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1. 发明授权

KR101868218B1 면 위치 검출 장치, 노광 장치 및 노광 방법 有权
公开(公告)号：KR101868218B1
公开(公告)日：2018-06-15
申请号：KR1020157033911
申请日：2006-06-28
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히다카야스히로 , 나가야마타다시
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F9/7026 , G03F9/7034 , G03F9/7065 , G03F9/7088 , Y10T29/49124
摘要： 반사면을통과한광속에발생하는편광성분에의한상대적인위치차이등의영향을실질적으로받는일 없이, 피검면의면 위치를고정밀도로검출할수 있는면 위치검출장치. 투사계는제1 반사면(7b, 7c)을갖는투사측프리즘부재(7)를구비하고있다. 수광계는투사측프리즘부재에대응하도록배치된제2 반사면(8b, 8c)을갖는수광측프리즘부재(8)를구비하고있다. 제1 반사면및 제2 반사면을통과한광속의편광성분에의한상대적인위치차이를보상하기위한위치차이보상부재를추가로구비하고있다.

2. 发明授权

KR101790830B1 간섭계, 리소그래피 장치, 및 물품 제조 방법 有权
标题翻译：干涉仪，光刻设备和物品制造方法
公开(公告)号：KR101790830B1
公开(公告)日：2017-10-26
申请号：KR1020140088285
申请日：2014-07-14
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 야마구치와타루 , 마츠모토다카히로 , 이나히데키
IPC分类号： G03F9/00 , G01B9/02 , G01B11/06 , H01L21/66
CPC分类号： G03F9/7034 , G01B9/0209 , G01B11/0675 , G03F7/7085 , G03F9/7049
摘要： 본발명의간섭계는, 광원으로부터의광을분할하고, 참조광과측정광을합성하여, 간섭광을생성하도록구성된광학계와; 상기광학계에의해서생성된상기간섭광을검출하도록구성된검출기와; 상기검출기가상기광원으로부터의광을검출하기전에상기광원으로부터의광에대해공간가간섭을부여하도록구성된광학부재를포함한다. 상기광학부재는, 상기광학부재상으로입사되는광의빔의단면과, 상기광학계에의해서분할되기전의상기광원으로부터의광, 상기참조광, 상기측정광및 상기간섭광의광로를포함하는평면의교차선의방향으로서제공되는제2 방향으로, 상기평면에수직한제1 방향보다큰 공간가간섭을부여한다.
摘要翻译：本发明的干涉仪，由分割光从一光源，与参照光并测定光，被配置成产生干涉光的光学系统相结合; 检测器，被配置为检测由光学系统产生的干涉光; 以及光学构件，其构造成在检测器检测到来自光源的光之前对来自光源的光施加空间虚拟干涉。所述光学部件包括所述光束的横截面的平面，其是在光学部件上入射，包括光，参考光和测量光与来自光源的干涉光路之前，通过光学系统分割的交叉线方向在第二方向上，该第二方向被设置为垂直于该平面的第一方向。

3. 发明授权

KR101494725B1 리소그래피 장치용 레벨 센서 배열체, 리소그래피 장치, 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：平面设备水平传感器布置，平面设备和设备制造方法
公开(公告)号：KR101494725B1
公开(公告)日：2015-02-25
申请号：KR1020120095814
申请日：2012-08-30
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 마티센,시몬기스베르트요세푸스 , 덴보에프,아리에예프레이
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G01B9/02007 , G01B9/02015 , G01B11/0675 , G03F9/7034
摘要： 리소그래피 장치에서 기판 상의 적어도 하나의 실질적 반사 층 표면의 위치를 측정하는 방법, 및 그와 연관된 레벨 센서와 리소그래피 장치가 개시된다. 상기 방법은 광대역 광 소스를 이용하는 적어도 2 개의 간섭 측정을 수행하는 단계를 포함한다. 각각의 측정 사이에, 광대역 소스 빔의 구성 파장들 및/또는 상기 구성 파장들에 걸친 세기 레벨들이 변화되어, 변화되는 것이 세기 레벨들뿐일 경우 상기 세기 변화는 빔의 구성 파장들 중 일부에 대해 상이하도록 이루어진다. 대안적으로, 상이한 측정 데이터를 얻기 위해 단일 측정과 후속하는 측정의 처리를 통해 측정 데이터가 얻어지며, 이에 의해 구성 파장들 및/또는 상기 구성 파장들에 걸친 세기 레벨들이 위치를 얻는 데에도 적용될 수 있다.

