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1. 发明公开

KR1020170089761A 노광 장치 审中-实审
标题翻译：曝光装置
公开(公告)号：KR1020170089761A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：KR1020170000700
申请日：2017-01-03
申请人： 가부시기가이샤 디스코
发明人： 세키야가즈마
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G03F7/2002 , G03F7/2022 , G03F7/2035
摘要： (과제) 노광장치를저렴한것으로한다. (해결수단) 노광장치로서, 광원 (3) 과, 조명광학계 (4) 와, 마스크와, 투영광학계 (5) 를포함하고, 마스크는, 1 개의디바이스를구성하는패턴이복수의영역으로분할된소패턴으로이루어지는소마스크 (60A ∼ 60D) 가복수형성되어구성된다. 투영광학계 (5) 는, 소마스크 (60A ∼ 60D) 에대응한크기로구성되어, 소패턴이기판에축소투영된다. 수차의정밀도가요구되어고가의렌즈로이루어지는투영광학계가불필요해지고, 투영면적이작아수차의영향이적은소형의렌즈로이루어지는투영광학계를사용하는것이가능해져, 노광장치를저비용으로제공할수 있다.
摘要翻译： [问题]使曝光装置便宜。曝光设备包括光源3，照明光学系统4，掩模和投影光学系统5，掩模是将构成一个器件的图案分成多个区域的图案并且由小图案制成的小掩模60A至60D通过以不规则的方式形成而形成。投影光学系统5具有与小掩模60A至60D相对应的尺寸，使得小图案以减小的尺寸投影在基板上。需要像差的精度，并且不需要由昂贵的透镜构成的投影光学系统，并且可以使用由具有小投影面积且几乎没有像差影响的小透镜构成的投影光学系统，并且可以以低成本提供曝光装置。

2. 发明公开

KR1020130102457A 노광 방법 및 노광 장치 有权
标题翻译：曝光方法和曝光装置
公开(公告)号：KR1020130102457A
公开(公告)日：2013-09-17
申请号：KR1020127029241
申请日：2011-03-03
申请人： 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디
发明人： 가지야마고이찌 , 미즈무라미찌노부
IPC分类号： G03F9/00 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/22
CPC分类号： G03F7/2035 , G03F7/70791 , G03F9/00 , G03F9/7003 , G03F7/22 , H01L21/0275
摘要： Disclosed is an exposure method for sequentially exposing a predetermined pattern onto a pattern forming area of a substrate through a photomask while moving the substrate in a prescribed direction, said exposure method comprising: a step for forming an alignment mark by irradiating laser light onto an area outside the pattern forming area in a direction that crosses the substrate moving direction and denting a certain shape into the surface of the substrate, while exposing the pattern onto the substrate; a step for detecting misalignment of the alignment mark in the direction that crosses the substrate moving direction, with respect to a prescribed reference position in the rear of the substrate moving direction; a step for moving the substrate and the photomask relative to each other so as to correct the aforementioned misalignment; and a step for exposing the next pattern at the succeeding position of the pattern. Hereby, a pattern can be exposed onto a larger unpatterned substrate with great accuracy and at low cost.

3. 发明授权

KR100550560B1 패턴 제작 장치 및 그 방법 失效
标题翻译：图案制造装置及其制造方法相同
公开(公告)号：KR100550560B1
公开(公告)日：2006-02-10
申请号：KR1020030091997
申请日：2003-12-16
申请人： 전자부품연구원 , 엘지전자 주식회사
发明人： 박석호 , 최영준 , 오현석 , 임재하 , 정석원
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70791 , G03F7/0005 , G03F7/201 , G03F7/2035 , G03F7/24
摘要： 본 발명은
기판에 패턴을 형성하는 장치 및 그 방법에 관한 것으로서 패턴을 형성하고자 하는 감광제가 도포된 기판이 이동 가능하도록 상기 기판이 상부에 얹혀진 가이드와, 상기 가이드 상측에 설치되는 마스크와, 상기 가이드에 접하는 방향으로 노광용 빔을 조사하는 빔장치와, 상기 가이드를 회전시키는 구동부와, 상기 기판의 양끝을 각각 감거나 풀도록 하여 상기 기판을 고정하거나 기판의 이송을 도와주는 보조 가이드를 포함하여 구성되어, 감광제가 도포된 기판을 가이드에 얹히고 이를 회전시키면서 노광용 빔을 조사하여, 연속적인 경사 구조물을 갖는 대면적의 디스플레이용 패턴의 제작이 가능하도록 한다.
노광 장치, 마스크, 빔장치

