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1. 发明授权

KR100855002B1 플라즈마 이온 주입시스템 失效
标题翻译：基于等离子体离子植入系统
公开(公告)号：KR100855002B1
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：KR1020070050132
申请日：2007-05-23
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이영동 , 유리톨마체프 , 블라디미르볼리네츠 , 바실리파쉬코프스키 , 안드레이우샤코프 , 금경수 , 한재현 , 김동철 , 조형철
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/32449 , H01J37/32357 , H01J37/32412 , H01J37/3244 , H01J37/3255 , H01J37/32862 , H01L21/2236
摘要： A system for implanting plasma ions is provided to generate only the ions and polymer radicals necessary for an ion implantation process and easily control implanted plasma ions by generating plasma having an characteristic advantageous for an ion implantation process as compared with an ICP(inductively coupled plasma) process. A process target(501) is positioned in a vacuum chamber(500) having a reaction space in which plasma is generated. A first gas supply apparatus supplies reaction gas to the vacuum chamber. A second gas supply apparatus supplies cleaning gas to the vacuum chamber. Upper and lower electrodes(502,553) are installed in the vacuum chamber, confronting each other. A conductive ring(551) is installed in the periphery of the process target. An RF supply apparatus supplies RF power to the upper electrode to generate plasma. A high voltage supply apparatus supplies a high voltage to the process target, the lower electrode and the conductive ring. The first and second gas supply apparatuses can be installed in the sidewall(504) of the vacuum chamber, confronting each other.
摘要翻译：提供了用于植入等离子体离子的系统，以仅产生离子注入工艺所需的离子和聚合物自由基，并且通过产生具有有利于离子注入工艺的特性的等离子体容易地控制注入的等离子体离子，与ICP（电感耦合等离子体）相比，处理。处理目标（501）位于具有产生等离子体的反应空间的真空室（500）中。第一气体供给装置向真空室供给反应气体。第二气体供给装置向真空室供给清洁气体。上下电极（502,553）安装在真空室中，彼此面对。导电环（551）安装在处理靶的周围。 RF供给装置向上部电极提供RF功率以产生等离子体。高压电源装置向工艺靶，下电极和导电环提供高电压。第一和第二气体供给装置可以安装在真空室的侧壁（504）中，彼此面对。

2. 发明授权

KR100572325B1 이온 주입 장치 및 이를 이용한 이온 주입 방법 失效
标题翻译：离子注入装置及使用其的离子注入方法
公开(公告)号：KR100572325B1
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：KR1020030092634
申请日：2003-12-17
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 금경수 , 채승기 , 홍형식 , 차상엽 , 한재현 , 임태섭 , 강현규 , 윤길중 , 송두근
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/304 , H01J2237/0044
摘要： 본 발명은 이온 주입 장치 및 이를 이용한 이온 주입 방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 이온 주입 장치는, 회전 디스크를 내장하고 밀폐된 공간을 정의하는 디스크 챔버에 고정 설치되어 상기 회전 디스크에 마운팅되는 웨이퍼의 표면과 근접 대향하여 웨이퍼 표면의 대전 상태를 읽는 전하 감지기를 포함하는 것을 특징으로 한다. 개시된 본 발명의 이온 주입 방법은, 양이온을 생성시키는 단계와; 상기 양이온에 전자를 제공하여 상기 양이온을 중성화하는 단계와; 상기 중성화된 입자를 회전 디스크에 마운팅된 웨이퍼에 주입시키는 단계와; 상기 웨이퍼의 표면 전하 상태를 감지하는 단계와; 상기 감지 결과 상기 웨이퍼의 표면 전하 상태가 중성 상태가 아니면 상기 웨이퍼의 표면 전하 상태를 중성화되도록 제어하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 따르면, 전하 감지기는 이온 빔에 의한 증착으로부터 자유롭게 되어 이온 빔 증착으로 인한 노이즈 증가를 방지할 수 있다. 따라서, 신호/노이즈 비가 향상되어 이온 주입의 신뢰성이 확보되는 효과가 있다.
摘要翻译：本发明公开了一种离子注入装置以及使用该离子注入装置的离子注入方法。本发明的所公开的离子注入装置，被牢固地固定到盘室，其包含一个旋转盘，并限定一个封闭的空间，电荷检测器来读取晶片表面的带电状态朝靠近晶片的表面将被安装在旋转圆盘而且，其特征在于。所公开的本发明的离子注入方法包括：产生阳离子; 向阳离子提供电子以中和阳离子; 将中和的颗粒注入安装在旋转盘上的晶片上; 感测晶片的表面电荷状态; 并且如果晶片的表面电荷状态由于检测而不是中性状态，则控制晶片的表面电荷状态为中性。据此，电荷检测器不会被离子束沉积，并且可以防止由于离子束沉积而导致的噪声增加。因此，具有提高信噪比的效果，确保离子注入的可靠性。

