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1. 发明专利

JP2021135167A 電子線照射装置のビーム像取得用材、及び電子線照射装置のビーム像取得方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021135167A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020031559
申请日：2020-02-27
申请人：株式会社NHVコーポレーション
发明人：今西友晴
IPC分类号： G21K1/087 , G21K5/04 , G21K5/00
摘要：【課題】取扱いが容易な電子線照射装置のビーム像取得用材を提供する。【解決手段】ビーム像取得用紙25は、電子線eの照射に基づく熱にて色変化する感熱インクが基紙に塗布又は含浸されて構成されている。【選択図】図2

2. 发明专利

JP6883478B2 半導体装置有权
公开(公告)号：JP6883478B2
公开(公告)日：2021-06-09
申请号：JP2017121996
申请日：2017-06-22
申请人：東芝デバイス&ストレージ株式会社 , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：岡田史朗 , 森健太郎 , 千葉一浩 , 五島嘉国 , 鍋屋信介
IPC分类号： G21K1/087 , H01J37/305 , H01J37/147 , H01L21/027

3. 发明专利

JP6586020B2 粒子線治療装置有权
公开(公告)号：JP6586020B2
公开(公告)日：2019-10-02
申请号：JP2016008179
申请日：2016-01-19
申请人：株式会社東芝 , 東芝エネルギーシステムズ株式会社
发明人：受川鉄平 , 石山洋 , 松井健太郎 , 瀧口裕司 , 小林英夫
IPC分类号： G21K5/04 , G21K1/087 , G21K1/093 , A61N5/10

4. 发明专利

JP2019009208A 半導体装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019009208A
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：JP2017121996
申请日：2017-06-22
申请人：東芝デバイス&ストレージ株式会社 , 株式会社ニューフレアテクノロジー
发明人：岡田史朗 , 森健太郎 , 千葉一浩 , 五島嘉国 , 鍋屋信介
IPC分类号： G21K1/087 , H01J37/305 , H01J37/147 , H01L21/027
摘要：【課題】高い位置精度で配置された貫通孔を有する半導体チップを備えた半導体装置を提供する。【解決手段】半導体装置は、複数の貫通孔12を有する領域14を含む半導体チップ10と、領域14よりも大きい第1の開口部21を有し、樹脂又はセラミックスを含む基板20と、半導体チップ10と基板20との間に設けられ、領域14よりも大きい第2の開口部31を有するスペーサ30と、半導体チップ10とスペーサ30との間に設けられた第1の接合材40と、スペーサ30と基板20との間に設けられた第2の接合材42と、を備える。【選択図】図1

5. 发明专利

JP5390476B2 Particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP5390476B2
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：JP2010132915
申请日：2010-06-10
申请人：三菱電機株式会社
发明人：泰三本田 , 久原田 , 越虎蒲 , 雄一山本 , 高明岩田
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K5/04

6. 发明专利

JP5283958B2 Electron beam irradiation apparatus and processing apparatus having the same 有权
公开(公告)号：JP5283958B2
公开(公告)日：2013-09-04
申请号：JP2008111514
申请日：2008-04-22
申请人：キヤノン株式会社
发明人：哲郎齊藤 , 康蒲池
IPC分类号： G21K5/04 , G21K1/087 , H01J37/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve the problem of inconvenient cases where a section irradiated with an electron beam is illuminated when an electron beam irradiator radiates light along with electrons. SOLUTION: A means for deflecting the electron beam is placed in the electron beam irradiator to separate the electron beam from the light, and, at the same time, constituent members are blackened or are composed of black materials so that the light cannot be reflected in the electron beam irradiator. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

