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71. 外观设计

KR3000513580000S 失效
公开(公告)号：KR3000513580000S
公开(公告)日：1984-12-18
申请号：KR3019840001407
申请日：1984-02-14
申请人： 삼성전자주식회사
设计人： 김영호

72. 外观设计

KR3000494290000S 失效
公开(公告)号：KR3000494290000S
公开(公告)日：1984-09-26
申请号：KR3019830012072
申请日：1983-11-21
申请人： 삼성전자주식회사
设计人： 김영호

73. 发明授权

KR101423539B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101423539B1
公开(公告)日：2014-07-25
申请号：KR1020100130786
申请日：2010-12-20
申请人： 제일모직주식회사 , 삼성전자주식회사
发明人： 조현용 , 정민국 , 정지영 , 이종화 , 유용식 , 이정우 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： (A) 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]

상기 식에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.

74. 发明公开

KR1020130097331A 터치 스크린을 구비하는 전자기기에서 객체를 선택하기 위한 장치 및 방법 审中-实审
标题翻译：用触摸屏选择设备中的对象的装置和方法
公开(公告)号：KR1020130097331A
公开(公告)日：2013-09-03
申请号：KR1020120018915
申请日：2012-02-24
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김영호 , 최태성
IPC分类号： G06F3/03 , G06F3/041
CPC分类号： G06F3/04817 , G06F3/0482 , G06F3/0488 , G06F3/0412 , G06F3/0416 , G06F3/04842 , G06F2203/04808
摘要： PURPOSE: A device for selecting an object in an electronic device comprising a touch screen and a method thereof are provided to reduce delay due to the selecting of the objects by simultaneously selecting adjacent objects. CONSTITUTION: When a first touch is sensed through a touch screen, a controlling part (100) configures the first touch spot as a reference spot. When the movement of the touch spot is sensed from the first touch spot, the controlling part converts the first touch spot and objects included in an object selecting region according to the moving path of the touch spot into a selecting mode. The object is an application program icon, a widget and a thumbnail image. When the first touch is sensed, the controlling part configures the first touch spot as the reference spot in consideration of the touch duration time of the first touch. [Reference numerals] (100) Controlling part; (110) Displaying part; (120) Inputting part; (130) Storing part; (140) Audio signal processing part; (150) Communicating part
摘要翻译：目的：提供一种用于在包括触摸屏的电子设备中选择对象的设备及其方法，以通过同时选择相邻对象来减少由于选择对象而引起的延迟。构成：当通过触摸屏感测到第一触摸时，控制部分（100）将第一触摸点配置为参考点。当从第一触摸点感测到触摸点的移动时，控制部分将根据触摸点的移动路径的包括在对象选择区域中的第一触摸点和对象转换为选择模式。该对象是应用程序图标，小部件和缩略图。当感测到第一触摸时，考虑到第一触摸的触摸持续时间，控制部分将第一触摸点配置为参考点。（附图标记）（100）控制部; （110）显示部分; （120）输入部分; （130）储存部件; （140）音频信号处理部分; （150）沟通部分

75. 发明公开

KR1020130015429A 에치-백 공정을 이용한 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：使用回溯过程形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020130015429A
公开(公告)日：2013-02-14
申请号：KR1020110077413
申请日：2011-08-03
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김형희 , 강율 , 이송세 , 김재호 , 김영호
IPC分类号： H01L21/8247 , H01L27/115 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0274 , H01L21/0337 , H01L21/28123 , H01L21/28273 , H01L21/28282 , H01L21/31144 , H01L27/115
摘要： PURPOSE: A method for forming a pattern with an etch-back process is provided to form a dual pattern by using organic materials in a semiconductor device manufacturing process. CONSTITUTION: A bottom layer(110) is formed on a substrate(100). An antireflection layer(140) with organic materials is formed on the bottom layer. A first mask pattern(150) is formed on the antireflection layer. A sacrificial layer covering the surfaces of the first mask patterns is formed. A part of the sacrificial layer near the first mask patterns is changed into a sacrificial pattern(160a).
摘要翻译：目的：提供用于形成具有回蚀工艺的图案的方法，以通过在半导体器件制造工艺中使用有机材料形成双重图案。构成：底层（110）形成在基底（100）上。在底层上形成有机材料的防反射层（140）。在防反射层上形成第一掩模图案（150）。形成覆盖第一掩模图案的表面的牺牲层。第一掩模图案附近的牺牲层的一部分被改变为牺牲图案（160a）。