3. 发明授权

KR100527675B1 반도체 제조설비의 인쇄회로기판 기능 검사장치 失效
标题翻译：半导体制造设备的PCB功能测试装置
公开(公告)号：KR100527675B1
公开(公告)日：2006-02-10
申请号：KR1019980037030
申请日：1998-09-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 현기철 , 금경수 , 우재영 , 김희덕
IPC分类号： G01R31/28
摘要： 본 발명은 하나의 장치, 즉 하나의 장치와 이를 선택적으로 운영하기 위한 프로그램에 의해 반도체 제조설비에서 분리된 인쇄회로기판을 자기 진단할 수 있도록 하는 반도체 제조설비의 인쇄회로기판 기능 검사장치에 관한 것으로, 이는 피측정용 인쇄회로기판과 입/출력 보드를 연결하여 주는 케이블과, 피측정용 인쇄회로기판에서 출력되는 센싱신호를 인터페이싱하여 제어 및 처리수단에 공급하게 되는 입/출력 보드와, 외부 입력으로 선택된 알리고즘에 의해 입/출력 보드를 통한 센싱신호를 분석하여 피측정용 인쇄회로기판을 진단하고 그 결과를 출력하는 제어 및 처리수단과, 이 피측정용 인쇄회로기판의 진단결과를 표시하게 되는 표시수단을 구비하는 것으로서, 반도체 제조설비에서 분리된 인쇄회로기판의 자기 진단을 정확하게 수행함과 아 울러 진단시간을 단축할 수 있는 것이다.

4. 发明公开

KR1020040043026A 리프팅 장치 无效
标题翻译：提升装置
公开(公告)号：KR1020040043026A
公开(公告)日：2004-05-22
申请号：KR1020020071018
申请日：2002-11-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 홍형식 , 금경수 , 박충훈 , 조정훈 , 류시원
IPC分类号： H01L21/68
摘要： PURPOSE: A lifting apparatus is provided to be capable of restraining the generation of a popping phenomenon and stably loading and unloading a semiconductor substrate. CONSTITUTION: A lifting apparatus includes a socket(110) connected to the lower portion of the first hole. At this time, the socket has the second hole having the same pivot as the first hole. The lifting apparatus further includes a bellows(120) connected with the lower portion of the socket and a lift pin(130). The lift pin includes a load integrated along the pivot of the second hole and bellows for loading and unloading a process object part by the motion of the bellows, and a head formed at the upper portion of the load for supporting the process object part. A path is formed between the second hole and the lift pin for exhausting the gas of the bellows while the bellows is shrunk. Preferably, a groove and the third hole are used as the path.
摘要翻译：目的：提供一种能够抑制产生爆裂现象并稳定地加载和卸载半导体衬底的提升装置。构成：提升装置包括连接到第一孔的下部的插座（110）。此时，插座具有与第一孔相同的枢轴的第二孔。提升装置还包括与插座的下部连接的波纹管（120）和升降销（130）。提升销包括沿着第二孔和波纹管的枢轴一体化的负载，用于通过波纹管的运动装载和卸载处理对象部分，以及形成在用于支撑处理对象部分的负载的上部的头部。在波纹管收缩时，在第二孔和提升销之间形成有用于排出波纹管的气体的路径。优选地，使用槽和第三孔作为路径。

5. 发明授权

KR100363333B1 반도체 웨이퍼 공정 시스템의 고전압 챔버의 파라미터를 모니터링하기 위한 장치 失效
标题翻译：用于监测半导体晶片处理系统的高压室参数的设备
公开(公告)号：KR100363333B1
公开(公告)日：2002-12-05
申请号：KR1020000073012
申请日：2000-12-04
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 전상문 , 금경수 , 홍형식
IPC分类号： H01L21/66
摘要： 여기에 개시된 본 발명의 신규한 반도체 웨이퍼 공정 파라미터 모니터링 장치는, 이온 주입기와 같이 고 에너지를 사용하는 반도체 제조 장비로부터 발생되는 공정 파라미터가 전기적 신호에서 광 신호로 변환되어 출력되면, 이를 다시 전기적 신호로 변환한 후, 변환된 신호를 실시간으로 모니터링한다. 여기서, 모니터링되는 상기 공정 파라미터들은 반도체 제조 장비가 가지고 있는 높은 전위차에 영향을 받지 않으므로, 측정시 계측 장치 등에 손상을 주지 않는다.

