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3. 发明专利

JP2017021392A 露光装置及びデバイス製造方法有权
标题翻译：曝光装置及元件制造方法
公开(公告)号：JP2017021392A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2016216513
申请日：2016-11-04
申请人：株式会社ニコン
发明人：白石健一
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/70916
摘要：【課題】液浸法に基づく露光処理及び計測処理を精度良く行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置(EX)は、投影光学系(PL)の像面側に液体(LQ)の液浸領域(AR2)を形成し、投影光学系(PL)と液浸領域(AR2)の液体(LQ)とを介して基板(P)を露光するものであって、液浸領域(AR2)を形成するための液体(LQ)の性質及び成分のうち少なくともいずれか一方を計測する計測装置(60)を備えている。【選択図】図1
摘要翻译：提供了一种用于液浸法的曝光过程中的曝光装置和测量方法是基于可以精确地执行。的曝光装置（EX）具有在（PL）的像面侧的投影光学系统，以形成液体（LQ）浸渍（AR2）区域，在投影光学系统（PL）与液浸区域（AR2）液体是一个经由（LQ）使基板（P），其性质和测量用于测量所述液体的组分的至少一种用于形成液浸区域（AR2）（LQ）并且它包括装置（60）。点域1

6. 发明专利

JP2015163996A 露光装置、露光方法、並びにデバイス製造方法有权
标题翻译：曝光装置，曝光方法和装置制造方法
公开(公告)号：JP2015163996A
公开(公告)日：2015-09-10
申请号：JP2015120109
申请日：2015-06-15
申请人：株式会社ニコン
发明人：長坂博之
IPC分类号： G03F7/22
CPC分类号： G03F7/70341 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325
摘要：【課題】複数種類のフォトレジスト層がそれぞれ設けられた複数の基板に対して、液浸露光を円滑に行うことができる露光装置を提供する。【解決手段】投影光学系と液体とを介してパターンの像を基板上に投影することにより基板を露光する際、記憶装置に記憶された液浸条件の中から基板上の液体接触面に形成される膜部材に最適なものを選択する。【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供能够平滑地进行浸渍曝光于其上分别设置有多种类型的光致抗蚀剂层的多个基板的曝光装置。解决方案：通过在基板上投影图案的图像来曝光基板通过投影光学系统和液体，从存储在存储装置中的浸渍条件中选择形成在基板上的液体接触表面上的膜构件的最佳浸渍条件。

10. 发明专利

JP2014132666A Exposure apparatus, and method for manufacturing device 有权
标题翻译：曝光装置和制造装置的方法
公开(公告)号：JP2014132666A
公开(公告)日：2014-07-17
申请号：JP2014018562
申请日：2014-02-03
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： HARA HIDEAKI
IPC分类号： H01L21/027 , G01B11/00 , G02B21/26 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70758 , G03B27/42 , G03F7/2041 , G03F7/70325 , G03F7/70341 , G03F7/709
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure apparatus which can supply and recover liquid in a desired state, and suppress deterioration of a pattern image projected on a substrate.SOLUTION: An exposure apparatus comprises: a nozzle member (70) having a supply opening (12) for supplying liquid (LQ) and a recovery opening (22) for recovering the liquid (LQ); and an anti-vibration mechanism (60) for performing anti-vibration support of a nozzle member (70) against a lower step portion (7) of a main column (1).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够以期望的状态提供和回收液体的曝光装置，并且抑制投影在基板上的图案图像的劣化。曝光装置包括：喷嘴构件（70），具有供给开口（LQ）和用于回收液体（LQ）的回收开口（22）的液体（12）; 以及用于对主柱（1）的下台阶部（7）进行喷嘴构件（70）的防振支撑的防振机构（60）。

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