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91. 发明专利

JP3703447B2 Differential pumping system and an exposure apparatus 有权
公开(公告)号：JP3703447B2
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：JP2002261796
申请日：2002-09-06
申请人：キヤノン株式会社
发明人：明三宅 , 信明大串 , 隆行長谷川
IPC分类号： G21K5/00 , F04D19/04 , F04D29/053 , G03F7/20 , G03F7/22 , G21K5/02 , H01L21/027 , F04D29/04
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F7/70916

92. 发明专利

JP3688181B2 A method of manufacturing a lithographic projection apparatus and a device using it 有权
公开(公告)号：JP3688181B2
公开(公告)日：2005-08-24
申请号：JP2000114656
申请日：2000-04-17
申请人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
发明人：ゲラルドウスボウワーアドリアヌス , ウベルトウスヨゼフスビショップステオドルス , マチアスヨアネスレネソエメルスヘルマヌス , ヨツェファマチュースレンケンスミハエル , ヤコブ、フイユフビンケル , コルネリスドリーセンヨハネス
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70766 , G03F7/70716 , G03F7/70758 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , G03F7/70991
摘要： A long-stroke movement is fed-through into a vacuum chamber by providing a sliding seal over an aperture in the vacuum chamber wall. The object to be moved, which may be a mask or wafer table in a lithographic apparatus, within the vacuum chamber is connected to or mounted on the sliding seal and moved by movement of the sliding seal. The sliding seal may be a plate, a bowl or a labyrinth of interleaved plates.

93. 发明专利

JP2005184017A Lithographic apparatus and method of manufacturing device 审中-公开
标题翻译：光刻设备及其制造方法
公开(公告)号：JP2005184017A
公开(公告)日：2005-07-07
申请号：JP2004382768
申请日：2004-12-22
申请人： Asml Netherlands Bv , エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
发明人： BAKKER LEVINUS PIETER
IPC分类号： G03B27/42 , G03B27/52 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70991 , G03F7/70841
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic apparatus, in which a conduit can be fitted without requiring complicated work.
SOLUTION: The lithographic apparatus includes a vacuum chamber 20 provided with a first gas evacuator GE1, and a conduit 22 in communication with a component inside the vacuum chamber 20. The apparatus also includes a conduit shield 24 inside the vacuum chamber 20. The conduit shield 24 provides a conduit path 25 for at least a part of the conduit 22, and shields the vacuum chamber 20 from the conduit path 25. The apparatus further includes a gas evacuation shield 29, extending at least between a gas passage 32 through the conduit shield 24 and a separate gas evacuation penetrating and connecting piece 30 through a wall 21 of the vacuum chamber 20. The gas evacuation shield 29 provides a gas evacuation path 28 from the conduit path 25 into an area outside the vacuum chamber 20, and shields the vacuum chamber 20 from the gas evacuation path 28.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供可以在不需要复杂工作的情况下安装导管的光刻设备。解决方案：光刻设备包括设置有第一气体排出器GE1的真空室20和与真空室20内的部件连通的导管22.该设备还包括在真空室20内的导管屏蔽24。导管屏蔽24为导管22的至少一部分提供导管路径25，并且将真空室20从导管路径25屏蔽。该装置还包括一气体排出屏蔽29，至少在气体通道32通过导管屏蔽24和通过真空室20的壁21分开的气体排出穿透和连接件30.气体排出屏蔽29将气体排出路径28从导管路径25提供到真空室20外部的区域，以及将真空室20从气体排出路径28遮蔽。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

94. 发明专利

JP2005057154A Aligner 审中-公开
标题翻译：定位仪
公开(公告)号：JP2005057154A
公开(公告)日：2005-03-03
申请号：JP2003288438
申请日：2003-08-07
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： TERAJIMA SHIGERU , HASEGAWA TAKAYASU
IPC分类号： G03B27/42 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70808 , G03B27/42 , G03F7/70841
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an aligner which can carry out stable exposure while keeping high vacuum state by preventing outgas from diffusing to a space wherein a mirror and a reticle are arranged.
SOLUTION: In the aligner, light flux emitted from a light source is cast on a treatment object mounted on a first stage through an exposure optical system and the treatment object is exposed. The aligner has a partition for dividing into a first space wherein the first stage is arranged and a second space wherein the exposure optical system is arranged, a first control means for controlling vacuum degree of the first space, and a second control means for controlling vacuum degree of the second space.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以通过防止排气扩散到布置有反射镜和掩模版的空间来保持高真空状态的同时进行稳定曝光的对准器。解决方案：在对准器中，从光源发射的光束通过曝光光学系统投射在安装在第一级上的处理对象上，并且处理对象被暴露。对准器具有用于分割成第一空间的分隔件，其中布置有第一台和布置曝光光学系统的第二空间，用于控制第一空间的真空度的第一控制装置和用于控制真空的第二控制装置第二空间的程度。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