76. 发明公开

KR1020120066924A 오르토-니트로벤질 에스테르 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：邻氨基苯甲酸酯化合物和包含其的阳性类型的感光性树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120066924A
公开(公告)日：2012-06-25
申请号：KR1020100128278
申请日：2010-12-15
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정민국 , 정지영 , 조현용 , 유용식 , 이정우 , 이종화 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： C07C205/35 , C07C205/42 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C205/42 , G03F7/0226 , G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0751 , G03F7/0755 , C07C205/35 , G03F7/0395 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: An ortho-nitrobenzyl ester compound is provided to restrain the dissolution of non-exposure part, and to provide a positive type photosensitive resin composition with excellent sensitivity, resolution, pattern formation, and removal of residue. CONSTITUTION: An ortho-nitrobenzyl ester compound comprises a compound in chemical formula 1. In chemical formula 1, R^1 and R^2 is respectively and independently C1-20 aliphatic organic group, or a substituted or unsubstituted cycloaliphatic organic group, R^3 and R^4 is respectively and independently single bond, or substituted or unsubstituted divalent C1-20 aliphatic organic group, and Z^1 and Z^2 is respectively and independently a hydroxy group, an amine group, a carboxy group, or an aldehyde group, n1 and n2 is respectively and independently an integer from 0-5, and n1+n2 is an integer from 1-5.
摘要翻译：目的：提供邻硝基苄酯化合物以抑制非曝光部分的溶解，并提供具有优异的灵敏度，分辨率，图案形成和残留物去除的正型感光性树脂组合物。构成：邻硝基苄基酯化合物包括化学式1中的化合物。在化学式1中，R 1和R 2分别为C 1-20脂族有机基团或取代或未取代的脂环族有机基团R 1， 3和R 4分别为单键或取代或未取代的二价C 1-20脂族有机基团，Z 1和Z 2分别独立地为羟基，胺基，羧基或醛基，n1和n2分别为0-5的整数，n1 + n2为1-5的整数。

77. 发明公开

KR1020120066923A 신규 페놀 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：新型酚醛化合物和含有它们的正型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120066923A
公开(公告)日：2012-06-25
申请号：KR1020100128277
申请日：2010-12-15
申请人： 제일모직주식회사 , 삼성전자주식회사
发明人： 정지영 , 정민국 , 조현용 , 유용식 , 이정우 , 이종화 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： C07C69/84 , G03F7/039 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/0226 , C07C69/84 , G03F7/0233
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive composition is provided to improve physical properties and reliability of a membrane, and to boating excellent sensitivity, resolution, pattern formation, removal of residue, high elongation, high tensile strength, and low membrane shrinkage. CONSTITUTION: A phenol compound comprises one selected from a group consisting of a compound in chemical formula 1, a compound in chemical formula 2, and combinations thereof. A positive type photosensitive composition comprises 100.0 parts by weight of polybenzoxazole precursor, 5-100 parts by weight of a photosensitive diazoquinone compound, 1-30 parts by weight of a phenol compound, 0.1-30 parts by weight of a silane compound, and 50-300 parts by weight of a solvent. The polybenzoxazole precursor has the weight average molecular weight of 3,000-300,000.
摘要翻译：目的：提供一种正型感光组合物，以改善膜的物理性能和可靠性，并且具有优异的灵敏度，分辨率，图案形成，残留物的去除，高伸长率，高拉伸强度和低膜收缩率。构成：酚化合物包括选自化学式1中的化合物，化学式2中的化合物及其组合的一种酚化合物。正型感光性组合物包含100.0重量份聚苯并恶唑前体，5-100重量份光敏重氮醌化合物，1-30重量份酚化合物，0.1-30重量份硅烷化合物和50 -300重量份溶剂。聚苯并恶唑前体的重均分子量为3,000-300,000。

78. 发明公开

KR1020110133828A 포토레지스트 패턴 형성 방법 无效
标题翻译：形成光电子图案的方法
公开(公告)号：KR1020110133828A
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：KR1020100053453
申请日：2010-06-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김경미 , 박정주 , 박미라 , 이보희 , 김재호 , 김영호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01L21/0273 , H01L21/0337 , H01L21/0338 , H01L21/3086 , H01L21/3088 , H01L21/31144 , H01L21/32139 , H01L27/11521 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A method for forming a photoresist pattern is provided to perform light exposing and developing processes twice under the same conditions, thereby readjusting processing conditions. CONSTITUTION: A mask film(104) is coated on a substrate(100) on which a target film(102) to be etched is formed. A reflection preventing film(110) is coated on the mask film. The reflection preventing film is made of organic and inorganic materials to prevent diffused reflection during a light exposure process. The reflection preventing film includes an inorganic reflection preventing film(106) and an organic reflection preventing film(108). A first photoresist film is coated on the reflection preventing film to form a reserved first photoresist pattern.
摘要翻译：目的：提供形成光致抗蚀剂图案的方法，以在相同条件下进行两次曝光和显影处理，从而重新调整处理条件。构成：将掩模膜（104）涂覆在其上形成有待蚀刻的目标膜（102）的基板（100）上。防反射膜（110）涂覆在掩模膜上。防反射膜由有机和无机材料制成，以防止曝光过程中的漫反射。防反射膜包括无机反射防止膜（106）和有机防反射膜（108）。第一光致抗蚀剂膜涂覆在防反射膜上以形成预留的第一光致抗蚀剂图案。

