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1. 发明授权

KR100203746B1 반도체 기판 상에 분자성 오염물질의 증착장치 및 방법 失效
标题翻译：用于沉积分子污染材料的装置
公开(公告)号：KR100203746B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019950067537
申请日：1995-12-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 황정성 , 이동주 , 유남희 , 문상영
IPC分类号： H01L21/20
CPC分类号： C23C16/45565 , C23C16/4401 , C23C16/448 , C23C16/45512 , C30B31/06 , C30B33/00
摘要： 본 발명은 반도체소자의 제조공정중 제조공간이나 공정진행과정에서 발생할 수 있는 분자상 오염물질을 웨이표의 표면에 증착하기 위한 오염물질의 증착장치에 관한 것이다.
이를 위해서 증착장치는 반도체 웨이퍼가 오염물질과 반응하도록 하는 반응챔버와, 오염물질인 소스가스를 제공하는 가스발생수단과, 수증기를 생성하고 일정 온도로 제어하는 습기발생수단과, 상기 가스발생수단에서 발생된 소스가스와 습기발생수단으로부터 발생되는 일정 온도의 습기를 혼합하여 주는 믹싱수단과, 상기 믹싱수단에서 혼합된 가스를 챔버내에 공급하는 가스분사수단과, 상기 반응챔버내 공정조건 및 미 반응가스의 배기를 위한 배기부 및, 반응챔버내 잔존하는 오염물질을 제거하는 크리닝수단으로 구성하여, 공정상에 발생하는 불량원인의 규명 및 오염제어량, 공정영향 한계치(Limitation)의 설정에 응용함으로써 보다 체계적인 오염의 관리를 할 수 있도록 하였다.

2. 发明授权

KR100182165B1 청정실 반입 용지용 세정 장치 失效
标题翻译：清洁用清洁纸清洁装置
公开(公告)号：KR100182165B1
公开(公告)日：1999-04-15
申请号：KR1019960007386
申请日：1996-03-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 지중해 , 김은정 , 전재강 , 문상영
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING)장치에 관한 것으로, 세정 처리실내에 투입된 반입 용지가 놓여질 수 있도록 마련된 지지 부재와, 상기 지지 부재의 감응 신호에 따라 반입 용지를 향해 분사됨으로 샤워링이 가능하게 마련된 복수 개의 에어 노즐과, 샤워링에 의해 분리된 입자가 반입 용지의 하면으로 배출될 수 있도록 세정 처리실에 망사형으로 배치되는 바닥면과, 상기 바닥면의 저면을 포함하며, 진공 펌프에 의해 포집된 입자가 배출되도록 입자 포집구가 구비되어 관리해야 될 오염원증 입자(PARTICLE)에 대한 오염이 최소화 되도록 라인 내에 입실하는 작업자가 에어 샤워를 하듯 각종 작업 지침서 및 작업 일지에 대해서도 샤워링을 통한 세정 과정을 마련함으로써 상기의 반입 용지에 부착된 입자들을 조기에 제거하여청정실의 기능 향상을 구현하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치이다.

3. 发明授权

KR100174506B1 포토 레지스터 스핀 코팅 장비의 회전수 제어 장치 失效
公开(公告)号：KR100174506B1
公开(公告)日：1999-04-01
申请号：KR1019960004974
申请日：1996-02-28
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 금경수 , 박철우 , 최상봉 , 문상영
IPC分类号： H01L21/30
摘要： 본 발명은 반도체 사진(PHOTO) 공정시 포토 레지스터 도포 두께를 균일하게 도포할 수 있도록 한 포토 레지스터 스핀 코팅 장비의 회전수 제어 장치에 관한 것이다.
본 발명은 종래의 가변 저항으로된 분당 회전수값 설정 수단을 주파수-전압 변환 수단을 이용하여 분당 회전수 설정값의 안정화를 이루고 분당 회전수 보상값을 종래의 타고제너레이터(Tachogenerator)의 전압을 저항에 의해 분배하여 피드백 하던 것을 분당 회전수 설정값과의 위상 비교 수단을 이용하여 위상 비교하므로서 전체 제어계의 높은 안정도를 구현하는데 있다.