4. 发明授权

KR101470678B1 이동체 구동 방법 및 시스템 有权
标题翻译：用于驱动可移动体的方法和系统
公开(公告)号：KR101470678B1
公开(公告)日：2014-12-08
申请号：KR1020107000863
申请日：2008-08-25
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치 , 가나야유호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70775 , G03F9/7011 , G03F9/7019 , G03F9/7026 , G03F9/7034
摘要： 제어장치는, 웨이퍼테이블의높이및 경사를계측하기위해, 웨이퍼테이블 (WTB) 의상면의 +X 단및 -X 단에설치된반사면 (39Y, 39Y) 위에위치한 2 개의 Z 헤드 (ZsR, ZsL) 를이용한다. 사용될 Z 헤드는, 웨이퍼테이블의 XY 위치에따라 ZsR 및 ZsL 로부터 ZsR' 및 ZsL (또는 ZsR 및 ZsL') 로전환된다. 헤드들의전환시에, 제어장치는새로사용될 Z 헤드의초기값을설정하기위해좌표연결법을적용한다. 따라서, 웨이퍼테이블의 XY 위치에따라사용될 Z 헤드가순차적으로전환됨에도불구하고, 전환전후에웨이퍼테이블의높이및 경사의계측결과들이저장되고, 웨이퍼테이블을고정밀도로구동하는것이가능하게된다.

5. 发明公开

KR1020140018336A 면 위치 검출 장치, 노광 장치 및 노광 방법 有权
公开(公告)号：KR1020140018336A
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：KR1020137030238
申请日：2006-06-28
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 히다카야스히로 , 나가야마타다시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/02
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F9/7026 , G03F9/7034 , G03F9/7065 , G03F9/7088 , Y10T29/49124
摘要： 반사면을 통과한 광속에 발생하는 편광 성분에 의한 상대적인 위치 차이 등의 영향을 실질적으로 받는 일 없이, 피검면의 면 위치를 고정밀도로 검출할 수 있는 면 위치 검출 장치. 투사계는 제1 반사면(7b, 7c)을 갖는 투사측 프리즘 부재(7)를 구비하고 있다. 수광계는 투사측 프리즘 부재에 대응하도록 배치된 제2 반사면(8b, 8c)을 갖는 수광측 프리즘 부재(8)를 구비하고 있다. 제1 반사면 및 제2 반사면을 통과한 광속의 편광 성분에 의한 상대적인 위치 차이를 보상하기 위한 위치 차이 보상 부재를 추가로 구비하고 있다.

6. 发明公开

KR1020140014509A 노광 장치의 높이 센서 및 이를 이용한 웨이퍼 고저 측량 방법 无效
标题翻译：曝光装置的水平传感器和使用该方法的水平方法
公开(公告)号：KR1020140014509A
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：KR1020120080626
申请日：2012-07-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 허진석 , 여정호
IPC分类号： G01B11/00 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/24 , G01B11/26 , G03F9/7034
摘要： A level sensor of an exposure apparatus is disclosed. The level sensor comprises: a light source irradiating the surface of a wafer with light; a projecting unit having a first slit which the light from the light source passes through and is single, not a periodic grid; and a detecting unit having a second slit which light reflected from the surface of the wafer passes through and is single, not a periodic grid; and a detector detecting the reflected light passing through the second slit of the detecting unit.
摘要翻译：公开了一种曝光装置的液位传感器。液位传感器包括：用光照射晶片表面的光源; 投影单元，具有来自光源的光通过并且是单一的不是周期性栅格的第一狭缝; 以及检测单元，其具有从晶片表面反射的光通过并且是单一的不是周期性栅格的第二狭缝; 以及检测器，检测通过检测单元的第二狭缝的反射光。

7. 发明公开

KR1020130111423A 노광 장치, 노광 장치의 제어 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：曝光装置，其控制方法和制造装置的方法
公开(公告)号：KR1020130111423A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：KR1020130034166
申请日：2013-03-29
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 사카모토노리토시
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/70608 , G03F7/70633 , G03F9/7034 , G03F9/7084 , H01L21/0274 , G03F7/20
摘要： PURPOSE: An exposure apparatus, a method for controlling the exposure apparatus, and a method for manufacturing a device are provided to improve the accuracy of exposure by correcting the shift of an exposure position due to the correction of the tilt angle of a table. CONSTITUTION: A table holds a substrate. The substrate is placed on an exposure position by using the table. An acquisition unit acquires the tilt angle of a resist surface and the distance from a mark to the resist surface. A control unit (91) calculates a correction value for collecting the shift of the exposure position. The control unit controls the position of a table according to the correction value. [Reference numerals] (AA,BB) Scanning direction
摘要翻译：目的：提供一种曝光装置，用于控制曝光装置的方法和装置的制造方法，以通过校正由于表的倾斜角度的校正而导致的曝光位置的偏移来提高曝光的准确性。构成：一张桌子装有一个底板。通过使用表将基板放置在曝光位置。获取单元获取抗蚀剂表面的倾斜角度和从标记到抗蚀剂表面的距离。控制单元（91）计算用于收集曝光位置的偏移的校正值。控制单元根据校正值来控制表的位置。（标号）（AA，BB）扫描方向