7. 发明专利

JP2011156340A Particle beam therapy apparatus 有权
标题翻译：颗粒束治疗装置
公开(公告)号：JP2011156340A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：JP2010132915
申请日：2010-06-10
申请人： Mitsubishi Electric Corp , 三菱電機株式会社
发明人： HONDA YASUZO , HARADA HISASHI , PU YUEHU , YAMAMOTO YUICHI , IWATA TAKAAKI
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K5/04
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle beam therapy apparatus that achieves high-precision beam irradiation by reducing the influence of the hysteresis of a scanning electromagnet.
SOLUTION: The particle beam therapy apparatus includes an irradiation management device 32 for controlling the scanning electromagnet 3 based on a desired irradiation position coordinate Pi of a charged-particle beam 1b, and a position monitor 7 for measuring a measuring position coordinate Ps of the charged-particle beam 1b. The irradiation management device 32 has correction data Ia generated based on the measuring position coordinate Ps and the desired irradiation position coordinate Pi, which are measured with the position monitor 7 during prior irradiation in which an excitation pattern of the scanning electromagnet is the same as that planned for main irradiation, a memory for saving the correction data Ia, and a command value generator 25 that outputs a control input Io (Ir) to the scanning electromagnet 3 based on the correction data Ia stored in the memory and the desired irradiation position coordinate Pi.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种通过减小扫描电磁体的滞后的影响来实现高精度光束照射的粒子束治疗装置。解决方案：粒子束治疗装置包括：照射管理装置32，用于根据带电粒子束1b的期望的照射位置坐标Pi控制扫描电磁体3;以及位置监视器7，用于测量测量位置坐标Ps 的带电粒子束1b。照射管理装置32具有基于测量位置坐标Ps和期望的照射位置坐标Pi产生的校正数据Ia，其在扫描电磁体的激励图案与扫描电磁体的激励图案相同的情况下，由位置监视器7测量，计划用于主照射，用于保存校正数据Ia的存储器以及基于存储在存储器中的校正数据Ia和期望的照射位置坐标向扫描电磁体3输出控制输入Io（Ir）的命令值发生器25 皮。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP4713242B2 Deflection and convergence instrument of deflection and convergence method and a charged particle beam of charged particle beam 有权
公开(公告)号：JP4713242B2
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：JP2005185522
申请日：2005-06-24
申请人：独立行政法人理化学研究所
发明人：泰規山崎 , 忠成沢 , 拓也根引 , 時浩池田
IPC分类号： G21K1/087 , G21K1/00 , H01J37/147

9. 发明专利

JP4591356B2 Particle beam irradiation apparatus and a particle beam therapy system 有权
公开(公告)号：JP4591356B2
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：JP2006007364
申请日：2006-01-16
申请人：三菱電機株式会社
发明人：克久吉田
IPC分类号： A61N5/10 , G21K1/087 , G21K1/093 , G21K3/00 , G21K5/04
CPC分类号： G21K5/04 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10

10. 发明专利

JP2010256305A X-ray spatial modulator and x-ray exposure apparatus 审中-公开
标题翻译： X射线空间调制器和X射线曝光装置
公开(公告)号：JP2010256305A
公开(公告)日：2010-11-11
申请号：JP2009109915
申请日：2009-04-28
申请人： Nippon Hoso Kyokai , 日本放送協会
发明人： SATO SHIRO , FUNABASHI NOBUHIKO , AOSHIMA KENICHI , MACHIDA KENJI , MIYAMOTO YASUYOSHI , KAWAMURA KIICHI , KUGA ATSUSHI , SHIMIZU NAOKI
IPC分类号： G21K3/00 , G03F1/22 , G03F1/24 , G21K1/00 , G21K1/087 , H01L21/027 , H01L29/82 , H01L43/08
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an X-ray spatial modulator which achieves minute strength modulation in a two-dimensional space of an X-ray beam by electric manipulation.
SOLUTION: The X-ray spatial modulator 1 includes an X-ray modulation means 10 where spin injection magnetization reversal elements (hereinafter, the "ELEMENTS") 5 whose magnetization directions are reversed by spin injection are arranged two-dimensionally, an element selection means 11 for selecting the ELEMENTS 5 reversing their magnetization direction among the two-dimensionally arranged ELEMENTS 5 and a magnetization reversal current injection means 12 for reversing the magnetization direction of the ELEMENTS 5 by injecting a magnetization reversal current for conducting magnetization reversal into the ELEMENTS 5 selected by the element selection means 11. The X-ray spatial modulator 1 modulates the strength distribution in a two-dimensional space of a monochrome circularly-polarized X-ray beam B2 incident into the ELEMENTS 5 and permeating the ELEMENTS 5 through the variation of the absorption ratio of the ELEMENTS 5 to the monochrome circularly-polarized X-ray beam B2 by controlling the magnetization direction of each of the ELEMENTS 5 with the element selection means 11.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供通过电操作在X射线束的二维空间中实现微小强度调制的X射线空间调制器。解决方案：X射线空间调制器1包括X射线调制装置10，其中通过自旋注入使其磁化方向反转的自旋注入磁化反转元件（以下称为“ELEMENTS”）5被二维排列，用于选择在二维排列的元件5中反转它们的磁化方向的元件5的元件选择装置11和用于通过将用于进行磁化反转的磁化反转电流注入到反相器中来反转元件5的磁化方向的磁化反转电流注入装置12 元件选择装置11选择的元件5.X射线空间调制器1调制入射到元件5中的单色圆偏振X射线束B2的二维空间中的强度分布，并通过该元件5透过元件5。通过控制，元件5与单色圆偏振X射线束B2的吸收比的变化使用元素选择装置11使每个元素5的磁化方向发生变化。版权所有：（C）2011，JPO＆INPIT

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