4. 发明授权

KR101869821B1 RTR 노광 시스템 有权
公开(公告)号：KR101869821B1
公开(公告)日：2018-07-19
申请号：KR1020170117725
申请日：2017-09-14
申请人： 주식회사 넥서스원 , 황병문
发明人： 황병문
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/24 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/2035 , G03F7/24 , G03F9/7003
摘要： 연성회로기판의베이스소재로사용되는필름형상의기재에관한노광처리공정에서기재의장력상태를최적으로유지시킬수 있는 RTR 노광시스템에관한것으로, 광원및 조명광학계를구비한노광부재, 상기노광부재를향해기재를공급하는공급부재, 상기노광부재에의해처리된기재를감는감기부재, 상기노광부재에의한노광처리를위해상기공급부재에서공급된상기기재를흡착하여유지시키는스테이지부재, 상기기재의상태를감지하는감지부재, 상기감지부재에서감지된기재의상태에따라상기공급부재, 감기부재및 스테이지부재의작동상태를제어하는제어수단을포함하고, 상기감지부재는상기공급부재와감기부재에각각마련되고, 상기공급부재에서공급되는기재의인장력과상기감기부재에서감기는기재의인장력을감지함과동시에공급부재에서공급되는기재의상태와감기부재에감긴기재의상태를감지하는구성을마련하여, 기재에관한노광작업을최적화하여실행할수 있다.

5. 发明授权

KR101756882B1 패턴 형성 방법, 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 전자 디바이스의 제조 방법, 및, 전자 디바이스 有权
公开(公告)号：KR101756882B1
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：KR1020167017683
申请日：2014-12-26
申请人： 후지필름 가부시키가이샤
发明人： 카토케이타 , 오우케이유 , 시라카와미치히로 , 고토아키요시 , 코지마마사후미
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/32 , H01L21/027 , G03F7/42 , G03F7/11 , G03F7/00 , G03F7/075
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2035 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/325
摘要： 본발명은, (A) 산의작용에의하여극성이증대되어유기용제를포함하는현상액에대한용해도가감소하는수지, (B) 특정활성광선또는방사선의조사에의하여산을발생하는화합물, 및 (C) 용제를포함하는감활성광선또는감방사선성수지조성물을이용하여, 막을형성하는공정, 그막을노광하는공정, 그리고노광된막을유기용제를포함하는현상액을이용하여현상하는공정을포함하는패턴형성방법으로서, 수지 (A)가, 극성기가산의작용에의하여분해하여탈리하는탈리기로보호된구조를갖고, 탈리기가하기일반식 (I)로나타나는기인, 패턴형성방법에관한것이다. [화학식 1]

6. 发明公开

KR1020140012036A 포토이미징 审中-实审
标题翻译：光成像
公开(公告)号：KR1020140012036A
公开(公告)日：2014-01-29
申请号：KR1020137015659
申请日：2011-11-11
申请人： 레인보우 테크놀로지 시스템스 리미티드
发明人： 케넷조나단 , 커닝햄존 , 깁슨로버트
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/67
CPC分类号： G03F7/2012 , G03F7/2035 , H05K3/0082 , H05K3/064 , H05K3/3452 , H05K2203/0143 , H05K2203/107 , H05K2203/1545 , Y10T428/24802
摘要： 본 발명은 포토이미징 방법 및 장치에 대한 것이다. 더욱 상세하게는, 본 발명은 액상의 경화성 포토폴리머로 덮인 웹(web)과 같은 기판을 (예컨대 직접) 포토이미징하는 방법 및 장치에 관한 것으로, 회전 가능한 포토툴(phototool)이 기판에 대해 프레싱되고 회전되어, 인쇄 회로 기판(PCB, printed circuit board), 평판 디스플레이 및 플렉서블 회로와 같은 전기 회로들을 형성하기에 적합한 이미지들을 형성하는데 사용되는 이미징된 기판(imaged substrate)을 생성하는, 포토이미징하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 경화 가능한 ? 포토폴리머로 덮인 기판을 직접 포토이미징하는 방법 및 장치에 대한 것인데, 포토이미징된 기판은 전기 회로들과 같은 이미지들을 형성하는데 사용되며, 본 발명은 또한 인쇄 회로 기판 상의 솔더 마스크의 적어도 일부분을, 후에 솔더 마스크 상부의 영역에서 이미징 프로세스가 일어나게 되는 경화 가능한 ? 포토폴리머를 이용하여, 노광하는 방법 및 장치에 대한 것이다.

7. 发明公开

KR1020130121990A 마스크, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：掩模，曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020130121990A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：KR1020137024709
申请日：2007-09-07
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 시바자키유이치
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/38 , G03F7/201 , G03F7/2035 , G03F7/703 , G03F7/70358 , G03F9/00 , G03F9/70 , G03F9/7023 , G03F1/14 , G03F7/70783
摘要： 마스크는 투영 광학계를 통해 기판 위에 패턴의 상(像)을 형성하기 위한 원통 형상의 마스크이다. 마스크는, 패턴이 형성되며, 정해진 축 주위에 배치된 패턴 형성면을 갖고, 기판의 적어도 정해진 일차원 방향으로의 이동에 동기하여, 정해진 축을 회전축으로 해서 회전 가능하며, 패턴 형성면에 있어서의 마스크의 직경을 D, 일차원 방향에 있어서의 기판의 최대의 길이를 L, 투영 광학계의 투영 배율을 β, 원주율을 π로 했을 때, D≥(β×L)/π의 조건을 만족한다.