79. 发明授权

KR101015764B1 통신 시스템에서의 신호 송수신 방법 및 장치 有权
标题翻译：通信系统中发送/接收信号的装置和方法
公开(公告)号：KR101015764B1
公开(公告)日：2011-02-22
申请号：KR1020060097346
申请日：2006-10-02
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최승훈 , 김재열 , 경규범 , 정홍실 , 박동식 , 김영호 , 양경철 , 양현구 , 명세호
IPC分类号： H04L1/18
CPC分类号： H04L1/1819 , H04L1/1867
摘要： 본 발명은, 통신 시스템에서 신호 송수신 방법에 있어서, 초기 전송 시 정보어 비트들을 입력하고, 제1패리티 검사 행렬을 이용하여 상기 정보어 비트들을 부호화하여 제1부호화율을 갖는, 상기 정보어 비트들과, 제1패리티 비트들을 포함하는 제1부호어 패킷을 생성하고, 상기 제1부호어 패킷을 수신기에게 전송하는 과정과, 제1재전송 요구 시, 상기 제1부호어 패킷을 입력하고, 제2패리티 검사 행렬을 이용하여 상기 제1부호어 패킷을 부호화하여 제2부호화율을 갖는, 상기 정보어 비트들과 상기 제1패리티 비트들 및 제2패리티 비트들을 포함하는 제2부호어 패킷을 생성하고, 상기 제2패리티 비트들을 상기 수신기에게 전송하는 과정과, 제2재전송 요구 시, 상기 제2부호어 패킷을 입력하고, 제3패리티 검사 행렬을 이용하여 상기 제2부호어 패킷을 부호화� �여 제3부호화율을 갖는, 상기 정보어 비트들과 상기 제1패리티 비트들과 상기 제2패리티 비트들 및 제3패리티 비트들을 포함하는 제3부호어 패킷을 생성하고, 상기 제3패리티 비트들을 상기 수신기에게 전송하는 과정을 포함하며; 상기 제2패리티 검사 행렬은 상기 제1패리티 검사 행렬을 밀도 진화를 이용하여 확장해서 생성되고, 상기 제3패리티 검사 행렬은 상기 제2패리티 검사 행렬을 밀도 진화를 이용하여 확장해서 생성되고, 상기 밀도 진화는 상기 제1부호화율을 모부호로 가지며, 상기 제1패리티 검사 행렬에 새로운 패리티 비트들을 추가하는 확장법임을 특징으로 한다.
HARQ, 재전송 프로토콜

80. 发明授权

KR101015714B1 하이브리드 자동 반복 요구를 사용하는 시스템에서 다수의모부호를 이용한 재전송 방법 및 장치 有权
标题翻译：使用HARQ的多个母码系统重复的装置和方法
公开(公告)号：KR101015714B1
公开(公告)日：2011-02-22
申请号：KR1020060079038
申请日：2006-08-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 최승훈 , 김재열 , 경규범 , 정홍실 , 박동식 , 김영호 , 양경철 , 양현구 , 명세호
IPC分类号： H04L1/16
CPC分类号： H04L1/1819 , H04L1/0009
摘要： 본 발명은 통신 시스템에서 하이브리드 자동 반복 요구 재전송 방법에 있어서, 복수 개의 모부호들을 구비하고, 상기 모부호들의 부호율들 중 하나를 초기 전송 부호율로 선택하는 과정과, 상기 복수 개의 모부호들의 부호율들로 부호화된 부호어 패킷들 각각에 대해서 재전송 단위를 결정하는 과정과, 재전송 요구가 있을 때마다, 해당 부호어 패킷들을 각각 결정된 재전송 단위로 재전송하는 과정을 포함하며; 상기 결정하는 과정은; 상기 부호어 패킷들 각각의 정보어 심볼 크기가 동일할 경우, 상기 부호어 패킷들 각각을 상기 부호어 패킷들 각각에 대해 선택된 초기 전송 부호율에 상응하는 서브 패킷 단위로 분할하여 서브 패킷을 복수개 생성하는 과정과, 상기 서브 패킷을 상기 부호어 패킷들 각각의 재전송 단위로 결정하는 과정을 포함한다.
HARQ, 재전송, 프로토콜, 부호 체인, 모부호, 유효 부호율

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