4. 发明公开

KR1019970072174A 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플 및 그 제조방법 失效
标题翻译：半导体组分浓度监测样品和方法
公开(公告)号：KR1019970072174A
公开(公告)日：1997-11-07
申请号：KR1019960010640
申请日：1996-04-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조형석 , 이병암 , 최상봉 , 문상영
IPC分类号： H01L21/31
摘要： 본 발명은 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플에 도핑된 불순물의 농도 변화를 방지할 수 있는 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 기판에 불순물이 도핑된 모니터링용 막질을 침적하는 단계와 상기 막질의 상부 전면에 외부 환경과 차단되도록 보호막을 형성하는 단계에 의해 막질의 불순물 농도가 변화되지 않는 농도 모리터링 샘플을 제조함으로써, 모니터링한 반도체 소자의 막질 농도에 변동이 있을 경우에 설비에 이상으로 간주하여도 반도체의 품질 하락 및 수율 감소가 일어나지 않도록 한 것이다.

5. 实用新型

KR200129796Y1 습식 공정 장치 失效
标题翻译：湿法工艺设备
公开(公告)号：KR200129796Y1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR2019950016028
申请日：1995-06-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전필권 , 변홍식 , 채승기 , 문상영
IPC分类号： H01L21/306
摘要： 본 고안은 습식 공정 장치에 관한 것이다. 화학용액을 이용하여 공정을 수행하는 공정 베스와 공정 베스에서 사용된 약품이 모이는 외부베스로 이루어진 화학용액 베스, 관을 통하여, 상기 외부 베스에 모아진 화학용액을 순환시키기 위한 펌프 및 상기 관을 통하여 순환되는 화학용액 내의 오염 입자를 여과하기 위한 재순환 필터를 포함하는 습식 공정 장치에 있어서, 상기 재순환 필터 입구 쪽의 제 1 분기점에서 분기된 제 1 분기관, 상기 제 1 분기관에 장착된 제 1개폐수단 및 상기 제 1 분기관을 흐르는 화학용액이 그 내부를 관통하여 흐를 수 있도록 상기 제 1 분기관에 설치된 오염 입자 포집 수단이 구비하여 사용하면, 실제로 순환되고 있는 오염 입자에 대한 성분 분석이 가능하고, 설비의 가동율이 향상된다.

6. 发明授权

KR100165000B1 이온주입기의 배기시스템 失效
标题翻译：离子注入机的排气系统
公开(公告)号：KR100165000B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950067565
申请日：1995-12-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 오상근 , 문상영 , 김정곤 , 박찬우
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/18 , H01J2237/1825 , H01J2237/31701
摘要： 본 발명은 반도체소자의 제조공정에 사용되는 이온주입기에 관한 것으로 특히 이온주입기에서 발생하는 가스를 배기하는 이온주입기의 배기시스템에 대한 것이다.
종래의 배기장치는 덕트내에서 코로나 방전현상이 일어나 점점 발전 심화되면 절연물이 타게되어 화재 및 분비물에 의해 라인의 오염을 유발하여 환경/안전상에 유해한 손실을 가져오게 되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점을 극복하기 위한 것으로, 배기 라인에 고온의 질소가스를 불어 라인의 내부에 물분자를 활성시켜 배출하므로서 코로나 현상을 방지하여, 설비의 고장의 원인을 줄이고 환경/안전성을 높일 수 있도록 한 것이다.