95. 发明专利

JP2004363369A Chamber, aligner, method of fabricating device 有权
标题翻译：室，对准器，制造方法
公开(公告)号：JP2004363369A
公开(公告)日：2004-12-24
申请号：JP2003160677
申请日：2003-06-05
申请人： Canon Inc , キヤノン株式会社
发明人： SAKAMOTO EIJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： F16C29/025 , F16C32/0603 , F16C33/748 , F16C2300/62 , G03F7/70841 , G03F7/70975
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a safety mechanism capable of dealing with such a case as the internal pressure of a vacuum chamber becomes positive with respect to the atmospheric pressure due to failure or accident of the system or artificial mistake. SOLUTION: The chamber internally arranged with a static pressure bearing has a means for detecting the pressure in the chamber and the pressure on the outside of the chamber, and also has a means for lowering the pressure in the chamber based on the detection results from the pressure detecting means. COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够处理真空室的内部压力由于系统的故障或事故或人为错误而相对于大气压变为正的情况的安全机构。解决方案：内部布置有静压轴承的腔室具有用于检测腔室中的压力和腔室外部的压力的装置，并且还具有用于基于检测降低腔室中的压力的装置来自压力检测装置的结果。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

96. 发明专利

JPS58225636A Device for emitting x-ray to object 失效
标题翻译：用于将X射线发射到对象的装置
公开(公告)号：JPS58225636A
公开(公告)日：1983-12-27
申请号：JP10964382
申请日：1982-06-25
申请人： Battelle Development Corp
发明人： FUIRITSUPU JIEI MAROTSUTSUI , HARORUDO EMU EPUSUTEIN
IPC分类号： H01J35/00 , G01N23/00 , G03F7/20 , H01J35/18 , H01J35/20 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y10/00 , G03F7/70033 , G03F7/7035 , G03F7/70841

97. 发明专利

JP2017538138A 真空直線フィードスルー及び当該真空直線フィードスルーを有する真空システム审中-公开
公开(公告)号：JP2017538138A
公开(公告)日：2017-12-21
申请号：JP2017518449
申请日：2015-09-23
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ルースマティアス , ルースマティアス , フォカオイゲン , フォカオイゲン
IPC分类号： G03F7/20 , F04B45/00 , F04B45/02
CPC分类号： G03F7/70708 , G03F7/70841 , G03F7/70916 , H01J2237/022 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221
摘要：本発明は、コンポーネントの取付け用の第1端(21a)及び第1端の反対側にある真空ハウジングの取付け用の第2端(21b)を有する真空ダイヤフラムベローズ(21)と、真空ダイヤフラムベローズ(21)の長手方向(X)に真空ダイヤフラムベローズ(21)の直線往復運動を発生させるアクチュエータデバイス(27)とを備えた真空直線フィードスルー(20)に関する。真空直線フィードスルー(20)は、第1端(21a)で真空ダイヤフラムベローズ(21)に接続された少なくとも1つの第1シールド(30、30’)と、第2端(21b)で真空ダイヤフラムベローズ(21)に接続された少なくとも1つの第2シールド(31、31’)とを備え、少なくとも1つの第1及び第2シールド(30、30’、31、31’)は真空ダイヤフラムベローズ(21)を環状に囲み、少なくとも1つの第1及び第2シールド(30、30’、31、31’)は真空ダイヤフラムベローズ(21)の長手方向(X)で重なり、少なくとも1つの第1シールド(30)及び少なくとも1つの第2シールド(31)は永久磁性材料から形成され、且つ/又は真空直線フィードスルー(20)は、第1シールド(30’)と第2シールド(31’)との間に電界(E)を発生させる電圧発生デバイス(33)を備える。本発明はさらに、少なくとも1つのかかる真空直線フィードスルー(20)を有する真空システム、特にEUVリソグラフィシステムに関する。【選択図】図3