8. 发明授权

KR100882555B1 탐침 현미경을 이용한 리소그래피 장치 및 그 방법 失效
标题翻译：使用扫描探针显微镜进行光刻的方法和装置
公开(公告)号：KR100882555B1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：KR1020070104876
申请日：2007-10-18
申请人： 한양대학교 산학협력단
发明人： 이해원 , 정정주 , 한철수 , 권광민
IPC分类号： G01Q80/00 , G03F7/20 , H01J37/26
CPC分类号： G01Q80/00 , G03F7/2035 , H01J37/2955 , H01L21/0334
摘要： A lithography apparatus and a method using a probe microscope are provided to draw the mathematical model by building the lithography result according to the specific condition to database. A voltage applying unit(110) is controlled by center control units(100). The voltage applying unit performs the lithography by authorizing the voltage to the sample. Current detection units(120) measure the micro current generated by the voltage of the voltage applying unit. The current detection units deliver the measured value to the center control units. An environmental control unit(130) controls the temperature and humidity of the lithography computational environment. A surface measuring unit(140) measures the change amount of the surface height of sample.
摘要翻译：提供光刻设备和使用探针显微镜的方法，通过根据具体的数据库建立光刻结果绘制数学模型。电压施加单元（110）由中央控制单元（100）控制。电压施加单元通过授权对样品的电压进行光刻。电流检测单元（120）测量由电压施加单元的电压产生的微电流。当前检测单元将测量值传送给中央控制单元。环境控制单元（130）控制光刻计算环境的温度和湿度。表面测量单元（140）测量样品的表面高度的变化量。

9. 发明公开

KR1020080070684A 흐름 리소그래피 및 중합에 의한 마이크로구조 합성 有权
标题翻译：通过流动光刻和聚合的微结构合成
公开(公告)号：KR1020080070684A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：KR1020087012355
申请日：2006-10-25
申请人： 메사추세츠 인스티튜트 오브 테크놀로지
发明人： 도일,패트릭,에스. , 프레기본,다니엘,씨. , 덴두쿠리,다난자이
IPC分类号： H05B6/68 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/2012 , B81C99/0095 , B81C2201/0159 , G03F7/2035
摘要： In a method for synthesizing polymeric microstructures, a monomer stream is flowed, at a selected flow rate, through a fluidic channel. At least one shaped pulse of illumination is projected to the monomer stream, defining in the monomer stream a shape of at least one microstructure corresponding to the illumination pulse shape while polymerizing that microstructure shape in the monomer stream by the illumination pulse.
摘要翻译：在合成聚合物微结构的方法中，单体流以选定的流速通过流体通道流动。将至少一个成形的照明脉冲投射到单体流，在单体流中限定与照明脉冲形状相对应的至少一个微结构的形状，同时通过照射脉冲聚合单体流中的微结构形状。

10. 发明授权

KR100804734B1 자외선 롤 나노임프린팅을 이용한 연속 리소그라피 장치 및 방법 有权
标题翻译：连续抛光装置和使用超紫外线纳米压印的方法
公开(公告)号：KR100804734B1
公开(公告)日：2008-02-19
申请号：KR1020070017733
申请日：2007-02-22
申请人： 연세대학교 산학협력단
发明人： 강신일 , 안수호
IPC分类号： H01L21/027 , B82Y40/00
CPC分类号： G03F7/2035 , B29C43/003 , B29C43/222 , B29C43/305 , B29C43/46 , B29C2035/0827 , B29C2043/025 , B29C2043/463 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , H05K1/0393 , H05K3/0079 , H05K3/061 , H05K2203/0113 , H05K2203/0143 , H05K2203/1545 , Y10S977/887
摘要： A continuous lithography apparatus using an ultraviolet roll is provided to embody formation of a high-density high-integrated circuit pattern by forming a fine pattern as compared with a conventional dry film process. By using a pattern roll stamper(321) having a pattern, an ultraviolet roll nano imprinting process is performed on a photoresist layer formed on a conductive layer to form a photoresist layer pattern. A first removing part removes a residual photoresist layer. A second removing part removes the exposed portion of the conductive layer. A third removing part removes the rest of the photoresist layer. The conductive layer can be formed on an insulation substrate.
摘要翻译：提供一种使用紫外线辊的连续光刻设备，以通过与传统的干膜工艺相比形成精细图案来体现高密度高集成电路图案的形成。通过使用具有图案的图案辊压模（321），对形成在导电层上的光致抗蚀剂层进行紫外线纳米压印处理，以形成光致抗蚀剂图案。第一去除部分去除残留的光致抗蚀剂层。第二去除部分去除导电层的暴露部分。第三去除部分去除光致抗蚀剂层的其余部分。导电层可以形成在绝缘基板上。

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