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1. 发明公开

KR1020120069293A 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120069293A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：KR1020100130786
申请日：2010-12-20
申请人： 제일모직주식회사 , 삼성전자주식회사
发明人： 조현용 , 정민국 , 정지영 , 이종화 , 유용식 , 이정우 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L21/0273 , G03F7/0163 , G03F7/0166 , G03F7/0395 , G03F7/0397 , H01L21/0274 , H01L2924/00
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition is provided to improve patter shapes by including polybenzoxazole precursors, photo-sensitive diazoquinone compounds, silane compounds, phenol compounds, and a solvent. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes polybenzoxazole precursors, photo-sensitive diazoquinone compounds, silane compounds, phenol compounds, and a solvent. The polybenzoxazole precursors include repeating units represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, X1 and X2 are respectively aromatic organic groups or tetravalent to hexavalent aliphatic organic groups; Y1 is an aromatic organic group or a divalent to hexavalent organic group; R1 and R2 are respectively C1 to C6 alkylene groups; and R3 is a C1 to C6 alkyl group.
摘要翻译：目的：提供正型感光树脂组合物，通过包括聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂来改善图案形状。构成：正型感光树脂组合物包括聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂。聚苯并恶唑前体包括由化学式1表示的重复单元。在化学式1中，X 1和X 2分别是芳族有机基团或四价至六价的脂族有机基团; Y1是芳族有机基团或二价至六价有机基团; R1和R2分别为C1〜C6亚烷基; 且R 3为C 1至C 6烷基。

2. 发明授权

KR101423539B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101423539B1
公开(公告)日：2014-07-25
申请号：KR1020100130786
申请日：2010-12-20
申请人： 제일모직주식회사 , 삼성전자주식회사
发明人： 조현용 , 정민국 , 정지영 , 이종화 , 유용식 , 이정우 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： (A) 하기 화학식 1의 반복단위를 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물이 제공된다.
[화학식 1]

상기 식에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.

3. 发明公开

KR1020120066923A 신규 페놀 화합물 및 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물 无效
标题翻译：新型酚醛化合物和含有它们的正型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020120066923A
公开(公告)日：2012-06-25
申请号：KR1020100128277
申请日：2010-12-15
申请人： 제일모직주식회사 , 삼성전자주식회사
发明人： 정지영 , 정민국 , 조현용 , 유용식 , 이정우 , 이종화 , 전환승 , 김수영 , 김영호 , 김재현 , 박수민
IPC分类号： C07C69/84 , G03F7/039 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/0226 , C07C69/84 , G03F7/0233
摘要： PURPOSE: A positive type photosensitive composition is provided to improve physical properties and reliability of a membrane, and to boating excellent sensitivity, resolution, pattern formation, removal of residue, high elongation, high tensile strength, and low membrane shrinkage. CONSTITUTION: A phenol compound comprises one selected from a group consisting of a compound in chemical formula 1, a compound in chemical formula 2, and combinations thereof. A positive type photosensitive composition comprises 100.0 parts by weight of polybenzoxazole precursor, 5-100 parts by weight of a photosensitive diazoquinone compound, 1-30 parts by weight of a phenol compound, 0.1-30 parts by weight of a silane compound, and 50-300 parts by weight of a solvent. The polybenzoxazole precursor has the weight average molecular weight of 3,000-300,000.
摘要翻译：目的：提供一种正型感光组合物，以改善膜的物理性能和可靠性，并且具有优异的灵敏度，分辨率，图案形成，残留物的去除，高伸长率，高拉伸强度和低膜收缩率。构成：酚化合物包括选自化学式1中的化合物，化学式2中的化合物及其组合的一种酚化合物。正型感光性组合物包含100.0重量份聚苯并恶唑前体，5-100重量份光敏重氮醌化合物，1-30重量份酚化合物，0.1-30重量份硅烷化合物和50 -300重量份溶剂。聚苯并恶唑前体的重均分子量为3,000-300,000。

4. 发明授权

KR101432603B1 감광성 노볼락 수지, 이를 포함하는 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막 및 이를 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：光敏酚醛树脂，含有它们的正性感光树脂组合物，使用它们的感光树脂层和包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR101432603B1
公开(公告)日：2014-08-21
申请号：KR1020110146190
申请日：2011-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이종화 , 조현용 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , C08G61/00
CPC分类号： G03F7/0233 , C08G8/28 , C08G73/22 , C08L61/14 , C08L79/04 , G03F7/023 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： 하기 화학식 1로 표시되는 구조단위 및 하기 화학식 2로 표시되는 구조단위를 포함하는 감광성 노볼락 수지를 제공한다.
[화학식 1]

[화학식 2]

(상기 화학식 1 및 2에서, R
11 , R
12 , R
13 및 R
14 는 명세서에서 정의한 바와 같다.)

