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31. 发明公开

KR1020170066248A 포토레지스트 웨이퍼들의 노광 후 프로세싱을 위한 방법 및 장치 审中-实审
标题翻译：用于光刻胶晶片的后曝光处理的方法和设备
公开(公告)号：KR1020170066248A
公开(公告)日：2017-06-14
申请号：KR1020160160617
申请日：2016-11-29
申请人： 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
发明人： 바바얀,비아츠슬라브 , 부츠버거,더글라스에이.,주니어 , 리앙,퀴웨이 , 고뎃,루도빅 , 네마니,스리니바스디. , 우드루프,다니엘제이. , 하리스,랜디 , 무어,로버트비.
IPC分类号： G03F7/16 , G03F7/20 , H01L21/027 , H01L21/02
CPC分类号： G03F7/2035 , H01L21/68764
摘要： 본원에서설명되는실시예들은, 액침필드가이드노광-후베이크프로세스(immersion field guided post exposure bake process)들을수행하기위한방법들및 장치에관한것이다. 본원에서설명되는장치의실시예들은, 프로세싱볼륨을정의하는챔버바디를포함한다. 페디스털이프로세싱볼륨내에배치될수 있고, 제 1 전극이페디스털에커플링될수 있다. 이동가능한스템이페디스털반대편에서챔버바디를통해연장할수 있으며, 그리고제 2 전극이, 이동가능한스템에커플링될수 있다. 특정실시예들에서, 유체컨테인먼트링(fluid containment ring)이페디스털에커플링될수 있으며, 그리고유전체컨테인먼트링이제 2 전극에커플링될수 있다.
摘要翻译：这里描述的实施例涉及用于执行浸没场导向后曝光烘烤过程的方法和装置。这里描述的设备的实施例包括限定处理容积的腔室主体。基座可以布置在处理容积内，并且第一电极可以联接到基座。可动杆可以在相对的基座处延伸穿过腔室主体，并且第二电极可以联接到可动杆。在某些实施例中，流体容纳环可以联接到基座，并且电介质容纳环现在可以联接到两个电极。

32. 发明公开

KR1020160085905A 패턴 형성 방법, 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 전자 디바이스의 제조 방법, 및, 전자 디바이스 有权
标题翻译：图案形成方法，主动感光或辐射敏感性树脂组合物，制造电子设备的方法和电子设备
公开(公告)号：KR1020160085905A
公开(公告)日：2016-07-18
申请号：KR1020167017683
申请日：2014-12-26
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 카토케이타 , 오우케이유 , 시라카와미치히로 , 고토아키요시 , 코지마마사후미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/42 , G03F7/11 , G03F7/00 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2035 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325 , G03F7/004 , G03F7/0048 , G03F7/0382 , G03F7/32 , H01L21/0274
摘要： 본발명은, (A) 산의작용에의하여극성이증대되어유기용제를포함하는현상액에대한용해도가감소하는수지, (B) 특정활성광선또는방사선의조사에의하여산을발생하는화합물, 및 (C) 용제를포함하는감활성광선또는감방사선성수지조성물을이용하여, 막을형성하는공정, 그막을노광하는공정, 그리고노광된막을유기용제를포함하는현상액을이용하여현상하는공정을포함하는패턴형성방법으로서, 수지 (A)가, 극성기가산의작용에의하여분해하여탈리하는탈리기로보호된구조를갖고, 탈리기가하기일반식 (I)로나타나는기인, 패턴형성방법에관한것이다. [화학식 1]

33. 发明授权

KR101419195B1 마스크, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：掩模，曝光装置和器件制造方法
公开(公告)号：KR101419195B1
公开(公告)日：2014-07-15
申请号：KR1020137024709
申请日：2007-09-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/38 , G03F7/201 , G03F7/2035 , G03F7/703 , G03F7/70358 , G03F9/00 , G03F9/70 , G03F9/7023
摘要： 마스크는 투영 광학계를 통해 기판 위에 패턴의 상(像)을 형성하기 위한 원통 형상의 마스크이다. 마스크는, 패턴이 형성되며, 정해진 축 주위에 배치된 패턴 형성면을 갖고, 기판의 적어도 정해진 일차원 방향으로의 이동에 동기하여, 정해진 축을 회전축으로 해서 회전 가능하며, 패턴 형성면에 있어서의 마스크의 직경을 D, 일차원 방향에 있어서의 기판의 최대의 길이를 L, 투영 광학계의 투영 배율을 β, 원주율을 π로 했을 때, D≥(β×L)/π의 조건을 만족한다.
摘要翻译：掩模是用于通过投影光学系统在基板上形成图案的图像的圆柱形掩模。形成掩模图案，具有与基材的至少预定的一维方向上的移动的图案形成设置在所述固定轴的表面，在同步，可以通过将旋转轴限定的轴线，并在图案形成面的掩模旋转当在d，衬底的在一维方向L的最大长度，所述投影光学系统，PI直径π，D≥的投影倍率β;应满足的条件（β＆倍L）/π。

