.
摘要翻译：一种使用电子束在晶片上描绘图案的曝光装置，包括：多个驱动元件，用于在利用带电粒子束扫描晶片的同时在晶片上描绘图案;多个驱动数据存储器，用于存储多个时间驱动数据串用于驱动多个驱动元件，每个驱动数据存储器根据操作命令顺序地将形成时间序列驱动数据串的数据从第一数据提供给相应的驱动元件;以及时钟图案存储器，用于存储通过按时间序列对齐操作命令和非操作命令而获得的多个操作命令数据串，构成每个操作命令数据串的操作命令和非操作命令从第一操作命令数据顺序地提供给相应的根据提供给时钟图形存储器的绘图同步时钟驱动数据存储器。

9. 发明授权

KR100225335B1 전자빔노광장치와 그 방법 및 디바이스제조방법 失效
标题翻译：电子束曝光装置和方法以及装置制造方法
公开(公告)号：KR100225335B1
公开(公告)日：1999-10-15
申请号：KR1019970007085
申请日：1997-03-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라키마사토 , 고토스스무
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/153 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/1534
摘要： 본 발명은 공간전하효과 및 축소전자광학계의 수차의 영향을 최소화하여 일시에 노광시킬 수 있는 노광영역을 확대함으로써, 쓰루풋을 높이는 전자빔노광장치 및 노광방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 따라서, 전자빔을 방사하는 광원과 목표노광면에 해당 광원으로부터 방사된 전자빔에 의한 상을 축소투영하는 축소전자광학계를 지닌 전자빔노광장치에 있어서, 상기 광원과 상기 축소전자광학계 사이에 설치되어, 상기 광원의 중간상을 복수개 형성하고, 해당 중간상이 상기 축소전자광학계에 의해서 목표노광면에 축소투영될때에 발생되는 수차를 미리 보정하는 보정광학계를 구비한 것을 특징으로 한다.

10. 发明公开

KR1019970067575A 전자빔노광장치와 그 방법 및 디바이스제조방법 失效
标题翻译：电子束曝光设备和方法，以及器件制造方法
公开(公告)号：KR1019970067575A
公开(公告)日：1997-10-13
申请号：KR1019970007085
申请日：1997-03-04
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 무라키마사토 , 고토스스무
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 공간전하효과 및 축소전자광학계의 수차의 영향을 최소화하여 일시에 노광시킬 수 있는 노광영역을 확대함으로써, 쓰루풋을 높이는 전자빔노광장치 및 노광방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 따라서, 전자빔을 방사하는 광원과 목표노광면에 해당 광원으로부터 방사된 전자빔에 의한 상을 축소투영하는 축소전자광학계를 지닌 전자빔노광장치에 있어서, 상기 광원과 상기 축소전자광학계 사이에 설치되어, 상기 광원의 중간상을 복수개 형성하고, 해당 중간상이 상기 축소전자광학계에 의해서 목표노광면에 축소투영될때에 발생되는 수차를 미리 보정하는 보정광학계를 구비하는 것을 특징으로 한다.

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