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21. 发明专利

JP2009272293A Focused ion beam apparatus 有权
标题翻译：聚焦离子束设备
公开(公告)号：JP2009272293A
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：JP2009057276
申请日：2009-03-11
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： KAGA HIROYASU
IPC分类号： H01J37/317 , G21K1/087 , H01J27/22 , H01J37/12
CPC分类号： H01J37/12 , H01J2237/0453 , H01J2237/0458 , H01J2237/0492 , H01J2237/0805 , H01J2237/31745
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a much larger beam current and form a focused ion beam with smaller aberration than a conventional focused ion beam apparatus over low to high acceleration.
SOLUTION: The focused ion beam apparatus includes: a liquid metal ion source; an extraction electrode for extracting an ion beam from the liquid metal ion source; an acceleration (ground) electrode for accelerating an ion beam; and an electrostatic lens for converging an ion beam; and is structured such that, when the acceleration voltage of the liquid metal ion source is lower than an emission threshold voltage of the liquid metal ion source, the voltage of the extraction electrode is set at a lower potential than that of the acceleration (ground) electrode. In the focused ion beam apparatus, the polarity of a voltage applied to the electrostatic lens is changed in conjunction with the polarity of a voltage applied to the extraction electrode. This invention makes it possible to exercise a deceleration mode focusing method at a high acceleration voltage from the dielectric strength voltage of the electrostatic lens, and exercise an acceleration mode focusing method at a low acceleration voltage with an electrostatic lens having the same focal length as for the deceleration mode focusing method.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：从低到高的加速度，获得比现有的聚焦离子束装置小的像差的聚焦离子束，获得更大的束电流。聚焦离子束装置包括：液态金属离子源; 用于从液态金属离子源中提取离子束的提取电极; 用于加速离子束的加速（接地）电极; 和用于会聚离子束的静电透镜; 并且构造成使得当液体金属离子源的加速电压低于液体金属离子源的发射阈值电压时，引出电极的电压被设定为比加速度（接地）的电位低的电位，电极。在聚焦离子束装置中，施加到静电透镜的电压的极性与施加到提取电极的电压的极性一起改变。本发明使得可以根据静电透镜的介电强度电压来执行高加速电压下的减速模式聚焦方法，并且使用具有与...相同焦距的静电透镜在低加速度电压下运动加速模式聚焦方法减速模式聚焦法。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

22. 发明专利

JP2006156259A Beam irradiator, and improving method of beam irradiation precision 有权
标题翻译： BEAM IRRADIATOR，改进光束辐照精度的方法
公开(公告)号：JP2006156259A
公开(公告)日：2006-06-15
申请号：JP2004347834
申请日：2004-11-30
申请人： Sumitomo Eaton Noba Kk , 住友イートンノバ株式会社
发明人： KABASAWA MITSUAKI , TSUKIHARA MITSUKUNI
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J27/024 , H01J37/023 , H01J37/05 , H01J37/1474 , H01J37/1478 , H01J37/15 , H01J37/3007 , H01J2237/0041 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/0458 , H01J2237/047 , H01J2237/0492 , H01J2237/061 , H01J2237/0835 , H01J2237/1536 , H01J2237/24405 , H01J2237/24507 , H01J2237/24528 , H01J2237/30477 , H01J2237/31705
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To improve beam irradiation precision in a beam irradiator. SOLUTION: In the beam irradiator constituted so that, after a beam from an ion source 1 passes through a mass spectrometer electromagnetic device 3 and a beam shaping device and the beam is energy-analyzed by an angle energy filter of a latter stage through a deflection scanner 7 and a beam paralleling device for scanning the beam in the lateral direction and an acceleration/deceleration device, the beam is irradiated to a wafer 23, at the beam shaping device, by providing a synchronized quadrupole electromagnet (syQD) 8 for focusing in the upper and lower direction and a synchronized quadrupole electromagnet (syQF) 9 for focusing in the lateral direction, whereby at least either of the displacement of a beam divergent angle between the center orbit and the outside orbit after scanning using the deflection scanner and the displacement of the beam size is corrected. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提高光束照射器的光束照射精度。解决方案：在光束照射器中，在离子源1的光束通过质谱仪电磁装置3和光束整形装置之后，光束照射装置被后面的角度能量过滤器进行能量分析通过偏转扫描仪7和用于沿横向扫描光束的光束并联装置和加速/减速装置，通过提供一个同步的四极电磁体（syQD）8，在束形成装置处将光束照射到晶片23上用于在上下方向上聚焦，以及用于在横向聚焦的同步四极电磁体（syQF）9，由此在使用偏转扫描器扫描之后中心轨道和外轨道之间的光束发散角的位移中的至少一个校正光束尺寸的位移。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