34. 发明授权

KR100928389B1 흐름 리소그래피 및 중합에 의한 마이크로구조 합성 有权
标题翻译： 흐름리소그래피및중합에의한마이크로구조합성
公开(公告)号：KR100928389B1
公开(公告)日：2009-11-23
申请号：KR1020087012355
申请日：2006-10-25
申请人： 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지
发明人： 도일,패트릭,에스. , 프레기본,다니엘,씨. , 덴두쿠리,다난자이
IPC分类号： H05B6/68 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2012 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , G03F7/2035
摘要： 중합체 마이크로구조 합성 방법에서는 단량체 스트림을 선택된 유속으로 유체 채널을 통해 흐르게 한다. 하나 이상의 형상화된 조명 펄스를 단량체 스트림에 투사하고, 조명 펄스에 의해 단량체 스트림에서 마이크로구조 형상이 중합되면서 조명 펄스 형상에 상응하는 하나 이상의 마이크로구조의 형상을 단량체 스트림에 한정한다.
마이크로구조, 연속 흐름 리소그래피, 정지 흐름 리소그래피
摘要翻译：在用于合成聚合物微结构的方法中，单体流以选定的流速通过流体通道流动。将至少一个成形的照射脉冲投射到单体流，在单体流中限定与照射脉冲形状对应的至少一个微结构的形状，同时通过照射脉冲聚合单体流中的微结构形状。

35. 发明公开

KR1020090117398A 약액도포장치 有权
标题翻译：用于在基材上涂布光刻胶的装置
公开(公告)号：KR1020090117398A
公开(公告)日：2009-11-12
申请号：KR1020080043427
申请日：2008-05-09
申请人： 주식회사 디엠에스
发明人： 이준석 , 강지은
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2035 , G03F7/16 , G03F7/70716 , G03F7/70875 , H01L21/0274 , H01L21/67017 , H01L21/67126 , H01L21/6715 , H01L21/67706
摘要： PURPOSE: An apparatus for coating photoresist on a substrate is provided to reduce inferiority by preventing spots generated during a photoresist coating process by cooling the temperature of the gas discharged to a discharge channel of a floating stage. CONSTITUTION: An apparatus for coating photoresist on a substrate comprises: a worktable; a transport unit which is installed on the top of a worktable and includes plural floating stages transferring a substrate(G); a slit nozzle which is installed at the upper side of the worktable and applies photoresist on the substrate; a floating gas unit(18) for supplying the gas to the floating stage; and a temperature controller(19) for adjusting the temperature of the air supplied to the floating stage.
摘要翻译：目的：提供一种用于在基板上涂覆光致抗蚀剂的设备，以通过冷却喷射到浮动级的排放通道的气体的温度来防止在光致抗蚀剂涂覆过程中产生的斑点来降低劣质。构成：用于在衬底上涂覆光致抗蚀剂的设备包括：工作台; 传送单元，其安装在工作台的顶部，并且包括传送基板（G）的多个浮动台。狭缝喷嘴，其安装在工作台的上侧并在基板上施加光致抗蚀剂; 用于将气体供应到浮动级的浮式气体单元（18）; 以及用于调节供应到浮动级的空气的温度的温度控制器（19）。

36. 发明授权

KR100918600B1 기판 웹 상의 동기화된 포토리소그래픽 노광에 의해 디스플레이를 롤-투-롤 제조하는 방법 失效
标题翻译：在基板上通过同步光刻曝光在显示器上滚动制造的过程
公开(公告)号：KR100918600B1
公开(公告)日：2009-09-25
申请号：KR1020037010765
申请日：2002-02-14
申请人： 이 잉크 캘리포니아, 엘엘씨
发明人： 찬-박메리 , 천셴하이 , 우장-아조지 , 왕샤오자 , 장홍메이 , 량롱-창
IPC分类号： G02F1/167
CPC分类号： G02F1/167 , G02F1/133305 , G02F1/133377 , G02F2001/1672 , G03F7/0007 , G03F7/2035 , G03F7/24
摘要： 본 발명은 전기영동 디스플레이 또는 액정 디스플레이, 및 신규한 그 제조 프로세스에 관한 것이다. 본 발명의 전기영동 디스플레이 (EPD) 는 적어도 등방성 컵 재료의 반사율과 일치되는 통상의 반사율을 가지는 액정 조성물로 충전되는 잘-정의된 마이크컵들을 구비한다. 본 발명의 신규한 롤-투-롤 방법 및 장치는 디스플레이 제조를 동기화된 포토리소그래픽 공정에 의해 연속적으로 수행할 수 있다. 동기화된 롤-투-롤 방법 및 장치는 연속적인 루프로서 형성되는 미리 패터닝되어 있는 포토마스크를 방사감응 재료로 미리 코팅되었던 웹에 거의 평행하게 정렬되는 동기화 움직임에 의해 회전시킬 수 있다. 방사감응 재료는 방사경화성 재료일 수 있으며, 여기서 노광되어 경화되는 부분들은 마이크로컵 구조를 형성한다. 부가적인 공정 단계에서, 방사감응 재료는 상기 마이크로컵들을 임시적으로 밀봉하는 양성으로 작용하는 포토레지스터일 수 있다. 포토마스크 이미지를 통한 마이크로컵들의 선택 서브세트의 노광에 의해 그 마이크컵 서브세트를 선택적으로 재개구, 충전 및 밀봉할 수 있다. 추가적인 컬러들을 반복하여 다색 EPD 또는 LCD 디스플레이를 연속적으로 조립할 수 있다
전기영동 디스플레이, 방사감응 재료, 노광

