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1. 发明公开

KR1020080056429A 마스크 검사 방법 无效
标题翻译：检查面膜的方法
公开(公告)号：KR1020080056429A
公开(公告)日：2008-06-23
申请号：KR1020060129319
申请日：2006-12-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 안병설 , 이병암 , 임영규 , 김경범
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/84 , G03F1/36 , G03F7/705
摘要： A method for inspecting a mask is provided to improve productivity and to implement an automatic inspection process by automatically comparing a weak pattern region with a reference mask pattern and repeating the comparison process unit an error range satisfies a criteria. A desired reference mask pattern to be formed on a wafer is set(S10). An optical proximity correction is performed on an image of the reference mask pattern to obtain a corrected mask pattern(S20). A simulation image representing a pattern obtained on the wafer is obtained by the corrected mask pattern(S30). The simulation image and the reference mask pattern are compared(S40). In case the comparison result of the simulation image and the reference mask pattern is over an error range, the processes for obtaining the corrected mask pattern and the simulation image and the comparison are repeated.
摘要翻译：提供了一种用于检查掩模的方法，以通过自动比较弱图案区域与参考掩模图案并重复比较处理单元来提高生产率并实现自动检查处理，误差范围满足标准。设置要在晶片上形成的期望的参考掩模图案（S10）。对参考掩模图案的图像执行光学邻近校正以获得校正的掩模图案（S20）。通过校正的掩模图案获得表示在晶片上获得的图案的模拟图像（S30）。比较模拟图像和参考掩模图案（S40）。在模拟图像和参考掩模图案的比较结果超过误差范围的情况下，重复获得校正的掩模图案和模拟图像的处理以及比较。

2. 发明公开

KR1020070000066A 반도체 기판 입출력 장치 및 이를 포함하는 반도체 기판가공 설비 无效
标题翻译：半导体基板输入输出装置和用于处理具有该半导体基板的半导体基板的设备
公开(公告)号：KR1020070000066A
公开(公告)日：2007-01-02
申请号：KR1020050055506
申请日：2005-06-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박귀현 , 정경호 , 이병암 , 박영헌 , 김경범
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/68
摘要： A semiconductor substrate input/output apparatus and semiconductor substrate processing equipment with the same are provided to treat a semiconductor substrate without substrate transfer accidents by using an aligner capable of emitting a visual signal. A semiconductor substrate input/output apparatus includes a port stage, an input/output shutter, and aligner. The port stage is used for receiving a container with semiconductor substrates from a transfer capable of moving along a ceiling path of a clean room and transferring the container to the transfer. The input/output shutter(135) is installed between the port stage and a bit of semiconductor substrate processing equipment in order to load/unload the semiconductor substrates of the container to/from the equipment. The aligner(141,142) is installed over the port stage in order to align the container and the transfer in position. The aligner is capable of emit a visual signal.
摘要翻译：提供了一种半导体衬底输入/输出装置及其半导体衬底处理设备，以通过使用能够发出视觉信号的对准器来处理半导体衬底而没有衬底转移事故。半导体衬底输入/输出设备包括端口级，输入/输出快门和对准器。端口台用于从能够沿着洁净室的天花板路径移动的传送装置接收具有半导体基板的容器，并将容器转移到传送。输入/输出快门（135）安装在端口级和一点半导体衬底处理设备之间，以便将/将容器的半导体衬底装载/卸载到设备中。对准器（141,142）安装在端口台上，以便将容器和传送件对准就位。对准器能够发出视觉信号。

3. 发明公开

KR1020060060277A 미세 구조의 치수 측정 방법 无效
标题翻译：测量微结构尺寸的方法
公开(公告)号：KR1020060060277A
公开(公告)日：2006-06-05
申请号：KR1020040099215
申请日：2004-11-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이진우 , 이병암 , 안병설 , 박상열 , 백종선
IPC分类号： G01B11/02
CPC分类号： G01B11/022 , G01B11/028
摘要： 미세 구조물을 효과적으로 측정할 수 있는 측정 방법에 따르면, 피 측정체에 형성된 미세 구조물을 다수의 영역으로 구획하여 영역별로 측정 지점을 설정하고, 측정 지점에 위치하는 미세 구조물의 치수를 측정한다. 측정 지점을 설정하는 단계에서, 측정 지점의 위치 정보를 나타낼 수 있는 식별 기호를 부여하고, 측정 지점에 부여된 식별 기호에 따라 측정 결과를 분류한다. 이 경우, 영역별로 다른 개수의 측정 지점을 설정할 수 있다. 피 측정체를 영역별로 구획하여 디스플레이 함으로써, 측정 지점을 잘못 설정하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 영역별로 측정 대상이 다르게 설정할 수도 있고, 측정 결과도 그룹화 할 수 있어 측정 공정의 효율을 극대화 시킬 수 있다.