7. 发明公开

KR1019970067537A 청정실 반입 용지용 세정 장치 失效
标题翻译：洁净室装纸的清洁剂
公开(公告)号：KR1019970067537A
公开(公告)日：1997-10-13
申请号：KR1019960007386
申请日：1996-03-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 지중해 , 김은정 , 전재강 , 문상영
IPC分类号： H01L21/00
摘要： 본 발명은 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치에 관한 것으로, 세정 처리실내에 투입된 반입 용지가 놓여질 수 있도록 마련된 지지 부재와, 상기 지지 부재의 감응 신호에 따라 반입 용지를 향해 분사됨으로 샤워링이 가능하게 마련된 복수 개의 에어 노즐과, 샤워링에 의해 분리된 입자가 반입 용지의 하면으로 배출될 수 있도록 세정 처리실에 망사형으로 배치되는 바닥면과, 상기 바닥면의 저면을 포함하며, 진공 펌프에 의해 포집된 입자가 배출되도록 입자 포집구가 구비되어 관리해야 될 오염원중 입자(PARTICLE)에 대한 오염이 최소화 되도록 라인내에 입실하는 작업자가 에어 샤워를 하득 각종 작업 지침서 및 작업 일지에 대해서도 샤워링을 통한 세정 과정을 마련함으로써 상기의 반입 용지에 부착된 입자들을 조기에 제거하여 청정실의 기능 향상을 구현하는 청정실(CLEAN ROOM) 반입 용지용 세정(SHOWERING) 장치이다.

8. 发明公开

KR1019970051935A 반도체 소자제조용 스피너 설비 失效
公开(公告)号：KR1019970051935A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950067566
申请日：1995-12-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김문우 , 문상영 , 박경신 , 최선호
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 반도체 소자의 제조공정중 사진공정장비에 사용되는 스피너 장비에 관한 것으로 특히 설비의 구조를 개선하여 공정시간을 단축시킬 수 있도록한 사진공정정용 스피너 장비에 대한 것이다.
종래의 스피너 설비는 공정의 처리속도가 늦어 상대적으로 후속공정인 스텝퍼의 공정진행 속도를 따라가지 못하여 수율이 저하되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 코터부와 현상부를 구비한 스피너설비에 아암과 코터 및 현상기를 추가로 형성하여 공정의 진행속도를 높여주도록 한 것이다.

9. 发明公开

KR1019970015789A 초경강판재의 패턴 형성 방법 失效
标题翻译：硬金属板材料的图案形成方法
公开(公告)号：KR1019970015789A
公开(公告)日：1997-04-28
申请号：KR1019950029830
申请日：1995-09-13
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강승언 , 문상영 , 백두현 , 서원채
IPC分类号： C23F1/44
摘要： 본 발명은 초경강판재의 패턴 형성에 관한 것으로서, 사진 식각(Photo-Lithography)과 전기화학적 에칭(Electro-chemical Etching)을 이용하여 초경강판재의 미세패턴을 형성하는 방법에 관한 것이다.
즉, 사진 식각과 전기화학적 에칭 기법을 이용하여 각종 모양의 (원형, 별형, 사각형, 삼각형, 마름모형 등)의 미세패턴을 쉽게 제작할 수 있으며, 종전의 방법에 있어서의 문제점인 열에 의한 산화를 방지 할 수 있고 초경강판재의 앞면과 뒷면의 구멍 크기를 동일하게 형성할 수 있게 되었다.

10. 发明公开

KR1019960040415A 습식 공정 장치 无效
公开(公告)号：KR1019960040415A
公开(公告)日：1996-12-17
申请号：KR1019950013962
申请日：1995-05-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전필권 , 변홍식 , 채승기 , 문상영
IPC分类号： B01D35/143
摘要： 본 발명은 습식 공정 장치에 관한 것이다. 화학용액을 이용하여 습식 공정을 수행하는 공정 베스와 공정 베스에서 사용된 화학용액이 모이는 외부 베스로 이루어진 화학용액 베스, 상기 외부 베스에 모아진 화학용액을 순환시키기 위한 펌프 및 상기 공정 베스를 거치는 과정에서 오염된 화학용액을 여과하기 위한 재순환 필터를 포함하는 습식 공정 장치에 있어서, 상기 재순환 필터의 여과능력을 체크하기 위하여 차압 측정 수단 및 선택적으로 오염 입자 농도 측정 수단을 추가로 설치하여 이용하면, 공정을 일시적으로 중단하지 않고 순환필터의 기능을 검사할 수 있기 때문에 설비의 가동율이 극대화 되고, 우연적인 화학용액 오염사고에 대해서도 신속히 대처하여 불량품 발생율을 크게 줄일 수 있다.

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