23. 发明专利

JP2006156247A Increasing method of low energy beam, and beam irradiator 有权
标题翻译：低能量光束的增加方法和光束辐射器
公开(公告)号：JP2006156247A
公开(公告)日：2006-06-15
申请号：JP2004347511
申请日：2004-11-30
申请人： Sumitomo Eaton Noba Kk , 住友イートンノバ株式会社
发明人： KABASAWA MITSUAKI , TSUKIHARA MITSUKUNI
IPC分类号： H01J37/317 , C23C14/48 , H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J27/024 , H01J37/023 , H01J37/05 , H01J37/1474 , H01J37/1478 , H01J37/15 , H01J37/3007 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/0458 , H01J2237/047 , H01J2237/0492 , H01J2237/061 , H01J2237/0835 , H01J2237/1536 , H01J2237/24405 , H01J2237/24507 , H01J2237/30477 , H01J2237/31705
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a beam irradiator capable of suppressing the divergence of a beam in low energy. SOLUTION: In the beam irradiator constituted so that, after a beam from an ion source 1 passes through a mass spectrometer electromagnet device 3 and a beam shaping device, and after the beam is energy-analyzed by an angle energy filter 18 of a latter stage through a deflection scanner 7, a beam paralleling device for scanning the beam in the lateral direction, and an acceleration/deceleration device, the beam is irradiated to a wafer 23 by constituting the beam paralleling device of a decelerating parallel lens 10 of an electrostatic type, constituting the acceleration/deceleration device of first and second A-D column electrodes 11, 12 wherein high voltages can be applied independently, and comfining the deceleration parallel lens and the first and the second A-D column electrodes, whereby the the divergence of the beam is suppressed even by low energy, and the parallelism of the beam scanned in the lateral direction by the deflection scanner device can be maintained well. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制低能量的光束的发散的光束照射器。解决方案：在光束照射器中，在离子源1的光束通过质谱仪电磁体装置3和光束整形装置之后，在光束被角能量滤光器18进行能量分析之后，通过偏转扫描器7的后级，用于沿横向扫描光束的光束并联装置和加速/减速装置，通过构成减速平行透镜10的光束并联装置将光束照射到晶片23，构成第一和第二AD列电极11,12的加速/减速装置的静电型，其中可以独立地施加高电压，并且使减速平行透镜和第一和第二AD列电极融合，由此，即使通过低能量也抑制光束，并且能够良好地保持由偏转扫描器装置沿横向扫描的光束的平行度。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

24. 发明专利

JP2018520495A 複数荷電粒子ビームの装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018520495A
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：JP2018503180
申请日：2016-07-21
申请人：エルメスマイクロビジョン,インコーポレーテッド , HERMES MICROVISION INC.
发明人：レン、ウェイミン , リュウ、シュエドン , シュエラン、フ , チェン、ゾンウェイ
IPC分类号： H01J37/29 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/1474 , H01J37/06 , H01J37/10 , H01J37/1477 , H01J37/1478 , H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/0453 , H01J2237/0492 , H01J2237/103 , H01J2237/1205 , H01J2237/1516 , H01J2237/1534 , H01J2237/1536
摘要：【課題】試料を高解像度および高スループットで観察するためのマルチビーム装置を提案する。【解決手段】本装置においては、ソース変換ユニットが、ひとつの単一電子ソースの複数の平行な像を、そこからの平行な一次電子ビームの複数のビームレットを偏向することによって形成し、ひとつの対物レンズが、複数の偏向されたビームレットを試料表面上に収束させて複数のプローブスポットを形成する。可動コンデンサレンズが、一次電子ビームを平行化し、複数のプローブスポットの電流を変化させるために使用され、プレビームレット形成手段が一次電子ビームのクーロン効果を弱め、ソース変換ユニットが対物レンズとコンデンサレンズの軸外収差を最小化し補償することによって複数のプローブスポットのサイズを最小化する。【選択図】図2

