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1. 发明专利

JP2022002271A 加熱装置、基板処理システム及び加熱方法审中-公开
公开(公告)号：JP2022002271A
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：JP2020106988
申请日：2020-06-22
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：杉本貴史 , ▲高▼橋裕之 , 岡野真也
IPC分类号： H01L21/31 , H01L21/677
摘要：【課題】処理装置の外部で基板を事前に加熱し、加熱後の基板を搬送機構で保持して処理装置に搬送する場合において、処理装置に到達した時点の基板の温度を、基板面内で均一にする。【解決手段】処理装置への基板の搬送前に当該基板を加熱する加熱装置であって、当該加熱装置と前記処理装置との間で基板を保持して搬送する搬送機構が外部に設けられており、基板を支持する支持部と、前記支持部に支持された基板を、平面視で分割した領域毎に、光により互いに独立して加熱可能に、前記光を出射する発光素子を有する加熱部と、を備え、前記搬送機構の基板保持部と接触する基板内の領域に対応する前記発光素子の光出力は、基板内の他の領域に対応する前記発光素子の光出力より高い。【選択図】図6

2. 发明专利

JP2022002255A 収納モジュール、基板処理システムおよび消耗部材の搬送方法审中-公开
公开(公告)号：JP2022002255A
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：JP2020106519
申请日：2020-06-19
申请人：東京エレクトロン株式会社
发明人：網倉紀彦 , 北正知
IPC分类号： H01L21/677 , H01L21/68
摘要：【課題】フットプリントを低減することができる収納モジュール、基板処理システムおよび消耗部材の搬送方法を提供する。【解決手段】収納モジュールは、載置台と、センサと、回転部と、収納部と、昇降部とを有する。載置台は、消耗部材を載置する。センサは、消耗部材の向きを検出する。回転部は、センサによって検出された消耗部材の向きに基づいて、消耗部材を所定の向きに回転させる。収納部は、載置台の下部に位置し、消耗部材を収納する。昇降部は、収納部を昇降させる。【選択図】図2

3. 发明专利

JP2021197459A ウエハ離脱装置及びウエハ離脱方法有权
公开(公告)号：JP2021197459A
公开(公告)日：2021-12-27
申请号：JP2020103145
申请日：2020-06-15
申请人：日新イオン機器株式会社
发明人：足立昌和 , 井上真輔
IPC分类号： B25J15/00 , H01L21/677
摘要：【課題】静電チャックからウエハを早期に離脱させるウエハ離脱装置とその方法を提供する。【解決手段】ウエハ離脱装置Dは、ウエハ処理時に直流の吸着電圧を印加してウエハを吸着する静電チャック2と、ウエハ1を離脱する離脱機構と、吸着電圧と離脱機構とを制御する制御装置Cを備え、制御装置Cが、吸着電圧の停止後、離脱機構で静電チャック2からウエハ1を離すためにウエハ1に力を加えながら吸着電圧よりも小さい同極性の電圧を静電チャック2に印加する。【選択図】図4

4. 发明专利

JP2021197374A 基板保持装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021197374A
公开(公告)日：2021-12-27
申请号：JP2020100113
申请日：2020-06-09
申请人：川崎重工業株式会社
发明人：木下真也
IPC分类号： B25J15/00 , H01L21/677
摘要：【課題】基板保持装置のメンテナンス性を向上させる。【解決手段】基板保持装置2は、ベース3と、ベース3に取り付けられ、基板を保持する複数の保持体5とを備えている。複数の保持体5は、所定の配列方向に配列されていると共に、配列方向に交差する面である基準面Rと平行に着脱可能にベース3に取り付けられている。【選択図】図4

5. 发明专利

JP6983206B2 基板搬送装置、および、基板搬送方法有权
公开(公告)号：JP6983206B2
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：JP2019188732
申请日：2019-10-15
申请人：株式会社アルバック
发明人：武者和博 , 南展史 , 鈴木傑之
IPC分类号： B25J9/10 , H01L21/677

6. 发明专利

JP6981049B2 ロードポート装置及びウエハ搬送容器有权
公开(公告)号：JP6981049B2
公开(公告)日：2021-12-15
申请号：JP2017107183
申请日：2017-05-30
申请人： TDK株式会社
发明人：加藤望 , 佐々木睦夫 , 小番達裕 , 岩本忠将
IPC分类号： H01L21/673 , H01L21/677

