会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 12. 发明公开
    • 디바이스 기판 및 반도체 디바이스의 제조 방법
    • 器件衬底和制造半导体器件的方法
    • KR1020170135898A
    • 2017-12-08
    • KR1020177031871
    • 2015-05-08
    • 후지필름 가부시키가이샤
    • 포마하사이알랭나카무라아츠시카모치요시타카이와이유코야마이치로
    • H01L21/683H01L21/67
    • H01L21/6835H01L21/6836H01L2221/68318H01L2221/68327H01L2221/6834H01L2221/68381H01L21/67103
    • 웨이퍼(22) 표면의금속성볼록부(3) 또는오목부의표면상에형성되는금속산화물이용이하게제거될수 있는디바이스기판의제조방법; 반도체디바이스의제조방법이제공된다. 디바이스기판의제조방법은열가소성수지및 불소원자를함유하는화합물을포함하는임시접착조성물(5)을캐리어상에적용하여임시접착제층(5)을형성하는단계; 및상기캐리어의반대측의상기임시접착제층의표면에주 구성요소가구리이고볼록부(3) 및오목부중 적어도하나를갖는웨이퍼(22)를, 볼록부및 오목부중 적어도하나를갖는측이상기임시접착제층에인접하는방식으로적용하여라미네이트를형성하는단계; 및 170℃이상의온도에서상기라미네이트를가열한후에상기라미네이트로부터상기캐리어를분리하고, 상기임시접착제를더 박리하는단계를포함한다.
    • 一种制造器件基板的方法,在所述器件基板上可以去除在金属凸部(3)的表面或晶片(22)的表面上的凹部中形成的金属氧化物; 提供了一种制造半导体器件的方法。 一种制造器件衬底的方法包括以下步骤:通过施加包含热塑性树脂和含有氟原子的化合物的临时粘合组合物(5)在载体上形成临时粘合剂层(5) 以及晶片(22),其在所述载体的相反侧的所述临时粘接层的表面具有主成分的铜,并具有凸部(3)和凹部中的至少一方, 通过以与该层相邻的方式施加而形成层压体; 然后在至少170℃的温度下加热层压材料,将载体与层压材料分离,并进一步剥离临时粘合剂。