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1. 发明专利

JP2018066736A 荷電粒子顕微鏡内での低温試料処理有权
公开(公告)号：JP2018066736A
公开(公告)日：2018-04-26
申请号：JP2017198115
申请日：2017-10-12
申请人：エフイーアイカンパニ , FEI COMPANY
发明人：ジョンミッチェルズ , トマースヴィスタベール , マルチンツァフォウレク
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317 , H01J37/244 , H01J37/28 , G01N1/28
CPC分类号： H01J37/261 , G01N1/42 , H01J37/18 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J2237/022 , H01J2237/2001 , H01J2237/2602 , H01J2237/28 , H01J2237/317
摘要：【課題】荷電粒子顕微鏡を用いた低温試料の表面改質を行う方法を提供する。【解決手段】荷電粒子顕微鏡Mは、試料Sを装入するためのポートを有する真空チャンバ5と、試料ホルダ7と、粒子光学カラム1と、を含む。方法は、試料を真空チャンバ内へ導入し、試料ホルダ上に提供し、低温温度に維持するステップと、真空チャンバを排気するための真空ポンプを用いるステップと、ビームを起動させ試料の表面を改質するために、試料の一部の上に方向づけるステップと、を含み、さらに、真空チャンバ内に薄膜モニタを提供し、検出表面を低温温度に維持するステップと、チャンバ内の凍結凝縮物の沈着率値を測定するためにモニタを使用し、以下の動作を実行するためのトリガとしてこの値を用いるステップと、値が第1所定閾値を下回ったときに表面改質を開始するステップと、値が第2所定閾値を上回った場合に表面改質を中断するステップと、備える。【選択図】図1

2. 发明专利

JP6047592B2 相関光学及び荷電粒子顕微鏡有权
标题翻译：相关的光学和带电粒子显微镜
公开(公告)号：JP6047592B2
公开(公告)日：2016-12-21
申请号：JP2015012456
申请日：2015-01-26
申请人：エフイーアイカンパニ , FEI COMPANY
发明人：バートブイス
IPC分类号： H01J37/20 , G02B21/36 , H01J37/141 , H01J37/16 , H01J37/22 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/226 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/14 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/223 , H01J2237/2602

3. 发明专利

JP2016534508A グラフェン改変有权
标题翻译：改性石墨烯
公开(公告)号：JP2016534508A
公开(公告)日：2016-11-04
申请号：JP2016533949
申请日：2014-08-07
申请人：メディカルリサーチカウンシル , メディカルリサーチカウンシル
发明人：クリストファージェイ．ルッソ , クリストファージェイ．ルッソ , ローリエー．パスモア , ローリエー．パスモア
IPC分类号： H01J37/20 , C12M1/40 , C12Q1/00
CPC分类号： H01J37/20 , B08B7/0035 , C01B32/182 , C01B32/194 , C01B32/196 , G01N23/04 , G01N23/20025 , G01N33/54393 , H01J37/26 , H01J2237/2007 , H01J2237/2602
摘要：本発明は、生体試料を受容するための支持体であって、少なくとも1つの支持部材を備え、前記少なくとも1つの支持部材に付着されたグラフェンを含み、前記グラフェンが部分水素化グラフェンであることを特徴とする支持体に関する。本発明はまた、電子顕微鏡法のための、生体分子を支持する部分水素化グラフェン表面の使用に関する。本発明はまた、部分水素化グラフェンを作製する方法であって、水素イオン又は水素原子をグラフェンの表面に適用することを含み、前記水素イオン又は水素原子が、1〜21eVの範囲のエネルギーで適用されることを特徴とする方法に関する。本発明はまた、生体分子を吸着することができる表面を含むセンサであって、前記表面が部分水素化グラフェンを含むセンサに関する。本発明はまた、グラフェン表面を清浄化する方法であって、グラフェン表面を水素プラズマ又はヘリウムプラズマ又はネオンプラズマと表面不純物を除去するために十分な時間接触させることを含む方法に関する。
摘要翻译：本发明涉及一种用于接收生物样品的支撑件，其包括至少一个支撑构件，其中所述包括一个沉积的石墨烯到至少一个支撑构件，所述石墨烯是部分氢化的石墨烯关于支持表征。本发明还提供了一种用于电子显微镜，使用部分氢化的石墨烯表面支撑的生物分子。本发明还提供了制备部分氢化的石墨烯包括将氢离子或石墨烯的表面上的氢原子的方法，该氢离子或氢原子，在范围1施加的能量〜21eV 本发明涉及其特征在于它是这样一种方法。本发明还提供了包含能够吸附的生物分子的表面上的传感器，其中所述表面包含一个部分氢化的石墨烯的传感器。本发明还提供了清洁的石墨烯表面的方法，所述方法包括接触足够的时间以在石墨烯表面上除去氢等离子体或氦等离子体，氖等离子体和表面杂质。