25. 发明专利

JPWO2014185060A1 荷電粒子光学レンズ装置及び荷電粒子光学レンズ装置の制御方法审中-公开
标题翻译：带电粒子光学透镜系统的方法和一种带电粒子光学透镜系统
公开(公告)号：JPWO2014185060A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015516916
申请日：2014-05-13
申请人：国立大学法人神戸大学
发明人：建次郎木村
IPC分类号： H01J37/12
CPC分类号： H01J37/10 , H01J2237/0492 , H01J2237/12 , H01J2237/14
摘要：荷電粒子光学レンズ装置(1)は、多段に配置された複数の荷電粒子光学レンズ(24)を含む荷電粒子光学レンズ群と、複数の荷電粒子光学レンズ(24)のそれぞれに、電磁界シミュレーションの計算結果を反映させた電圧又は電流を印加する電気信号配分装置(12)とを備え、電磁界シミュレーションは、レンズ口径が複数の荷電粒子光学レンズ(24)よりも大きい荷電粒子光学レンズが複数の荷電粒子光学レンズのそれぞれの位置に作り出す静電ポテンシャル分布又は磁気ポテンシャル分布を計算するシミュレーションである。
摘要翻译：带电粒子光学透镜系统（1）包括：带电粒子光学透镜组包括多个带电粒子光学透镜的布置在多级（24），每个所述多个带电粒子光学透镜（24），该电磁场模拟的用于施加电压或反射一个（12），所述电磁场模拟，比透镜直径的多个带电粒子光学透镜（24）大的带电粒子光学透镜的计算电信号分配装置的电流是多个的模拟计算静电势或在带电粒子光学透镜的各自的位置产生的磁势分布的分布。

26. 发明专利

JP5855836B2 透過電子顕微鏡有权
公开(公告)号：JP5855836B2
公开(公告)日：2016-02-09
申请号：JP2011043279
申请日：2011-02-28
申请人：カールツァイスマイクロスコーピーゲーエムベーハー , Carl Zeiss Microscopy GmbH
发明人：ゲルトべナー
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/05 , H01J37/295 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/26 , H01J2237/0492 , H01J2237/05 , H01J2237/24475 , H01J2237/24495 , H01J2237/2614 , H01J2237/2802 , H01J2237/2803

28. 发明专利

JP2014002835A Charged particle beam device 有权
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：JP2014002835A
公开(公告)日：2014-01-09
申请号：JP2012135297
申请日：2012-06-15
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： TACHIBANA ICHIRO , SUZUKI NAOMASA
IPC分类号： H01J37/21
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/04756 , H01J2237/0492 , H01J2237/063 , H01J2237/10 , H01J2237/15 , H01J2237/21 , H01J2237/244 , H01J2237/2602 , H01J2237/281
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To resolve a problem that, in the case that signal electrons are detected by energy selection by performing control so as to combine retarding and boosting for the purpose of deep-hole observation and the like, although magnetic variation of an objective lens must be used for focus adjustment, throughput is reduced because of a poor responsibility of magnetic variation.SOLUTION: A charged particle beam device comprises: an electron source generating a primary electron beam; an objective lens converging the primary electron beam; a deflector deflecting the primary electron beam; a detector detecting secondary electrons generated from a sample due to the irradiation of the primary electron beam or reflected electrons; an electrode having a hole through which the primary electron beam passes; a voltage control power supply applying a negative voltage to the electrode; and a retarding voltage control power supply applying a negative voltage to the sample to generate such an electric field that decelerates the primary electron beam on the sample. Focus adjustment is performed while making constant a difference between the voltage applied to the electrode and the voltage applied to the sample.
摘要翻译：要解决的问题：为了解决在通过进行控制的能量选择来检测信号电子以便进行深孔观察等的延迟和升压的组合的情况下，尽管目标的磁性变化必须使用镜头进行焦点调整，因为磁性变化的负担很小，所以吞吐量降低。解决方案：带电粒子束装置包括：产生一次电子束的电子源; 会聚该一次电子束的物镜; 偏转器偏转一次电子束; 检测器，其检测由于一次电子束或反射电子的照射而从样品产生的二次电子; 具有一次电子束通过的孔的电极; 向所述电极施加负电压的电压控制电源; 以及向样品施加负电压的延迟电压控制电源，以产生使样品上的一次电子束减速的电场。在施加到电极的电压和施加到样品的电压之间恒定地进行聚焦调整。

