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91. 发明授权

KR101855612B1 패턴 형성 장치, 및 기판 지지 장치 有权
标题翻译：图案形成装置和基板保持装置
公开(公告)号：KR101855612B1
公开(公告)日：2018-05-04
申请号：KR1020167034212
申请日：2013-03-13
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 가토마사키 , 기토요시아키 , 호리마사카즈 , 기우치도루
IPC分类号： G03F7/24 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/24
摘要： 광학적인처리가실시되는투과성을가지는가요성의기판을, 소정의곡률로만곡한상태, 또는평탄한상태로지지하기위한면을구비한기재와, 그기재의표면상에형성되며, 광학적인처리에사용되는광(노광용의자외선, 얼라이먼트용의가시광등)에대한반사율이 50% 이하인막체를마련한다.

92. 发明授权

KR101854055B1 다층막 반사경, 다층막 반사경의 제조 방법, 투영 광학계, 노광 장치, 디바이스의 제조 방법 有权
标题翻译：多层膜反射器，多层膜反射器的制造方法，投影光学系统，曝光装置，装置的制造方法
公开(公告)号：KR101854055B1
公开(公告)日：2018-05-02
申请号：KR1020167003246
申请日：2014-07-03
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 간다카노리아키 , 무라카미가츠히코
IPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G21K1/06
CPC分类号： G03F7/702 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G03F7/70316 , G03F7/70958 , G21K1/062
摘要： 고기능이면서심플한구성의다층막반사경을제공하기위해, 본발명의다층막반사경의일례는, 기판측으로부터차례로, 제 1 등주기다층막과, 조정층과, 제 2 등주기다층막을가진다층막반사경이고, 하기 (a)~(c)의조합이반사면내의위치마다또는영역마다설정되어있다. (a) 상기제 1 등주기다층막이단체로갖는반사특성, (b) 상기제 2 등주기다층막이단체로갖는반사특성, (c) 상기조정층의막 두께.

93. 发明公开

KR20180040730A 노광 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR20180040730A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：KR20187010045
申请日：2013-11-29
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： KATO MASAKI
IPC分类号： G03F7/24 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70275
摘要： 마스크(M)로부터의제1 투영광속(EL2a)을결상하여중간상을형성하고, 중간상이형성되는중간상면(P7)으로부터의제2 투영광속(EL2b)을기판(P) 상에재결상하여투영상을형성하는투영광학계(PL)와, 제1 투영광(EL2a)으로부터생기는기판(P) 상에투사되는누설광의광량을저감하는광량저감부를구비하며, 투영광학계(PL)는, 마스크(M)로부터의제1 투영광(EL2a)을결상하여, 중간상면(P7)에투사하는부분광학계(61)와, 부분광학계(61)로부터투사된제1 투영광(EL2a)을중간상면(P7)으로안내함과아울러, 중간상면(P7)으로부터의제2 투영광(EL2b)을부분광학계(61)로안내하는반사광학계(62)를가지며, 부분광학계(61)는, 중간상면(P2)으로부터의제2 투영광(EL2b)을재결상하여기판(P) 상에투영상을형성한다.

94. 发明授权

KR101848590B1 기판 처리 장치, 디바이스 제조 시스템 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101848590B1
公开(公告)日：2018-04-12
申请号：KR1020177010559
申请日：2012-10-11
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 가토마사키
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/00 , G02B17/08 , G03F7/24
CPC分类号： G02B17/008 , G02B13/22 , G02B13/24 , G02B17/08 , G02B17/0812 , G03F7/24
摘要： 기판처리장치(1011)는, 조명영역(IR)과투영영역(PA) 중한쪽영역에있어서소정곡율로원통면모양으로만곡한제1 면(p1001)을따르도록, 제1 물체(M)와제2 물체(P) 중한쪽을지지하는제1 지지부재(1021)와, 조명영역과투영영역중 다른쪽 영역에있어서소정의제2 면(p1002)을따르도록, 제1 물체와제2 물체중 다른쪽을지지하는제2 지지부재(1022)를구비한다. 투영광학계(PL)는, 조명영역으로부터투영영역에이르는결상광속의주광선중, 제1 면과투영광학계사이의주광선이, 제1 면의지름방향중 제2 면과비수직인지름방향을향하도록, 결상광속을전파시키기위한편향부재를구비한다.

95. 发明公开

KR20180033596A 기판 처리 장치 및 표시 소자의 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR20180033596A
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：KR20187007930
申请日：2010-11-26
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 미야지아키라 , 기우치도루 , 나라게이
IPC分类号： H01L21/677 , B65G49/06 , H01L27/32 , H01L51/56 , H05B33/10
CPC分类号： H01L21/67721 , B65G49/067 , B65G2249/045 , H01L21/6776 , H01L27/3244 , H01L51/56 , H05B33/10
摘要： 기판처리장치는, 기판에대해서소정의처리를실시하는처리부와, 해당처리부에대해서이동함과아울러, 기판의피처리면(被處理面)을형성시키면서기판을유지하는기판유지부를구비한다.

