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11. 发明公开

KR1020160080036A 사용자 단말 장치 및 그의 제어 방법 审中-实审
标题翻译：用户终端装置及其控制用户终端装置的方法
公开(公告)号：KR1020160080036A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：KR1020150035825
申请日：2015-03-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 류종현 , 최연호 , 김용호 , 라진 , 박용국 , 배유동 , 임애영 , 정경호
IPC分类号： G06F3/048 , G06F3/0488 , H04M1/725 , G06F3/01
CPC分类号： G06F3/04886 , G06F1/1647 , G06F1/165 , G06F1/1694 , G06F3/002 , G06F3/013 , G06F3/017 , G06F3/03545 , G06F3/0481 , G06F3/04817 , G06F3/0482 , G06F3/04847 , G06F3/04883 , G06F3/165 , G06F2200/1614 , G06F2200/1637 , H04M1/0268 , H04M1/72569 , H04M2250/16 , G06F3/0488 , H04M1/72552 , H04M1/72583
摘要： 사용자단말장치및 이의제어방법이제공된다. 본사용자단말장치는메인영역, 상기메인영역으로부터연장되어상기사용자단말장치의제1 측면으로구부러진제1 서브영역및 상기메인영역으로부터연장되어상기사용자단말장치의제2 측면으로구부러진제2 서브영역으로구성된플렉서블디스플레이, 사용자단말장치의움직임(motion)을감지하는감지부및 감지부를통해감지된사용자단말장치의움직임에따라제1 서브영역및 제2 서브영역중 하나에 UI를제공하도록플렉서블디스플레이를제어하는제어부를포함한다.
摘要翻译：提供一种用户终端装置及其控制方法。用户终端装置包括：柔性显示器，包括主区域，从主区域延伸并弯曲到用户终端设备的第一侧表面的第一子区域以及从主区域延伸并弯曲到第二侧面的第二子区域用户终端设备的表面; 检测单元，检测用户终端设备的运动; 以及控制单元，根据通过检测单元检测到的用户终端设备的运动，控制柔性显示器以向第一子区域和第二子区域中的一个区域提供UI。

12. 发明公开

KR1020160065602A 부착 기기 및 이의 전자 기기 제어 방법 审中-实审
标题翻译：附件装置及其控制电子装置的方法
公开(公告)号：KR1020160065602A
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：KR1020140169798
申请日：2014-12-01
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 김선화 , 김성원 , 안희범 , 김준우 , 라진 , 류종현 , 정경호 , 김용호 , 박용국 , 김명식 , 민찬홍 , 정진혁 , 최우혁
IPC分类号： H04L12/12 , H04L29/02 , H04L29/12
CPC分类号： H04M1/72533 , H04L12/12 , H04L12/2816 , H04L12/2823 , H04L12/4625 , H04L67/12 , H04L67/16 , H04M1/7253 , Y02D50/40 , H04L29/02 , H04L29/12
摘要： 부착기기및 이의전자기기제어방법이제공된다. 본부착기기의제어방법은, 외부기기에서복수의부착기기들목록중 상기부착기기가선택되면, 부착기기가부착된전자기기의일 기능과관련된, 제1 통신포맷으로구성된데이터및 제2 통신포맷으로구성된데이터가매핑된매핑정보를수신하여저장한다. 그리고, 부착기기와통신가능하도록연결된외부기기로부터상기제1 통신포맷으로구성된데이터를수신하면, 상기매핑정보에기초하여제1 통신포맷으로구성된데이터에대응하는제2 통신포맷으로구성된데이터를획득하고, 전자기기의일 기능이수행되도록, 제2 통신포맷으로구성된데이터를부착기기가부착된전자기기로전송할수 있다.
摘要翻译：提供了一种用于其的附接装置和电子装置控制方法，其可以构建智能家居环境而不用新电子装置替换传统装置。根据附件装置的控制方法，映射信息，其中以第一通信格式形成的数据和以第二通信格式形成的数据被映射，并且与附接装置所附接的电子装置的功能有关可以通过外部设备从多个附件装置的列表中选择附件装置时被接收和存储。此外，当从连接到附件装置的外部设备接收到以第一通信格式形成的数据时，可以基于映射信息来获取以第二通信格式形成并适于对应于以第一通信格式形成的数据的数据，通讯。以第二通信格式形成的数据可以发送到附接装置附接到的电子装置，从而可以执行电子装置的功能。