6. 发明公开

KR1020020037849A 이온 주입 장치 无效
标题翻译：离子植入物
公开(公告)号：KR1020020037849A
公开(公告)日：2002-05-23
申请号：KR1020000067770
申请日：2000-11-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 남승만 , 금경수
IPC分类号： H01L21/26
摘要： PURPOSE: An ion implanter is provided to prevent a wafer from being damaged by a wrong initial position of a platen, by installing a distance sensor capable of inspecting an initial horizontal state of the platen so that the horizontal state of the platen is inspected and the wafer is loaded. CONSTITUTION: A spacer for implanting ions to the wafer is formed in a chamber(301). The upper surface of the chamber is made of a transparent glass plate. An ion beam injecting unit(311) injects ion beams to the wafer, installed to penetrate the sidewall of the chamber. The wafer is loaded to the platen(307) installed in the lower portion of the chamber. A scan shaft(309) supports the platen from a portion lower than the platen. A plurality of distance sensors(315) are mounted on the glass plate to sense at least three different positions on the platen and to measure a distance. A horizontal control unit(317) compares input data when the values measured by the distance sensors are inputted and outputs a signal which determines a horizontal state of the platen.
摘要翻译：目的：提供一种离子注入机，通过安装能够检查压板初始水平状态的距离传感器，以便对压板的水平状态进行检查，防止晶片受到压板错误的初始位置的损坏，晶片被加载。构成：在室（301）中形成用于将离子注入晶片的间隔物。室的上表面由透明玻璃板制成。离子束注入单元（311）将离子束注入到晶片上，以便穿透室的侧壁。将晶片装载到安装在室的下部的压板（307）上。扫描轴（309）从低于压板的部分支撑压板。多个距离传感器（315）安装在玻璃板上以感测台板上的至少三个不同位置并测量距离。当输入由距离传感器测量的值时，水平控制单元（317）比较输入数据，并输出确定压板的水平状态的信号。

7. 发明公开

KR1020010106991A 반도체 이온 주입 설비의 아크 챔버 无效
标题翻译：半导体离子植入设备
公开(公告)号：KR1020010106991A
公开(公告)日：2001-12-07
申请号：KR1020000028122
申请日：2000-05-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 박인호 , 금경수
IPC分类号： H01L21/265
摘要： 본 발명은 반도체 이온 주입 설비의 아크 챔버에 관한 것으로, 가스 인입구, 가스 통과 홀 및 가스 분사구로 이루어지는 제 2 가스 공급 수단이 추가 장착되는 하부 플레이트를 포함하여 이루어진다. 이때 상기 하부 플레이트 내부에 추가 장착되는 상기 제 2 가스 공급 수단은 종래의 제 1 가스 공급 수단과 서로 마주하는 위치에 형성되며, 상기 하부 플레이트를 뒤집어서 사용하는 경우, 상기 제 1 가스 공급 수단과 동일한 작용을 할 수 있도록 구성된다.
본 발명에 따르면, 하부 플레이트를 반복 사용할 수 있으므로 하부 플레이트의 수명을 연장할 수 있게 된다. 이에 따라 부품 교체로 인한 공정 비용을 절감하고, 부품의 활용도를 향상시키는 효과를 얻게 된다.