37. 发明公开

KR1020090064349A 마스크, 노광 장치, 노광 방법 및 그 노광 장치 또는 노광 방법을 이용한 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：掩模，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020090064349A
公开(公告)日：2009-06-18
申请号：KR1020087023087
申请日：2007-09-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/38 , G03F7/201 , G03F7/2035 , G03F7/703 , G03F7/70358 , G03F9/00 , G03F9/70 , G03F9/7023 , G03F7/70291 , G03F7/70758 , G03F7/70766 , G03F7/70841
摘要： Provided is a tube-like mask for forming an image of a pattern on a substrate through a projection optical system. The mask has a pattern forming surface which is provided with the pattern formed thereon and is arranged around a prescribed shaft. The mask can be rotated, in synchronization with shift of the substrate at least in a prescribed one dimensional direction, with the prescribed shaft as a rotating shaft, and a condition of D>(beta X L)/pi is satisfied, where D is the diameter of the mask on the pattern forming surface, L is the maximum length of the substrate in the one dimensional direction, beta is the projection magnification ratio of the projection optical system, and pi is a circular constant.
摘要翻译：提供一种用于通过投影光学系统在基板上形成图案的图像的管状掩模。掩模具有图案形成表面，该图案形成表面设置有形成在其上的图案并且围绕规定的轴布置。至少在规定的一维方向上，可以使基板与基板的移动同步，使规定的轴作为旋转轴，并且满足D>（βXL）/ pi的条件，其中D为图案形成表面上的掩模的直径，L是基板在一维方向上的最大长度，β是投影光学系统的投影倍率，pi是圆形常数。

38. 发明公开

KR1020080043876A 패턴 노광 방법 및 패턴 노광 장치 有权
标题翻译：图案曝光方法和图案曝光装置
公开(公告)号：KR1020080043876A
公开(公告)日：2008-05-19
申请号：KR1020087008409
申请日：2006-09-05
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 미노사토시 , 후지이타케시 , 타카다노리히사
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/7035 , G03F7/70425 , G03F7/0285 , G03F7/2035 , G03F7/70025
摘要： A belt-like work (11) provided with a photosensitive layer is conveyed in a work conveying direction F at a work conveying speed V. An illuminating section (30) illuminates a photomask (29) in an exposure period T synchronized with the work conveying speed V. The photomask (29) is disposed at a proximity gap from the belt-like work (11). Mask pattens (33) on the photomask (29) are exposed on the belt-like work (11) to form periodic pattens thereon.
摘要翻译：设置有感光层的带状工件（11）以工件输送速度V在工件输送方向F上被输送。照明部（30）在与工件输送同步的曝光期间T中照射光掩模（29）光掩模（29）设置在与带状工件（11）的接近间隙处。在光掩模（29）上的掩模（33）暴露在带状工件（11）上，以在其上形成周期性的印模。

39. 发明授权

KR100548937B1 필름 마스크를 이용한 스캔 타입 노광장치 失效
标题翻译：使用胶片掩模进行扫描型曝光的装置
公开(公告)号：KR100548937B1
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：KR1020040006705
申请日：2004-02-02
申请人： 엘지전자 주식회사
发明人： 김상진
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03B27/42 , G03F7/2035
摘要： 본 발명은 스캔 타입 노광기에 있어서, 특히 필름 마스크를 이용한 스캔 타입 노광장치에 관한 것이다.
본 발명 실시 예에 따른 필름 마스크를 이용한 스캔 타입 노광장치는, 스테이지 상에서 일정 방향으로 이동하는 글래스와; 상기 글래스에 위치 정렬되어 상기 글래스와 동기시켜 이동하며, 전사 패턴이 롤 타입으로 감겨진 필름 마스크와; 수직 방향으로 출사되는 광원을 이용하여 감겨지는 필름 마스크 영역을 스캔하는 스캔 타입 노광기를 포함하는 것을 특징으로 한다.
노광, 스캔타입, 필름마스크

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