5. 发明授权

KR101400189B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
公开(公告)号：KR101400189B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100136758
申请日：2010-12-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 임미라 , 전환승 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
摘要： (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 랜덤공중합체 형태로 포함하는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매;를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물가 제공된다.
[화학식 1]

상기 화학식 1에서,
X
1 및 X
2 는 각각 독립적으로 방향족 유기기 또는 4 내지 6가의 지방족 유기기이고,
Y
1 은 방향족 유기기 또는 2 내지 6가의 지방족 유기기이고,
Y
2 는 하기 화학식 7로 표시되고,
m 및 n은 각각의 몰비율로서, m+n은 100몰%이고,
m은 0 내지 99몰%이고,
n은 1 내지 100몰%이고,
[화학식 7]

상기 화학식 7에서,
A
3 는 페닐렌, 나프틸렌 또는 안트라세닐렌이고,
양 끝의 결합 부위가 A
3 에서 인돌인 방향의 정방향으로 화학식 1 내에서 결합되거나, 또는 그 반대로 인돌린에서 A
3 의 역방향으로 결합된다.

6. 发明授权

KR101400186B1 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
公开(公告)号：KR101400186B1
公开(公告)日：2014-05-27
申请号：KR1020100140593
申请日：2010-12-31
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이종화 , 조현용 , 임미라 , 전환승 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0233 , G03F7/0236 , G03F7/0751 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： (A) 화학식 1로 표시되는 반복단위, 화학식 2로 표시되는 반복단위, 또는 이들의 조합을 포함하고, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 열중합성 관능기를 갖는 제1 폴리벤조옥사졸 전구체(polybenzoxazole precursor), 화학식 4로 표시되는 반복단위, 화학식 5로 표시되는 반복단위, 또는 이들의 조합을 포함하는 제2 폴리벤조옥사졸 전구체, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택되는 폴리벤조옥사졸 전구체; (B) 노볼락(novolac) 수지; (C) 감광성 디아조퀴논 화합물; (D) 실란 화합물; 및 (E) 용매를 포함하고, 상기 노볼락 수지는 화학식 6으로 표시되는 반복단위를 포함하는 화합물을 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 사용하여 제조된 감광성 수지막을 제공한다.

7. 发明授权

KR101333704B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101333704B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020090133229
申请日：2009-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이정우 , 유용식 , 조현용 , 정지영 , 정두영 , 이종화 , 정민국 , 차명환 , 전환승
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/039 , G03F7/0755
摘要： 본 기재는 (A) 폴리벤조옥사졸 전구체, 폴리아믹산 또는 이들의 조합에서 선택되는 수지 전구체, (B) 비점이 210℃ 내지 400℃이고, 극성도가 1D 내지 4D인 용해 조절제, (C) 산 발생제, (D) 실란계 화합물 및 (E) 용매를 포함하고, 이때 상기 폴리벤조옥사졸 전구체는 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 포함하거나 또는 하기 화학식 1 및 화학식 2의 반복단위를 모두 포함하며, 적어도 한 쪽의 말단 부분에 열중합성 관능기를 갖는 것이고, 상기 폴리아믹산은 하기 화학식 50 및 화학식 51의 반복단위를 포함하는 것인 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
[화학식 1]

[화학식 2]

(상기 화학식 1 및 화학식 2에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)
[화학식 50]

[화학식 51]

(상기 화학식 50 및 화학식 51에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)
포지티브, 폴리벤조옥사졸 전구체, 용해 조절제, 알칼리 수용액, 반도체 장치
摘要翻译：基材是（A）聚苯并恶唑前体，聚酰胺酸或树脂前体从它们的组合选择的，（B），其具有的沸点为210℃至400℃时，极性也是一维到四维的溶解控制剂，（C）酸发生剂，（d）硅烷化合物和（E）包含溶剂，其中，所述聚苯并恶唑前体具有以包含由式表示的重复单元（1）或以包含所有式（1）和式的重复单元（2）的和将具有至少在一侧的末端部分失去了一个合成的官能团，所述聚酰胺酸是在大约正型感光性树脂组合物包括重复式50和式51的单元。