8. 发明公开

KR1020000019102A 반도체 제조설비의 인쇄회로기판 기능 검사장치 失效
标题翻译：印刷电路板功能检查设备半导体制造设备
公开(公告)号：KR1020000019102A
公开(公告)日：2000-04-06
申请号：KR1019980037030
申请日：1998-09-08
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 현기철 , 금경수 , 우재영 , 김희덕
IPC分类号： G01R31/28
摘要： PURPOSE: A printed-circuit board function inspection apparatus of semiconductor manufacturing facility is provided for the self-diagnosis of a printed-circuit board separated from semiconductor manufacturing facility by a program to selectively operate an apparatus. CONSTITUTION: The printed-circuit board function inspection apparatus of semiconductor manufacturing facility is composed of a printed-circuit board to be measured(1), an input-output board(2), a cable(3), a control/process unit(4) and a display unit(5). The cable(3) connects the printed-circuit board to be measured and the input/output board. The input/output board supplies the sensing signal from the printed-circuit board to be measured to the control/process unit. The control/process unit(4) diagnoses the printed-circuit board to be measured and outputs the result by analyzing the sensing signal through the input/output board. The display unit(5) displays the diagnosis result of the printed-circuit board to be measured.
摘要翻译：目的：提供半导体制造设备的印刷电路板功能检查装置，用于通过程序分离半导体制造设备的印刷电路板的自诊断以选择性地操作设备。构成：半导体制造设备的印刷电路板功能检查装置由被测量印刷电路板（1），输入输出板（2），电缆（3），控制/处理单元（ 4）和显示单元（5）。电缆（3）连接要测量的印刷电路板和输入/输出板。输入/输出板将要测量的印刷电路板的感测信号提供给控制/处理单元。控制/处理单元（4）诊断要测量的印刷电路板，并通过输入/输出板分析感测信号来输出结果。显示单元（5）显示要测量的印刷电路板的诊断结果。

9. 发明公开

KR1019980051979A 물품 보관용 박스 失效
标题翻译：用于存放货物的箱子
公开(公告)号：KR1019980051979A
公开(公告)日：1998-09-25
申请号：KR1019960070906
申请日：1996-12-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최봉 , 금경수
IPC分类号： H05K5/04
摘要： 물품을 이송하거나 보관함에 있어 정전기에 의한 물품의 손상이 없도록 하는 물품 보관용 박스에 관한 것이다.
본 발명은 상측 뚜껑과 하측 용기가 상호 개폐 가능하도록 결합되고 내부에 소정의 물품을 수용하도록 형성된 물품 보관용 박스에 있어서, 상기 뚜껑의 상면에 체결되는 금속재질의 고정구와, 소정 폭과 길이를 갖는 형상으로 상기 뚜껑의 측벽에 삽입 설치되어 일단부가 상기 고정구에 접촉 고정되며 다른 일단부는 상기 뚜껑의 각 방향 하단부로 돌출되어 고정되는 상측 금속박판과, 상기 용기의 하면에 체결되는 고정부재 및 소정 폭과 길이를 갖는 형상으로 상기 용기의 측벽에 삽입 설치되어 일단부가 상기 고정부재에 접촉 고정되며 다른 일단부는 상기 용기의 각 방향 상단부로 돌출되어 고정되는 하측 금속박판을 포함하여 구성됨을 특징으로 한다.
따라서, 본 발명에 의하면 물품을 수용함에 있어 발생되는 정전기를 유도 방출하게 됨으로써 물품의 손상을 방지하게 되고, 극성을 갖는 이물질로부터 물품을 보호하게 되는 효과가 있다.

10. 发明公开

KR1019980040766A 반도체 제조설비의 펌프모터 제어 장치 无效
标题翻译：半导体制造设备的泵电机控制装置
公开(公告)号：KR1019980040766A
公开(公告)日：1998-08-17
申请号：KR1019960060003
申请日：1996-11-29
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 민영민 , 금경수
IPC分类号： H01L21/304
摘要： 펌프에 이상전원이 입력되면 이를 감지하여 모터의 동작을 중지시켜서 모터의 오동작에 따른 설비손상을 방지하도록 개선시킨 반도체 제조설비의 펌프모터 제어 장치에 관한 것이다.
본 발명은, 모터로 구동되는 펌프로 공정을 위한 진공을 설정하는 반도체 제조설비의 펌프모터 제어 장치에 있어서, 상기 모터로 인가되는 삼상전원의 위상 검출로 이상전원 입력을 판단하여 제어신호를 출력하는 위상검출기 및 상기 제어신호가 인가되면 상기 삼상전원의 상기 모터 인가를 스위칭하는 스위칭수단을 구비하여 이루어진다.
따라서, 본 발명에 의하면 이상 전원인가로 인한 펌프 내의 모터 역회전이 방지되므로 펌프가 보호되어 설비의 수명이 극대화되는 효과가 있다.

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