8. 发明授权

KR101306431B1 결상광학계, 노광장치, 및 디바이스의 제조방법 有权
标题翻译：成像光学系统，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101306431B1
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：KR1020090060440
申请日：2009-07-03
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 센토쿠코이치
IPC分类号： G01B9/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03B27/52 , G03F9/7034
摘要： 본 발명의 광학계는 원판의 패턴을 투영광학계를 개재해서 기판에 투영 노광하는 노광장치의 검출수단에 사용된다. 상기 검출수단은 상기 투영광학계의 광축방향에 있어서의 기판의 위치를 검출한다. 상기 광학계는 상기 기판의 계측영역 내에 물체의 상을 경사 입사에 의해 결상하는 제1결상광학계, 및 상기 물체의 상을 수광수단에 결상하는 제2결상광학계를 포함하고 있다. β가 상기 제1결상광학계의 배율의 절대치를 나타내고, α×L
2 가 상 거리를 나타내고, γ/β가 상기 제2결상광학계의 배율의 절대치를 나타내고, L2가 물체 거리를 나타내고, α 및 γ는 정의 실수일 때 이하의 관계
(α-1)×(γ-1) > 0
를 만족한다.

9. 发明授权

KR101244395B1 리소그래피 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101244395B1
公开(公告)日：2013-03-18
申请号：KR1020110022123
申请日：2011-03-11
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 반드렌트,빌리엄페터
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G01B11/0608 , G03F9/7034 , G03F9/7096
摘要： 측정 위치에 배치되는 기판의 높이 레벨을 측정하도록 구성되는 레벨 센서에 대해 개시된다. 레벨 센서는 기판 상의 다수의 측정 위치들 상에 다수의 측정 빔을 투영하기 위한 투영 유닛, 상기 기판 상의 반사 후에 상기 측정 빔들을 수용하기 위한 검출 유닛, 및 상기 검출 유닛에 의하여 수용되는 반사된 측정 빔들을 토대로 높이 레벨을 계산하기 위한 처리 유닛을 포함하며, 상기 투영 유닛 및 상기 검출 유닛은 상기 기판이 상기 측정 위치에 배치되는 경우 상기 기판의 옆에 배치된다.

10. 发明公开

KR1020110125591A 기판 테이블, 리소그래피 장치, 기판의 에지를 평탄화하는 방법, 및 디바이스 제조 방법 失效
标题翻译：基板，基板设备，平铺基板边缘的方法和器件制造方法
公开(公告)号：KR1020110125591A
公开(公告)日：2011-11-21
申请号：KR1020110043005
申请日：2011-05-06
申请人： 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이.
发明人： 라파레레이몬드빌헬무스루이 , 로제니에크야코부스요하네스 , 호벤마르틴
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70783 , G03F7/707 , H01L21/0274 , G03F9/7034
摘要： PURPOSE: A substrate table, a lithography apparatus, a method for flattening a substrate edge, and a device manufacturing method are provided to improve planarity of the substrate edge by sanctioning the power of variable in a second direction which is opposite direction with a first direction to the substrate edge. CONSTITUTION: A substrate support frame(100) is composed in order to add curve power in a first direction(120) to the edge of a substrate(W). The substrate is maintained in the substrate support frame by electrostatic force. A seal(112) disunites a space under the substrate from the space between a substrate table(WT) and the substrate edge. A substrate edge manipulator(200) comprises a member(210) which accomplishes physical contact with the upper side of the substrate in the edge of substrate. An actuator(250) is attached to the substrate support frame.
摘要翻译：目的：提供一种基板台，光刻设备，使基板边缘平坦化的方法以及器件制造方法，用于通过在与第一方向相反的第二方向上补偿可变的功率来改善基板边缘的平面度到基板边缘。构成：为了将第一方向（120）的曲线功率添加到基板（W）的边缘，构成基板支撑框架（100）。基板通过静电力保持在基板支撑框架中。密封件（112）从衬底台（WT）和衬底边缘之间的空间分离衬底下面的空间。基板边缘操纵器（200）包括在基板的边缘中实现与基板的上侧物理接触的部件（210）。致动器（250）附接到基板支撑框架。

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