4. 发明专利

JP5936424B2 荷電粒子線装置有权
标题翻译：一种带电粒子束装置
公开(公告)号：JP5936424B2
公开(公告)日：2016-06-22
申请号：JP2012097086
申请日：2012-04-20
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：大南祐介 , 河西晋佐 , 大瀧智久 , 安島雅彦 , 伊東祐博
IPC分类号： H01J37/16 , H01J37/09 , H01J37/18
CPC分类号： H01J37/261 , H01J37/09 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J2237/0245 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/10 , H01J2237/162 , H01J2237/164 , H01J2237/2003 , H01J2237/2448 , H01J2237/2602 , H01J2237/2605

5. 发明专利

JP2016025082A 試料からの放出を透過させる荷電粒子レンズ审中-公开
标题翻译：充电颗粒透镜从样品中发射
公开(公告)号：JP2016025082A
公开(公告)日：2016-02-08
申请号：JP2015138829
申请日：2015-07-10
申请人：エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人：エヌ・ウィリアム・パーカー , マーカス・ストロー , ホルヘ・フィリヴィチ
IPC分类号： H01J37/244 , H01J37/252 , H01J37/28 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/12 , H01J2237/24415 , H01J2237/2445 , H01J2237/2602
摘要：【課題】X線および光を検出する荷電粒子ビーム・カラム内の透過性レンズを提供すること。【解決手段】最終レンズは、EDS画像化および分析のためにX線に関して透過性である要素、または陰極ルミネセンス(CL)画像化および分析のために光に関して透過性である要素を含むことができる。複合EDSおよびCL画像化と分析のためにX線と光の両方に関して透過性である要素を含むように、この最終レンズを構築し配置することができる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检测X射线和光的带电粒子束列中的透射透镜。解决方案：最终透镜可以包括对于用于EDS成像和分析的X射线透射的元件或可透射的元件用于阴极发光（CL）成像和分析的光。最终的透镜可以被构造和布置成包括用于X射线和光的透射的元件以用于组合的EDS和CL成像和分析。选择的图：图1

6. 发明专利

JP2015141899A 補正光学及び荷電粒子顕微鏡有权
标题翻译：相关光学和充电粒子显微镜
公开(公告)号：JP2015141899A
公开(公告)日：2015-08-03
申请号：JP2015012456
申请日：2015-01-26
申请人：エフイーアイカンパニ , FEI COMPANY
发明人：バートブイス
IPC分类号： H01J37/20 , G02B21/36 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/226 , H01J37/20 , H01J37/228 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J2237/14 , H01J2237/20207 , H01J2237/20214 , H01J2237/223 , H01J2237/2602
摘要：【課題】磁気レンズ部に光学顕微鏡を備えた電子顕微鏡装置において、磁気レンズの磁極片又は磁極片間の距離を変更することなく、光学顕微鏡の解像度と感度を向上することのできる装置およびその使用方法を提供する。【解決手段】透過型電子顕微鏡の対物レンズ7の磁極片8A、8B間に試料1が試料ホルダ5に支持されて配置され、この試料を磁極片間から観察できるように光学顕微鏡10が設けられる。光学顕微鏡は磁極片間に適合できるように切頭された回転対称性を有しない対物レンズ(切頭レンズ)を有する。切頭レンズは2つの方向で異なる開口数を有する。したがって、切頭レンズの光収集立体角は磁極片間に適合する最大の回転対称性を有するレンズより大きくなり、解像度と感度を向上できる。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够在不改变磁性透镜的磁极片或磁极片的距离的情况下提高光学显微镜的分辨率和灵敏度的装置，在包括光学显微镜的电子显微镜的磁性透镜部 ; 以及使用该装置的方法。解决方案：样品1在被透镜电子显微镜的物镜7的磁极片8A，8B和光学显微镜10之间被样品保持器5支撑的同时被设置，使得可以从磁极片之间观察样品。光学显微镜具有被截断以配合在磁极片之间并且没有旋转对称性的物镜（截头透镜）。截头透镜在两个方向上具有不同的数值孔径。因此，用于收集截头透镜的光的立体角大于磁极片之间的最大旋转对称透镜配合的立体角，从而可以提高分辨率和灵敏度。

7. 发明专利

JP2015088237A 荷電粒子線装置、および試料容器有权
标题翻译：充电颗粒光束装置和样品容器
公开(公告)号：JP2015088237A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2013223337
申请日：2013-10-28
申请人：日本電子株式会社
发明人：成瀬達雄
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/20
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/261 , H01J2237/002 , H01J2237/2002 , H01J2237/26 , H01J2237/2602
摘要：【課題】冷却された試料を容易に試料室に導入することができる荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】本発明に係る荷電粒子線装置100は、試料Sおよび試料Sを冷却する冷媒6が収容される試料容器10と、真空排気される試料室20と、試料室20に接続された試料交換室30と、試料交換室30と試料容器10との間に配置される仕切り弁40と、試料容器10を真空排気する真空排気装置50と、を含み、試料容器10は、仕切り弁40を介して試料交換室30に接続可能であり、仕切り弁40が閉じた状態で、真空排気装置50によって真空排気される。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够容易地将冷却的样品引入样品室的带电粒子束装置。解决方案：带电粒子束装置100包括：样品容器10，其中样品S和用于冷却样品的冷却剂6 样品S容纳; 抽空的样品室20; 连接到样品室20的样品更换室30; 布置在样品更换室30和样品容器10之间的分隔阀40; 以及抽空样本容器10的真空排气装置50.样本容器10可以通过分隔阀40连接到样品更换室30，并且在分隔阀40关闭的状态下由真空排气装置50抽真空。