96. 发明授权

KR101843699B1 계측 방법, 스테이지 장치, 및 노광 장치 有权
公开(公告)号：KR101843699B1
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：KR1020177003435
申请日：2008-07-16
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 아라이다이
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/027 , G01B9/02
CPC分类号： G03F7/7015 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70775 , G03F7/70858 , G03F7/709 , Y10T29/49002
摘要： 주위기체의굴절률변동의영향을저감시켜, 스테이지의위치결정정밀도등을향상시킬수 있는노광장치이다. 투영광학계 (PL) 를개재하여웨이퍼스테이지 (WST) 상의웨이퍼 (W) 에노광용조명광을조사하고, 웨이퍼 (W) 에소정패턴을형성하는노광장치로서, 웨이퍼스테이지 (WST) 에형성된스케일과, 이스케일의위치정보를검출하는복수의 X 헤드 (66) 와, 복수의 X 헤드 (66) 를일체적으로지지하고, 선팽창률이웨이퍼스테이지 (WST) 의본체부보다작은계측프레임 (21) 과, 복수의 X 헤드 (66) 의검출결과로부터웨이퍼스테이지 (WST) 의변위정보를구하는제어장치를구비한다.

97. 发明授权

KR101831984B1 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법 有权
公开(公告)号：KR101831984B1
公开(公告)日：2018-02-23
申请号：KR1020117017645
申请日：2009-12-25
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 사토신지
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70916
摘要： 기판을노광하는노광장치는, 노광광 (EL) 을사출하는사출면 (23) 을포함하는광학계 (PL); 사출면으로부터사출되는노광광의광로의주위의적어도일부에배치된제 1 면 (41); 제 1 면의주위의적어도일부에그리고제 1 면보다아래에배치된제 2 면 (42); 제 1 면과제 2 면사이의제 1 개구 (33) 를통하여액체 (LQ) 가유입가능하고제 1 개구와다른제 2 개구 (34) 를통하여분위기에개방되는공극부 (80); 및공극부로유입하는액체의적어도일부를회수하는제 1 회수부 (60) 를포함한다. 여기서, 기판의노광의적어도일부에서는, 사출면, 제 1 면및 제 2 면이기판 (P) 의표면에대향하며, 사출면과기판의표면사이의액체를통하여사출면으로부터의노광광으로기판이노광된다.

98. 发明授权

KR101830565B1 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101830565B1
公开(公告)日：2018-02-20
申请号：KR1020167032936
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027 , B82Y10/00
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.

99. 发明公开

KR20180016621A 노광 장치 및 디바이스 제조방법 有权
标题翻译：曝光装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR20180016621A
公开(公告)日：2018-02-14
申请号：KR20187003214
申请日：2004-06-18
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 에비하라아키미츠
IPC分类号： G03F7/20 , B82Y10/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70333 , B82Y10/00 , G03F7/70225 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70733 , G03F7/70758 , G03F7/70816 , Y10T29/49826
摘要： 수압패드 (32) 와수압패드 (34) 에의해, 웨이퍼 (W) 및그 웨이퍼가재치된테이블 (TB) 이협지되어있다. 수압패드 (32) 에의해, 그베어링면과웨이퍼 (W) 의투영광학계 (PL) 의광축방향에관한간격이소정치수로유지된다. 또, 수압패드는기체정압베어링과는달리베어링면과지지대상물 (기판) 사이의비압축성유체 (액체) 의정압을이용하기때문에, 베어링의강성이높고베어링면과기판의간격이안정되어더욱일정하게유지된다. 또액체 (예를들어순수) 는기체 (예를들어공기) 에비하여점성이높고, 액체는진동감쇠성이기체에비하여양호하다. 따라서, 초점위치검출계등을반드시형성하지않고도디포커스가거의없는웨이퍼 (기판) 상에대한패턴의전사가실현된다.
摘要翻译：流体静力垫（32）和流体静力垫（34）保持其上安装晶片的晶片（W）和台（TB）。流体静力垫（32）将投影光学系统（PL）的光轴方向上的支承面与晶片（W）之间的距离保持为预定值。另外，由于与静态气体轴承不同，静水压力垫片利用承载表面和支撑物体（基底）之间的不可压缩流体（液体）的静态压力，所以轴承的刚度高，轴承表面与衬底保持稳定和恒定。另外，液体（例如纯水）的粘度比气体（例如空气）高，并且与气体相比在振动阻尼方面优越。因此，可以实现基本没有散焦的晶片（衬底）上的图案转移，而不必设置焦点位置检测系统。

100. 发明授权

KR101823728B1 기판 처리 장치, 및 디바이스 제조 방법 有权
标题翻译：基板处理装置和装置制造方法
公开(公告)号：KR101823728B1
公开(公告)日：2018-01-30
申请号：KR1020147032979
申请日：2013-05-23
申请人： 가부시키가이샤 니콘
发明人： 나라게이
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/13 , H01L21/02 , H05B33/02 , H05B33/10 , H01L51/00 , H01L27/12
CPC分类号： H01L21/02628 , H01L21/02554 , H01L21/02639 , H01L27/1259 , H01L51/0003 , H05B33/02 , H05B33/10
摘要： 미세한패턴을고정밀도로기판에형성할수 있는기판처리장치및 디바이스제조방법을제공한다. 기판상에, 광에너지에의해서친발액성에차이가생기는기능층(커플링제)을도포하고, 광패터닝을행하여, 기능층에친발액성으로콘트라스트를부여한후, 전자디바이스등을위한원재료물질을포함하는용액을초음파등에의해미스트화하여기판표면에분무하는것에의해, 기판표면중 표면에너지가높은친액부에미스트를부착시켜, 원재료물질을선택적으로퇴적시킨다.
摘要翻译：一种基板处理装置和装置制造方法，能够以高精度在基板上形成微细图案。在基板上涂布由光能引起的具有亲液性差异的功能层（偶联剂），并进行光学图案化以与处于亲液状态的功能层形成对比，然后，通过超声波等使溶液雾化并喷射到基板的表面上以将雾附着到基板表面中具有高表面能的液体亲和性部分，从而选择性地沉积原材料。

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