4. 发明公开

KR1020060013708A 레시피 설정 방법 无效
标题翻译：设置方法
公开(公告)号：KR1020060013708A
公开(公告)日：2006-02-14
申请号：KR1020040062286
申请日：2004-08-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이성만 , 안병설 , 이병암 , 조재선 , 이창훈 , 이정란 , 임영규
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G01N21/9501 , H01L21/67288 , H01L22/12
摘要： 반도체 장치를 제조시 웨이퍼 결함을 검출하기 위해 각 공정에 일괄적으로 적용되는 위한 레시피 설정 방법은 기존의 웨이퍼의 결함 검사시 사용된 각 공정별 파라미터의 정보를 검사 대상 웨이퍼에 적용한다. 상기 기준 웨이퍼의 위치와 상기 검사 대상 웨이퍼의 정렬 위치를 설정한 후, 각 공정에 따라 변화되는 상기 검사 대상 웨이퍼의 패턴 이미지와 상기 기준 웨이퍼의 기준 패턴 이미지의 정렬 지점을 설정한다. 따라서 상기 웨이퍼의 결함 검출을 위한 상기 레시피를 상기 반도체 장치 제조 공정의 각 단계에 일괄적으로 적용되도록 설정하므로 상기 레시피 설정에 소요되는 시간을 줄일 수 있다.

5. 发明公开

KR1020050060177A 웨이퍼의 표면 검사 방법 无效
标题翻译：检测波浪表面的方法
公开(公告)号：KR1020050060177A
公开(公告)日：2005-06-22
申请号：KR1020030091717
申请日：2003-12-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이성만 , 안병설 , 이병암 , 이창훈 , 임영규 , 조재선
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 본 발명은 웨이퍼의 표면 검사 방법에 관한 것으로서, 본 발명은 웨이퍼 표면 전면에 걸쳐 스캐닝 방식으로 레이저 빔의 난반사/반사 신호를 검출하여 웨이퍼 표면에의 파티클 및 스크래치를 검출하는 웨이퍼 표면 검사 방법에 있어서, 상기 파티클 및 스크래치의 검출 직후 기설정된 웨이퍼 표면의 특정 좌표를 펌핑 레이저에 의해 스캐닝하면서 검출되는 펄스식 신호를 검출하여 컨텍홀의 개방/비개방(open/ not open)을 검출하도록 하는 것이 특징인 바 이로써 웨이퍼 표면 검사에 있어서의 가장 취약한 부분인 웨이퍼 표면의 컨텍홀의 개방/비개방을 정확히 검출하여 웨이퍼 불량 여부를 정확히 판단할 수가 있도록 한다.

6. 发明公开

KR1020050052805A 패턴 검사 장치 및 검사 방법 失效
标题翻译：用于检查图案的装置和方法
公开(公告)号：KR1020050052805A
公开(公告)日：2005-06-07
申请号：KR1020030086368
申请日：2003-12-01
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이창훈 , 이병암 , 안병설 , 조재선 , 김주우 , 이성만
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/95607
摘要： 패턴 검사 장치 및 검사 방법을 제공한다. 이 장치는, 샘플 다이 및 대상 다이의 영상 데이터를 취득하는 영상 입력 장치(image sensor)와, 영상 입력 장치에서 취득된 영상 데이터를 저장하는 외부 기억 장치(external memory)와, 데이터를 압축(compress)하는 부호기(encoder)와, 압축된 데이터로부터 원본 데이터를 복원(decompress)하는 복호기(decoder)와, 샘플 다이의 압축된 영상 데이터를 저장하는 내부 기억 장치(internal memory)와, 복수의 샘플 다이의 영상 데이터를 처리하여 레퍼런스 영상 데이터를 추출하는 연산 장치(arithmetic module)와 압축된 레퍼런스 영상 데이터를 저장하는 레퍼런스 기억 장치(reference storage) 및 대상 다이의 영상 데이터와 레퍼런스 영상 데이터를 비교하여 대상 다이의 패턴 결함 데이터를 추출하는 비교기(comparison module)를 포함한다. 본 발명은 복수개의 다이를 샘플링 하고, 각 샘플 다이의 영상 데이터를 취득하여 압축하고, 압축된 샘플 다이의 영상 데이터들을 블록 단위로 처리하여 레퍼런스 데이터를 추출한다. 레퍼런스 영상 데이터를 대상 다이의 영상 데이터와 비교하여 결함 데이터를 추출한다.

