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    • 2. 发明公开
    • 분광 측정 장치
    • 光谱特性测量装置
    • KR1020150047613A
    • 2015-05-04
    • KR1020157008187
    • 2013-10-02
    • 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠
    • 이시마루이치로
    • G01J3/453G01J3/06G01N21/27G01N21/35
    • G01J3/45G01J3/0208G01J3/0237G01J3/0256G01J3/0291G01J3/2803G01J3/4531G01J3/4532G01N2021/3595
    • 본발명의분광특성측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 간섭광의광강도분포를검출하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속의사이에주기성을부여하는주기성부여수단을구비한다.
    • 根据本发明的光谱特性测量装置包括:分割光学系统,用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置,用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统,共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置,用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。
    • 5. 发明公开
    • 분광 측정 장치
    • 光谱测量装置
    • KR1020150045523A
    • 2015-04-28
    • KR1020157008521
    • 2013-10-02
    • 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠
    • 이시마루이치로
    • A61B5/1455A61B5/00G01J3/06G01J3/453G01N21/27G01N21/35
    • G01J3/45G01J3/0208G01J3/0237G01J3/0256G01J3/0291G01J3/2803G01J3/4531G01J3/4532G01N2021/3595A61B5/1455A61B5/0075G01J3/06G01J3/453G01N21/27G01N21/35
    • 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.
    • 根据本发明的光谱特性测量装置包括:分割光学系统,用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置,用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统,共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置,用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。
    • 8. 发明公开
    • 간섭계 및 분광기 칩
    • 干涉仪和光谱仪芯片
    • KR20180006617A
    • 2018-01-18
    • KR20177032265
    • 2016-04-28
    • IMEC VZWSAMSUNG ELECTRONICS CO LTD
    • CLAES TOM
    • G01J3/453G01J3/02G02B6/293
    • G01J3/4531G01J3/0218G01J3/0259G02B6/29346G02B6/29349
    • 일양상에따른간섭계는다중모드도파로(120), 다중모드도파로(120)에광 신호를공급하기위해다중모드도파로(120)의제1 측면에광학적으로결합된입력도파로(110), 다중모드도파로(120)의제2 측면에광학적으로결합되고제1 도파로거울(150)에의해종결되는제1 도파로(130), 다중모드도파로(120)의제2 측면에광학적으로결합되고제2 도파로거울(160)에의해종결되는다른단부에서의제2 도파로(140), 또는다중모드도파로(120)의제2 측면에직접광학적으로결합된제2 도파로거울(160) 및다중모드도파로(120)내에부분적으로또는전체적으로통합되고, 제1 도파로거울(150) 및제2 도파로거울(160)로부터반사된광을두 개의반사파들사이의위상차이에의존하는전력으로수신하도록배치되는적어도하나이상의신호판독구조(170)를포함할수 있다.
    • 根据一个方面的干涉仪包括输入波导110,其光学耦合到多模波导120的第一侧以向多模波导120提供光信号; 光耦合到搅拌器2侧并且由第一波导镜150终止的第一波导130,光耦合到多模波导120的第二侧并且由第二波导镜160耦合的第二波导镜 直接光学耦合到多模波导120的第二侧的第二波导镜160和部分或全部集成在多路复用模式波导120中的第二波导镜160, 并且至少一个信号读取结构170被布置为以取决于两个反射波之间的相位差的功率接收从第一波导镜150和第二波导镜160反射的光。
    • 9. 发明授权
    • 분광 측정 장치
    • 光谱测量装置
    • KR101683408B1
    • 2016-12-06
    • KR1020157008521
    • 2013-10-02
    • 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠
    • 이시마루이치로
    • A61B5/1455A61B5/00G01J3/06G01J3/453G01N21/27G01N21/35
    • G01J3/45G01J3/0208G01J3/0237G01J3/0256G01J3/0291G01J3/2803G01J3/4531G01J3/4532G01N2021/3595
    • 본발명의분광측정장치는피측정물의측정영역내에위치하는복수의측정점으로부터각각발사된측정광속을제1 측정광속및 제2 측정광속으로분할하는분할광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속을간섭시키는결상광학계와, 제1 측정광속및 제2 측정광속의사이에연속적인광로길이차분포를주는광로길이차부여수단과, 광로길이의연속적인분포에상응하는간섭광의강도분포를검출하는복수의픽셀을포함하는검출부와, 검출부에서검출되는간섭광의광강도분포에기초하여, 피측정물의측정점의인터페로그램을구하고, 이인터페로그램을푸리에변환함으로써스펙트럼을취득하는처리부와, 피측정물과분할광학계의사이에배치된, 그분할광학계와공통의공역면을가지는공역면결상광학계와, 공역면에배치되어복수의측정점으로부터발사된측정광속에공간적인주기변조를주는주기성부여수단을구비한다.
    • 根据本发明的光谱特性测量装置包括:分割光学系统,用于将位于待测物体的测量区域内的多个测量点中的每一个发射的测量光束分成第一测量光束和第二测量 光束; 用于使第一测量光束和第二测量光束彼此干涉的成像光学系统; 光路长度差提供装置,用于提供第一测量光束和第二测量光束之间的光程长度差的连续分布; 用于检测干涉光的光强度分布的检测器; 基于由所述检测器检测出的干涉光的光强度分布获取被测量物体的测量点的干涉图并进行傅立叶变换以获得光谱的处理器; 位于被测量物体与分割光学系统之间的共轭平面成像光学系统,共轭平面成像光学系统具有与分割光学系统共享的共轭平面; 以及位于共轭平面上的周期性提供装置,用于在从多个测量点发射的测量光束之间提供周期性。