13. 发明公开

KR1020160016524A 웨어러블 글래스 및 웨어러블 글래스를 통하여 영상을 디스플레이하는 방법 审中-实审
标题翻译：透明的玻璃和显示图像的方法
公开(公告)号：KR1020160016524A
公开(公告)日：2016-02-15
申请号：KR1020150020288
申请日：2015-02-10
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정경호
IPC分类号： G02B27/01
CPC分类号： G02B27/017 , G02B2027/0178
摘要： 본개시의일 실시예에따른웨어러블글래스는, 웨어러블글래스에서제공하는영상을디스플레이하는디스플레이, 디스플레이상에영상이표시되는동안, 사용자가웨어러블글래스를착용하고있는착용상태정보를획득하는센싱부, 및착용상태정보를이용하여사용자에대한웨어러블글래스의기울기를결정하고, 결정된기울기에기초하여디스플레이상에표시되는영상을조정하는, 프로세서를포함할수 있다.
摘要翻译：根据所公开的本发明的实施例的可佩戴的眼镜可以包括：用于显示由可穿戴眼镜提供的图像的显示器; 感测部件，用于获取在显示器上显示图像时用户佩戴可佩戴眼镜的佩戴状态信息; 以及处理器，其使用佩戴状态信息确定用户的可佩戴眼镜的梯度，并且基于所确定的梯度来调整显示在显示器上的图像。

14. 发明授权

KR101518280B1 디스플레이 장치 및 디스플레이 방법 有权
标题翻译：显示装置和显示方法
公开(公告)号：KR101518280B1
公开(公告)日：2015-05-08
申请号：KR1020150014774
申请日：2015-01-30
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 허재영 , 김용호 , 라진 , 류종현 , 임애영 , 정경호
IPC分类号： H04N21/4722 , H04N21/443 , G06F1/16 , G06F3/048
CPC分类号： G06F1/1652 , G06F1/1677 , G06F3/017 , G06F3/0487 , G06F21/31 , G06F2203/04803 , H04L63/083 , H04M1/0214 , H04M1/0243 , H04M1/0268 , H04M1/72522 , H04M2250/22 , H04W12/06 , H04W88/02 , H04N21/4722 , G06F1/1637 , G06F3/048 , H04N21/4438
摘要： 디스플레이장치가개시된다. 본디스플레이장치는, 오목하게구부러진메인영역, 메인영역으로부터연장되어디스플레이장치의제1 측면으로볼록하게구부러진제1 서브영역및 메인영역으로부터연장되어디스플레이장치의제2 측면으로볼록하게구부러진제2 서브영역으로구성된플렉서블표시부, 및, 특정이벤트가발생하면, 특정이벤트에대응되는 UI 요소가제1 서브영역및 제2 서브영역중 적어도하나에표시되도록플렉서블표시부를제어하는제어부를포함한다.
摘要翻译：公开了一种显示装置。显示装置包括柔性显示部分，其包括主区域，其被凹入弯曲;第一子区域，其从主区域延伸到凸出地弯曲到显示设备的第一侧表面;以及第二子区域，凸出地弯曲到第二侧面的第二侧表面显示装置从主区域延伸; 以及当特定事件发生时，控制与特定事件相对应的UI元素的灵活显示部分的控制部分。

15. 发明授权

KR101353346B1 주변 회로 영역의 불순물 영역들에 대한 열적 부담을완화시키는 반도체 소자의 제조 방법 失效
标题翻译：制造半导体器件的方法，该半导体器件减少外围电路区域的杂质区域的热量预算
公开(公告)号：KR101353346B1
公开(公告)日：2014-02-17
申请号：KR1020080006281
申请日：2008-01-21
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정경호 , 요시다마코토 , 강재록 , 이철 , 문준석 , 이철규 , 조성일
IPC分类号： H01L29/78
CPC分类号： H01L21/823814 , H01L21/823425 , H01L21/82385
摘要： 주변 회로 영역의 불순물 영역들에 대한 열적 부담을 완화시키는 반도체 소자의 제조 방법이 제공된다. 상기 반도체 소자의 제조 방법은 셀 활성영역 및 주변 활성영역들 각각 갖는 셀 어레이 영역 및 주변 회로 영역을 구비하는 기판을 준비하는 것을 구비한다. 상기 셀 활성영역 및 상기 주변 활성영역을 각각 가로지르는 셀 게이트 패턴 및 주변 게이트 패턴을 형성한다. 상기 셀 게이트 패턴의 양측의 상기 셀 활성영역에 제1 셀 불순물 영역들을 형성한다. 상기 제1 셀 불순물 영역들을 갖는 기판 상에 상기 셀 어레이 영역 및 상기 주변 회로 영역을 각각 덮는 셀 하부 층간절연막 및 주변 절연막을 형성한다. 상기 셀 하부 층간절연막을 관통하여 상기 제1 셀 불순물 영역들과 전기적으로 연결되는 셀 도전성 패드들을 형성한다. 상기 주변 게이트 패턴의 양측의 상기 주변 활성영역들을 노출시키도록 상기 주변 절연막을 제거한다. 상기 주변 게이트 패턴의 양측의 상기 주변 활성영역들에 제1 주변 불순물 영역들을 형성한다.
열적 부담, 주변 영역, 불순물 영역