7. 发明公开

KR1020050005862A 웨이퍼의 정렬 방법 및 장치 失效
标题翻译：用于通过仅使用图像数据形成模板图案来缩小形成模板图案周期的对准波的方法和装置
公开(公告)号：KR1020050005862A
公开(公告)日：2005-01-15
申请号：KR1020030045758
申请日：2003-07-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 임규홍 , 이병암 , 김주우 , 이창훈
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7092 , G03F7/70616
摘要： PURPOSE: A method and an apparatus of aligning a wafer are provided to reduce a period of forming a template pattern by using only image data to form the template pattern. CONSTITUTION: A first wafer is aligned to form a first template pattern corresponding to the first wafer(S100). Image data of a second wafer different from the first wafer are inputted(S200). A second template pattern corresponding to the second wafer is generated by using the image data of the second wafer(S300). The second wafer is aligned by using the second template pattern(S400).
摘要翻译：目的：提供一种对准晶片的方法和装置，以通过仅使用图像数据来形成模板图案来减少形成模板图案的周期。构成：将第一晶片对准以形成对应于第一晶片的第一模板图案（S100）。输入与第一晶片不同的第二晶片的图像数据（S200）。通过使用第二晶片的图像数据来生成与第二晶片相对应的第二模板图案（S300）。通过使用第二模板图案对准第二晶片（S400）。

8. 发明授权

KR100174505B1 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플 및 그 제조방법 失效
公开(公告)号：KR100174505B1
公开(公告)日：1999-04-01
申请号：KR1019960010640
申请日：1996-04-09
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 조형석 , 이병암 , 최상봉 , 문상영
IPC分类号： H01L21/31
摘要： 본 발명은 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플에 도핑된 불순물의 농도 변화를 방지할 수 있는 반도체 구성 막질의 농도 모니터링 샘플 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 기판에 불순물이 도핑된 모니터링용 막질을 침적하는 단계와 상기 막질의 상부 전면에 외부 환경과 차단되도록 보호막을 형성하는 단계에 의해 막질의 불순물 농도가 변화되지 않는 농도 모니터링 샘플을 제조함으로써, 모니터링한 반도체 소자의 막질 농도에 변동이 있을 경우에 설비에 이상으로 간주하여도 반도체의 품질 하락 및 수율 감소가 일어나지 않도록 한 것이다.

9. 发明公开

KR1019980012203A 반도체장치 콘택 오픈 검사 방법 失效
标题翻译：半导体器件接触开路测试方法
公开(公告)号：KR1019980012203A
公开(公告)日：1998-04-30
申请号：KR1019960031389
申请日：1996-07-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이상길 , 이병암 , 양경모
IPC分类号： H01L21/66

10. 发明公开

KR1020080057017A 기판 정렬 방법 无效
标题翻译：校准基板的方法
公开(公告)号：KR1020080057017A
公开(公告)日：2008-06-24
申请号：KR1020060130314
申请日：2006-12-19
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최재용 , 이병암 , 김경호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7046 , G03F7/7085 , G03F9/7011
摘要： A method for aligning a substrate is provided to obtain a characteristic value of an inspection region and align a substrate by scanning the inspection region on a real substrate according to reference data of the inspection region. Reference data including the information of an inspection region(R2) on a substrate including a pattern is inputted. The inspection region is scanned by using the reference data. A characteristic map with respect to the inspection region is made by using the scan result. By using the characteristic map, a correction factor is calculated to make the coordinates of the substrate agree with the coordinates of an inspection apparatus. The substrate is aligned by using the correction factor. The scan process can include a process of irradiating light to the surface of the inspection region and detecting reflected light, and the characteristic map can include the intensity of the light reflected from each position of the inspection region.
摘要翻译：提供对准基板的方法以获得检查区域的特征值，并且根据检查区域的参考数据通过在真实基板上扫描检查区域来对准基板。输入包括在包括图案的基板上的检查区域（R2）的信息的参考数据。通过使用参考数据扫描检查区域。通过使用扫描结果来进行相对于检查区域的特征图。通过使用特征图，计算校正因子，使得基板的坐标与检查装置的坐标一致。通过使用校正因子来对准衬底。扫描处理可以包括向检查区域的表面照射光并检测反射光的过程，并且特征图可以包括从检查区域的每个位置反射的光的强度。

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