8. 发明授权

KR101333693B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：正型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101333693B1
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：KR1020090122574
申请日：2009-12-10
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 유용식 , 이정우 , 조현용 , 정지영 , 정민국 , 전환승 , 김정현 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022
摘要： 본 기재는 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 이 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 폴리아마이드 고분자; (B) 에스테르화된 퀴논디아지드 화합물; (C) 크라운 에테르 화합물; 및 (D) 용매를 포함한다.
[화학식 1]

(상기 화학식 1에서 각 치환기의 정의는 명세서에 정의된 것과 동일하다.)
또한 상기 포지티브형 감광성 수지 조성물을 사용하여 제조된 수지막 및 반도체 소자를 제공한다.
포지티브, 감광성 수지 조성물, 폴리아마이드, 반도체 소자 보호막, 크라운 에테르 화합물, 알칼리 수용액
摘要翻译：本发明涉及一种正型感光性树脂组合物，其包含（A）由下式（1）表示的聚酰胺聚合物; （B）酯化醌二叠氮化合物; （C）冠醚化合物; 和（D）溶剂。

9. 发明授权

KR101257696B1 포지티브형 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101257696B1
公开(公告)日：2013-04-24
申请号：KR1020080111329
申请日：2008-11-10
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 정지영 , 정민국 , 정두영 , 조현용 , 유용식 , 이종화 , 이길성
IPC分类号： G03F7/039
摘要： 본 발명은 포지티브형 감광성 수지 조성물에 관한 것으로서, 이 포지티브형 감광성 수지 조성물은 (A) 하기 화학식 1로 표시되는 반복단위를 갖는 폴리벤조옥사졸 전구체(poly benzoxazole precursor); (B) 감광성 디아조퀴논 화합물; (C) 실란 화합물; (D) 페놀 화합물; 및 (E) 용매를 포함한다.
[화학식 1]

(상기 화학식 1에서, 각 치환기의 정의는 명세서에 기재된 바와 동일하다.)
포지티브형, 감광성 폴리벤조옥사졸 전구체 조성물, 저온 경화, 알칼리 수용액, 페놀 화합물, 반도체 장치

10. 发明公开

KR1020120075949A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 이를 포함하는 감광성 수지막 및 상기 감광성 수지막을 포함하는 반도체 소자 有权
标题翻译：阳离子型感光性树脂组合物，使用阳离子型感光树脂组合物的感光树脂层，以及包含感光树脂层的半导体器件
公开(公告)号：KR1020120075949A
公开(公告)日：2012-07-09
申请号：KR1020100137875
申请日：2010-12-29
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 조현용 , 이종화 , 임미라 , 전환승 , 정민국 , 정지영 , 차명환
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/016 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0395 , G03F7/0163 , G03F7/0166 , G03F7/0397 , H01L21/0273 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A positive type photo-sensitive resin composition, a photo-sensitive resin film including the same, and a semiconductor device including the photo-sensitive resin film are provided to overcome film thickness related problems. CONSTITUTION: A positive type photo-sensitive resin composition includes a polybenzoxazole precursor with a repeating unit in the form of random copolymer, a photo-sensitive diazoquinone compound, a silane compound, a phenol compound, and a solvent. The repeating unit is represented by chemical formula 1. In chemical formula 1, X1 is derived from a diamine compound represented by chemical formula 30; X2 is an aromatic organic group or a tetravalent to hexavalent organic group; Y1 and Y2 are respectively aromatic organic groups or divalent to hexavalent aliphatic organic groups; m and n are molar ratio, and the sum of m and n is 100 mol%; and m is 1 to 99 mol%, and n is 1 to 99 mol%.
摘要翻译：目的：提供正型感光性树脂组合物，含有该感光性树脂膜的感光性树脂膜和包含感光性树脂膜的半导体装置，以克服膜厚相关的问题。构成：正型感光树脂组合物包括具有无规共聚物形式的重复单元的聚苯并恶唑前体，光敏重氮醌化合物，硅烷化合物，酚化合物和溶剂。重复单元由化学式1表示。在化学式1中，X1衍生自化学式30表示的二胺化合物; X2是芳族有机基团或四价至六价有机基团; Y1和Y2分别是芳族有机基团或二价至六价脂族有机基团; m和n是摩尔比，m和n的总和是100摩尔％; m为1〜99摩尔％，n为1〜99摩尔％。

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