16. 发明公开

KR1020080067436A 시편의 표면 계측 방법 无效
标题翻译：测量图案表面的方法
公开(公告)号：KR1020080067436A
公开(公告)日：2008-07-21
申请号：KR1020070004712
申请日：2007-01-16
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 신영곤 , 강민섭 , 김종덕 , 안병설 , 이병암 , 정경호
IPC分类号： G01B11/30 , G01B11/25
CPC分类号： G01B11/30 , G01N21/8806 , G01N21/956
摘要： A method for measuring a specimen surface is provided to maximize production yield by reducing weight of distorted information corresponding to an upper surface of a pattern relative to information corresponding to both side walls of the pattern. A method for measuring a specimen surface(200) comprises the steps of: allowing first incident light(201) to be incident into the specimen formed with an arbitrary pattern in a first direction(S1); detecting first diffraction light(202) diffracted in the specimen to be incident by the first incident light(S2); allowing second incident light(203) in a second direction opposite to the first direction to be incident into the specimen; detecting second diffraction light(204) diffracted in the specimen(S3); and comparing information corresponding to the first diffraction light and the second diffraction light respectively with each other, and judging if both side walls of the pattern are parallel to each other in the first direction and the second direction when the information is the same or similar(S4).
摘要翻译：提供了一种用于测量样品表面的方法，以通过相对于对应于图案的两个侧壁的信息减小对应于图案的上表面的失真信息的重量来最大化生产产量。一种测量样本表面（200）的方法包括以下步骤：使第一入射光（201）入射到沿第一方向（S1）以任意图形形成的样本中; 检测在所述样本中衍射的第一衍射光（202）以入射所述第一入射光（S2）; 允许在与第一方向相反的第二方向上的第二入射光（203）入射到样品中; 检测在所述试样（S3）中衍射的第二衍射光（204）; 以及将与第一衍射光和第二衍射光相对应的信息彼此分别进行比较，并且当信息相同或相似时，判断图案的两个侧壁是否在第一方向和第二方向上彼此平行（ S4）。

17. 发明授权

KR100825815B1 채널 리세스부를 갖는 활성패턴을 구비하는 반도체 소자 및그의 제조방법 失效
标题翻译：包括具有通道输入的活性图案的半导体器件及其制造方法
公开(公告)号：KR100825815B1
公开(公告)日：2008-04-28
申请号：KR1020070055682
申请日：2007-06-07
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 정경호 , 요시다마코토 , 강재록 , 이철 , 김근남
IPC分类号： H01L21/336 , H01L29/78
CPC分类号： H01L21/823412 , H01L21/823456 , H01L29/66621 , H01L29/78 , H01L29/4236 , H01L29/66795 , H01L29/785
摘要： A semiconductor device having an active pattern having a channel recess and a method for manufacturing the same are provided to suppress a narrow width effect by increasing a channel width. An active pattern(100b) having first active regions and a second active region arranged between the first active regions is formed on an upper part of a semiconductor substrate(100). An isolation layer(110) is formed to surround the active pattern. A channel recess part for exposing sidewalls of the first active regions facing each other is formed by recessing an upper region of the second active region. A groove(110a) for exposing a sidewall of the second active region is formed within the isolation layer. Sidewalls of the groove are protruded in comparison with the sidewalls of the first active regions.
摘要翻译：提供具有沟道凹槽的有源图案的半导体器件及其制造方法，以通过增加沟道宽度来抑制窄宽度效应。在半导体衬底（100）的上部形成有具有第一有源区和布置在第一有源区之间的第二有源区的有源图案（100b）。形成隔离层（110）以包围有源图案。通过凹陷第二有源区的上部区域来形成用于暴露面对的第一有源区的侧壁的沟槽凹部。用于暴露第二有源区的侧壁的沟槽（110a）形成在隔离层内。与第一活性区域的侧壁相比，槽的侧壁突出。