8. 发明专利

JP2014032833A Charged particle beam device 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2014032833A
公开(公告)日：2014-02-20
申请号：JP2012172473
申请日：2012-08-03
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： SAKA TADAMA , OBARA KENJI , HIRAI TOMOHIRO
IPC分类号： H01J37/22 , H01J37/28 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/04 , H01J37/261 , H01J2237/049 , H01J2237/063 , H01J2237/221 , H01J2237/2448 , H01J2237/24585 , H01J2237/24592 , H01J2237/2602 , H01J2237/2803 , H01J2237/2817 , H01L22/12 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem in which: a conventional CMP method for identifying grain defects requires much time for an inspection of the entire wafer and is total destruction; a probe test method merely speculates the presence of a void from a resistance value, and fails to determine a position of the occurrence of a void and the size thereof in wiring; and therefore, detection of a minute void and a void inside the wiring ultimately requires processing of a cross section of the wiring with an FIB for observation and observation by an SEM and a TEM.SOLUTION: A sample is irradiated at the same position with electron beams at a plurality of acceleration voltages; and a void is distinguished from a grain on the basis of the amount of contrast change at the same position in a plurality of images acquired corresponding to the respective plurality of acceleration voltages.
摘要翻译：要解决的问题：为了解决以下问题：用于识别晶粒缺陷的常规CMP方法需要花费大量时间来检查整个晶片，并且是完全破坏的; 探针测试方法仅仅推测电阻值存在空隙，并且不能确定布线中出现空隙的位置及其尺寸; 因此，检查配线内部的微细空隙和空隙最终需要用FIB进行布线的横截面的处理，以通过SEM和TEM观察和观察。解决方案：将样品在与电子相同的位置照射多个加速电压的光束; 并且根据对应于相应的多个加速电压获取的多个图像中的相同位置处的对比度变化量，将空隙与颗粒区分开。

9. 发明专利

JP2014002835A Charged particle beam device 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2014002835A
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：JP2012135297
申请日：2012-06-15
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： TACHIBANA ICHIRO , SUZUKI NAOMASA
IPC分类号： H01J37/21
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/04756 , H01J2237/0492 , H01J2237/063 , H01J2237/10 , H01J2237/15 , H01J2237/21 , H01J2237/244 , H01J2237/2602 , H01J2237/281
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To resolve a problem that, in the case that signal electrons are detected by energy selection by performing control so as to combine retarding and boosting for the purpose of deep-hole observation and the like, although magnetic variation of an objective lens must be used for focus adjustment, throughput is reduced because of a poor responsibility of magnetic variation.SOLUTION: A charged particle beam device comprises: an electron source generating a primary electron beam; an objective lens converging the primary electron beam; a deflector deflecting the primary electron beam; a detector detecting secondary electrons generated from a sample due to the irradiation of the primary electron beam or reflected electrons; an electrode having a hole through which the primary electron beam passes; a voltage control power supply applying a negative voltage to the electrode; and a retarding voltage control power supply applying a negative voltage to the sample to generate such an electric field that decelerates the primary electron beam on the sample. Focus adjustment is performed while making constant a difference between the voltage applied to the electrode and the voltage applied to the sample.
摘要翻译：要解决的问题：为了解决在通过进行控制的能量选择来检测信号电子以便进行深孔观察等的延迟和升压的组合的情况下，尽管目标的磁性变化必须使用镜头进行焦点调整，因为磁性变化的负担很小，所以吞吐量降低。解决方案：带电粒子束装置包括：产生一次电子束的电子源; 会聚该一次电子束的物镜; 偏转器偏转一次电子束; 检测器，其检测由于一次电子束或反射电子的照射而从样品产生的二次电子; 具有一次电子束通过的孔的电极; 向所述电极施加负电压的电压控制电源; 以及向样品施加负电压的延迟电压控制电源，以产生使样品上的一次电子束减速的电场。在施加到电极的电压和施加到样品的电压之间恒定地进行聚焦调整。

10. 发明专利

JP6300553B2 荷電粒子ビーム装置有权
公开(公告)号：JP6300553B2
公开(公告)日：2018-03-28
申请号：JP2014024422
申请日：2014-02-12
申请人：株式会社日立ハイテクサイエンス
发明人：上本敦 , 麻畑達也 , 鈴木秀和 , 山本洋
IPC分类号： H01J37/20 , H01L21/66 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/261 , H01J37/3023 , H01J2237/063 , H01J2237/08 , H01J2237/2007 , H01J2237/202 , H01J2237/208 , H01J2237/2448 , H01J2237/2482 , H01J2237/2602

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