7. 发明专利

JP2021190673A 熱処理装置の基板搬送ユニット审中-公开
公开(公告)号：JP2021190673A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020118016
申请日：2020-07-08
申请人：コヨサーモシステムコリアカンパニーリミテッド
发明人：ロヒョンレ , ナカニシサトル , キムジンヨン , キムミンチョル , ハジェウク
IPC分类号： H01L21/324 , H01L21/677
摘要：【課題】熱処理装置の基板搬送ユニットについて開示する。【解決手段】本発明の熱処理装置の基板搬送ユニットは、ヒーターが実装配置されたチャンバー、及び前記チャンバーの内部にヒーターの表面を横切って設置された多数のラックを含む熱処理装置と、前記ラックの表面に沿って突出するように適所に配置され、前記熱処理装置による熱処理前後の基板に対する搬送と移積載を誘導するボールトランスファーとを含んで構成できる。【選択図】図3

8. 发明专利

JP2021190591A 被加工物の搬送方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021190591A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020095418
申请日：2020-06-01
申请人：株式会社ディスコ
发明人：廣沢俊一郎
IPC分类号： H01L21/301 , H01L21/304 , B24B7/04 , B24B41/06 , H01L21/677
摘要：【課題】反った状態の被加工物を適切に搬送することが可能な被加工物の搬送方法を提供する。【解決手段】被加工物の搬送方法であって、被加工物をチャックテーブルの保持面で吸引保持し、被加工物に対して加工を施す加工ステップと、チャックテーブルによる被加工物の吸引を解除し、加工によって生じた反りを有する被加工物の表面又は裏面の高さを複数の位置で測定し、複数の方向における被加工物の反りの大きさを検出し、複数の方向のうち最も被加工物の反りが小さい低反り方向を特定する反り方向特定ステップと、一対の支持レールを備えるカセットに、低反り方向が支持レールの長さ方向に沿った状態で被加工物を収容する収容ステップと、バー状の吸引機構をカセットに侵入させ、低反り方向に吸引機構の長さ方向が沿った状態で被加工物を吸引機構で吸引保持し、被加工物をカセットから搬出する被加工物搬出ステップと、を備える。【選択図】図6

9. 发明专利

JP2021190506A 部品受渡し装置有权
公开(公告)号：JP2021190506A
公开(公告)日：2021-12-13
申请号：JP2020092482
申请日：2020-05-27
申请人：上野精機株式会社
发明人：永里正一
IPC分类号： H01L21/677 , G01B11/00 , H01L21/68
摘要：【課題】電子部品の受け渡しの際に接近させる部材を所定の位置に正確に配置させることが可能な部品受渡し装置を提供する。【解決手段】対向して配置される部材A1、B1の少なくとも一方を仮想直線L1に平行に移動させて、部材A1、B1を接近させ、部材A1、B1間にある電子部品Wを部材B1に渡す部品受渡し装置10において、部材A1、B1が非対向に配置された状態で、仮想直線L1に平行な方向に部材A1又は部材B1を対向位置から撮像した第1の画像、及び、対向配置されている部材A1、B1の双方を仮想直線L1に直交する方向に撮像した第2の画像を得る撮像手段19と、第1、第2の画像の各被撮像物から撮像手段19に至る光路上に設けられ、光の反射及び屈折のいずれか一方又は双方により、撮像手段19に第1、第2の画像をとらえさせる光路調整手段20とを備える。【選択図】図1

10. 发明专利

JPWO2020153041A1 搬送システム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2020153041A1
公开(公告)日：2021-12-09
申请号：JP2019048872
申请日：2019-12-13
申请人：村田機械株式会社
发明人：和田栄治
IPC分类号： B65G1/04 , H01L21/677
摘要：【課題】異なる軌道を走行する天井搬送車間で物品を円滑に受け渡すことにより、物品の搬送効率を向上させる。【解決手段】搬送システムSYS1は、第1天井軌道23を走行する第1天井搬送車60と、第2天井軌道31及び第3天井軌道32を走行する第2天井搬送車50と、第1天井搬送車60及び第2天井搬送車50との間で物品の受け渡しが可能な第1載置部14a及び第2載置部14bとを備え、第1天井搬送車60、第2天井搬送車50、第1載置部14a、及び第2載置部14bのうち少なくとも1つには、物品2を垂直軸まわりに回転させる回転機構(15、56、66)が設けられる。

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