18. 发明公开

KR1020080000303A 실리콘웨이퍼의 결함 검출 방법 및 이를 수행하기 위한장치 无效
标题翻译：检测硅基板缺陷的方法及其设备
公开(公告)号：KR1020080000303A
公开(公告)日：2008-01-02
申请号：KR1020060058003
申请日：2006-06-27
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 사공정 , 정경호 , 이병암 , 안병설 , 김종덕 , 김경범
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： G01N21/9503 , G01N21/8422 , G01N2021/8433
摘要： A method of detecting defects in a silicon substrate and an apparatus for performing the same are provided to identify grating defects of a silicon wafer by using a light emitting image of fluorescent materials. A silicon wafer(W) is loaded on a chuck(110) within a process chamber(100). An edge part of the silicon wafer is coated by using fluorescent materials having different coating characteristics at a defective grating part and a normal grating part of the silicon wafer. A light emitting image of a silicon wafer edge part is obtained by irradiating light onto the silicon wafer edge part coated with the fluorescent materials. A grating defect of the silicon wafer edge part is detected by identifying a coating state of the fluorescent materials of the light emitting image.
摘要翻译：提供了一种检测硅衬底中的缺陷的方法及其执行装置，以通过使用荧光材料的发光图像来识别硅晶片的光栅缺陷。硅晶片（W）装载在处理室（100）内的卡盘（110）上。通过使用在硅晶片的缺陷光栅部分和普通光栅部分处具有不同涂层特性的荧光材料来涂覆硅晶片的边缘部分。通过将光照射到涂覆有荧光材料的硅晶片边缘部分上来获得硅晶片边缘部分的发光图像。通过识别发光图像的荧光材料的涂布状态来检测硅晶片边缘部分的光栅缺陷。

19. 发明公开

KR1020070076208A 웨이퍼 수납용 캐리어. 无效
标题翻译：散热器
公开(公告)号：KR1020070076208A
公开(公告)日：2007-07-24
申请号：KR1020060005303
申请日：2006-01-18
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 이경순 , 정경호 , 이병암
IPC分类号： B65D85/48 , B65D85/42 , B65D85/38 , H01L21/68
摘要： A wafer carrier is provided to reduce breakage, scratches, and particles of a wafer by easily loading the wafer of 12 inches to the normal position and to improve the yield rate of semiconductor devices. The wafer carrier(100) is composed of a container(102) having an opened front side and an inner space for containing wafers; a cover(104) installed on an inner wall of the container and equipped with plural slot members(106) provided with round end portions and arranged on both sides in a line so as to form a space to which the wafers are fitted; and a door(108) for covering the front side of the container. A gap between the slot members is wider than the thickness of the wafer.
摘要翻译：提供晶片载体以通过容易地将12英寸的晶片加载到正常位置并提高半导体器件的屈服率来减少晶片的断裂，划痕和颗粒。晶片载体（100）由具有开口前侧的容器（102）和用于容纳晶片的内部空间构成; 安装在所述容器的内壁上并配备有多个槽构件（106）的盖（104），所述多个槽构件（106）设置有圆形端部并且布置在两侧的一条线上，以形成所述晶片安装的空间; 以及用于覆盖容器前侧的门（108）。狭缝构件之间的间隙比晶片的厚度宽。

20. 发明授权

KR100543467B1 미세 패턴 선폭 측정 방법 및 그 시스템 有权
标题翻译：用于测量精细图案的关键尺寸的方法和系统
公开(公告)号：KR100543467B1
公开(公告)日：2006-01-20
申请号：KR1020030090187
申请日：2003-12-11
申请人： 삼성전자주식회사
发明人： 강민섭 , 이상길 , 김광식 , 정경호 , 김성중
IPC分类号： H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , G06K9/0014 , H01J2237/2814 , H01J2237/2817
摘要： 여기에 개시되는 미세 패턴의 선폭 측정 방법은 미리 준비된 기준 패턴의 주사전자현미경 화상 및 그에 대한 2차 전자 신호 프로파일을 대응하는 검사 대상 패턴의 주사전자현미경 화상 및 그에 대한 2차 전자 신호 프로파일과 각각 비교하여 검사 대상 패턴의 불량 또는 양호 여부를 판단하고 양호 패턴으로 판단된 검사 대상 패턴에 대하여 선폭을 측정한다. 주사전자현미경 화상들 비교 결과 불량으로 판단되면 2차 전자 신호 프로파일들을 비교하여 최종적으로 패턴의 불량여부를 판단한다.
주사전자현미경, SEM 화상, 선폭 측정

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