29. 发明专利

JP2013251258A Improved imaging and processing for plasma ion source 有权
标题翻译：改进等离子体源的成像和处理
公开(公告)号：JP2013251258A
公开(公告)日：2013-12-12
申请号：JP2013108815
申请日：2013-05-23
申请人： Fei Co , エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人： MILLER TOM , KELLOGG SEAN , ZHANG SHOUYIN , MOSTAFA MAAZOUZ , GRAUPERA ANTHONY
IPC分类号： H01J37/317 , H01J27/02
CPC分类号： H01J37/08 , H01J37/026 , H01J37/10 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/185 , H01J37/3007 , H01J37/3171 , H01J2237/0492 , H01J2237/08 , H01J2237/18 , H01J2237/188 , H01J2237/31713 , H01J2237/31749
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for reducing collisions between ions and neutral gas molecules in a focused ion beam system.SOLUTION: An embodiment comprises a plasma chamber 201, an ionization antenna, means of narrowing energy spread, a beam extraction electrode, and a focusing mechanism. Moreover, a first vacuum chamber interposed between the plasma chamber and a sample chamber 218 is connected to a vacuum pump and has a pressure which is 1/5 or less of that in the plasma chamber. Furthermore, at least one additional vacuum chamber is connected between the first vacuum chamber and the sample chamber in series via conductance apertures, and has a pressure which is 1/10 or less of that in the previous vacuum chamber.
摘要翻译：要解决的问题：提供减少聚焦离子束系统中离子和中性气体分子之间的碰撞的方法。解决方案：一个实施例包括等离子体室201，电离天线，能量扩散变窄的装置，光束提取电极，和聚焦机构。此外，介于等离子体室和样品室218之间的第一真空室连接到真空泵，并且具有等离子体室中的压力的1/5或更小的压力。此外，至少一个额外的真空室通过导电孔连接在第一真空室和样品室之间，并且具有比前一个真空室中的压力的1/10或更小的压力。

30. 发明专利

JP2013206641A Scanning electron microscope 有权
标题翻译：扫描电子显微镜
公开(公告)号：JP2013206641A
公开(公告)日：2013-10-07
申请号：JP2012072710
申请日：2012-03-28
申请人： Hitachi High-Technologies Corp , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人： YOKOSUKA TOSHIYUKI , RI AKIRA , KAZUMI HIDEYUKI , MAKINO HIROSHI , MIZUHARA YUZURU , IZAWA MIKI , HATANO MICHIO , MOMOI YOSHINORI
IPC分类号： H01J37/28 , G01B15/00 , G01B15/04 , H01J37/05 , H01J37/244 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , G01B15/00 , G01B15/04 , H01J2237/0492 , H01J2237/24495 , H01J2237/281 , H01J2237/2815 , H01J2237/2817
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning electron microscope forming an electric field that pulls up electrons discharged from the bottom of a hole or the like with high efficiency even when a sample surface is made of a conductive material.SOLUTION: A scanning electron microscope includes: a deflector for deflecting a scanning position of an electron beam; a sample stage for mounting a sample thereon; and a controller for controlling the deflector or the sample stage so that an underlying lower layer pattern of a pattern to be measured irradiates underlying other patterns with the electron beam before the pattern to be measured is irradiated with the electron beam.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种形成电场的扫描电子显微镜，即使当样品表面由导电材料制成时，也可以高效率地拉出从孔底等排出的电子。溶解度：扫描电子显微镜包括：偏转器，用于偏转电子束的扫描位置; 用于在其上安装样品的样品台; 以及控制器，用于控制偏转器或样品台，使得要被测量的图案的下面的下层图案用电子束照射待测量图案之前用电子束照射下面的其他图案。

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