98. 发明专利

JP2017515142A リソグラフィ装置及びデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017515142A
公开(公告)日：2017-06-08
申请号：JP2016559420
申请日：2015-03-17
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ. , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ヤンセン，ゲラルドス，アーノルドス，ヘンドリカス，フランシスカス , バレン，マーティンヴァン , バレン，マーティンヴァン
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/677
CPC分类号： G03F7/70875 , G03F7/7075 , G03F7/708 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , G03F7/70866 , H01L21/67 , H01L21/6719 , H01L21/67196 , H01L21/67265 , H01L21/67742
摘要：【課題】リソグラフィ装置と共に使用するためのシステムを提供する。【解決手段】システムは、基板を処理するとともにガス源に結合され、基板が通過する空間と、空間外部で生じる熱負荷から空間を熱的に絶縁するための熱シールドと、を備える。熱シールドは、それらの間にギャップを伴う第1の壁及び第2の壁(第1の壁は空間と第2の壁との間に位置決めされる)と、ガス源からのガスの流れを空間外部からギャップ内に流入させる少なくとも1つの入口開口部と、ガスの流れをギャップから空間外部へと流出させる少なくとも1つの出口開口部と、を有する。システムは、ガス源からのガスの流れを、少なくとも1つの入口開口部を通過させてギャップに流入させ、ギャップを通過させ、少なくとも1つの出口開口部を通過させてギャップから空間外部へと流出させるように誘導し、それにより、空間外部で生じる熱負荷による空間内の熱変動を減少させる。【選択図】図3

99. 发明专利

JP6087573B2 処理装置、それを用いた物品の製造方法有权
标题翻译：处理器，采用相同的物品制造方法
公开(公告)号：JP6087573B2
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：JP2012233558
申请日：2012-10-23
申请人：キヤノン株式会社
发明人：岩▲瀬▼ 大介 , 是永伸茂
IPC分类号： H01L21/677 , H01J37/09 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/26 , B23Q3/02 , G03F7/70833 , G03F7/70841 , G03F7/709 , G21K5/08

100. 发明专利

JP2016533517A 光学装置、特にプラズマ光源またはＥＵＶリソグラフィ装置审中-公开
标题翻译：光学装置，尤其是等离子体源或EUV光刻设备
公开(公告)号：JP2016533517A
公开(公告)日：2016-10-27
申请号：JP2016517565
申请日：2014-08-18
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ベッカーモーリツ , ベッカーモーリツ , ウルリヒ　ミュラー , ミュラーウルリヒ , アープオリバー , アープオリバー
IPC分类号： G03F7/20 , C01B32/55 , H05G2/00
CPC分类号： B08B7/0092 , B08B5/04 , B24C1/003 , B24C7/0053 , C01B32/55 , G01N21/8806 , G01N21/94 , G02B27/0006 , G03F7/70841 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F7/70925 , G03F7/70975 , H01J65/048 , H05G2/001
摘要：本発明は光学装置、特にプラズマ光源(1´)またはEUVリソグラフィ装置に関する。光学装置は、ハウジング内部空間(3)を封入するハウジング(2)、ハウジング(2)内で真空を発生させる真空発生ユニット(12)、ハウジング内部空間(3)内に配置された少なくとも1つの表面(13)、表面(13)に堆積した汚染物質(14)を除去する洗浄装置(15)、および表面(13)をモニタリングするモニタリング装置(25)を備える。モニタリング装置(25)は、表面(13)に合わせることが可能なモニタリング用光学機器(26)を備える。洗浄装置(15)は、CO2ペレット(17)の形状でCO2を放出することで、堆積した汚染物質(14)を除去するよう設計されている。【選択図】図2
摘要翻译：本发明是一种光学设备，并且更具体地涉及等离子源（1“）或EUV光刻设备。所述光学装置包括外壳包围的壳体的内部空间（3）（2），用于产生其被布置在所述壳体的内部空间（3）中的至少一个表面上的真空（12）的壳体（2）的真空产生单元（13），清洁装置（15），以在沉积的污染物（14）除去表面（13），以及用于监测所述表面（13）监视装置包括一个（25）。监控装置（25）包括用于该可定制，以（13）（26）监视的表面的光学器件。清洁装置（15），通过在CO 2颗粒的形式（17）释放所述二氧化碳被设计沉积的污染物（14）以除去。 .The

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