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1. 发明专利

JP5973724B2 真空環境用のリニアモータシステムおよびその設計方法有权
标题翻译：线性电动机系统及其用于真空环境的设计方法
公开(公告)号：JP5973724B2
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：JP2011287539
申请日：2011-12-28
申请人：エーエスエムエルホールディングエヌ.ブイ.
发明人：エンリコゾルダン
IPC分类号： H01L21/027 , H02K41/03
CPC分类号： H02K9/22 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H02K41/03 , H02K9/19 , Y10T29/49004

2. 发明专利

JP5732525B2 コレクタミラーアセンブリおよび極端紫外線放射の生成方法有权
标题翻译：产生一收集器反射镜组件和极紫外辐射的方法
公开(公告)号：JP5732525B2
公开(公告)日：2015-06-10
申请号：JP2013505378
申请日：2011-03-18
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ラベッツスキ,ドズミトリ , ループストラ,エリック , ケンペン,アントニウス
IPC分类号： H05G2/00 , H01L21/027
CPC分类号： G02B5/08 , G03F7/20 , G03F7/70033 , G03F7/70175 , G03F7/70808 , G03F7/70841 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , G03F7/70933 , G21K5/04

3. 发明专利

JP5495547B2 Processing apparatus, and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5495547B2
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：JP2008330368
申请日：2008-12-25
申请人：キヤノン株式会社
发明人：篤志梅村
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70858 , G03F7/70841 , G03F7/70891

4. 发明专利

JP5453778B2 Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method 有权
公开(公告)号：JP5453778B2
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：JP2008296764
申请日：2008-11-20
申请人：株式会社ニコン
发明人：仁西川
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00 , G02B19/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70916 , G03F7/70075 , G03F7/702 , G03F7/70841 , G03F7/70908

5. 发明专利

JP2014027308A Lithographic apparatus, and device manufacturing method 有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC设备和设备制造方法
公开(公告)号：JP2014027308A
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：JP2013228111
申请日：2013-11-01
申请人： Asml Netherlands Bv , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人： CADEE THEODORUS PETRUS MARIA , JACOBS JOHANNES HENRICUS WILHELMUS , NICOLAAS TEN KATE , LOOPSTRA ERIK ROELOF , ASHWIN RODEVICK HENDRICKS JOHANNES VAN MEHL , JEROEN JOHANNES SOPHIA MARIA MERTENS , CHRISTIANUS GERARDUS MARIA DE MOL , MUITJENS MARCEL JOHANNUS ELISABETH HUBERTUS , VAN DER NET ANTONIUS J , OTTENS JOOST JEROEN , QUAEDACKERS JOHANNES ANNA , REUHMAN-HUISKEN MARIA ELISABETH , MARCO COELHO STAUFEN , TINNEMANS PATRICIUS ALOYSIUS J , VERHAGEN MARTINUS CORNELIS MARIA , VERSPAIJ JACOBUS JOHANNUS LEONARDUS HENDRICUS , DE JONG FREDERIK EDUARD , GOORMAN KOEN , MENCHTCHIKOV BORIS , BOOM HERMAN , STOYAN NIHTIANOV , MOERMAN RICHARD , SMEETS MARTIN FRANS PIERRE , SCHOONDERMARK BART LEONARD PETER , JANSSEN FRANCISCUS JOHANNES JOSEPH , RIEPEN MICHEL
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a system that reduces lithography errors caused by immersion liquid.SOLUTION: A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to adjust a radiation beam; a support body configured to support a pattern forming device capable of imparting a pattern to the radiation beam in a cross section of the radiation beam to form a pattern formed radiation beam; a substrate table configured to hold a substrate; a projection system configured to project the pattern formed radiation beam onto a target portion of the substrate; a liquid supply system configured to fill at least a part of space between a final element of the projection system and the substrate with liquid; a seal member arranged to substantially contain the liquid within the space between the final element of the projection system and the substrate; and elements to control and/or compensate for evaporation of the immersion liquid from the substrate.
摘要翻译：要解决的问题：提供减少由浸没液体引起的光刻误差的系统。解决方案：光刻设备包括：照明系统，被配置为调节辐射束; 支撑体，被配置为支撑图案形成装置，其能够在所述辐射束的横截面中赋予所述辐射束的图案以形成图案形成的辐射束; 被配置为保持基板的基板台; 投影系统，被配置为将所述图案形成的辐射束投影到所述基板的目标部分上; 液体供应系统，其配置成用液体填充所述投影系统的最终元件和所述基板之间的至少一部分空间; 密封构件，其布置成基本上将所述液体容纳在所述投影系统的最终元件与所述基板之间的空间内; 以及用于控制和/或补偿来自衬底的浸没液体的蒸发的元件。

7. 发明专利

JP5186347B2 Differential pumping system 有权
公开(公告)号：JP5186347B2
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：JP2008309878
申请日：2008-12-04
申请人：ギガフォトン株式会社 , 株式会社荏原製作所
发明人：浩染谷 , 幸雄渡辺 , 信一関口
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70841 , G03F7/70033 , G03F7/70808 , H05G2/003 , H05G2/008

8. 发明专利

JP5141979B2 Stage device and exposure device 有权
公开(公告)号：JP5141979B2
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：JP2008537485
申请日：2007-09-26
申请人：株式会社ニコン
发明人：慶一田中
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G03F7/70858 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70766 , G03F7/70783 , G03F7/70808 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , H01J37/3174

9. 发明专利

JP4966328B2 Lithographic apparatus and a vacuum chamber 有权
公开(公告)号：JP4966328B2
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：JP2009067140
申请日：2009-03-19
申请人：エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人：ダメン，ヨハネス，ウィルヘルムス
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70825 , G03F7/70841

10. 发明专利

JP2012119682A Actuation system and lithographic apparatus 有权
标题翻译：启动系统和平面设备
公开(公告)号：JP2012119682A
公开(公告)日：2012-06-21
申请号：JP2011257180
申请日：2011-11-25
申请人： Asml Netherlands Bv , エーエスエムエルネザーランズビー.ブイ.
发明人： DAMEN JOHANNES WILHELMUS , CONEN MARTINUS JACOBS , LANGELER HERMANUS ANTONIUS
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： H01R13/02 , G03B27/54 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , G03F7/70991
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide actuation systems and lithographic apparatus which address the issue of uncontrolled return of common mode currents, and to prevent the occurrence of corona and discharge between high voltage electric cables in low pressure environments in a main embodiment.SOLUTION: An exemplary actuation system comprises an actuator module, a power source and power transmission cables. The actuator module includes an electrical motor and a first plurality of shielded cables configured to connect to the electrical motor at one end. The actuator module is located in a low pressure environment and each shield of the first plurality of cables is grounded. The transmission cables electrically connect the first plurality of cables with power supply, and comprise an extra cable which is configured to connect each shield of the first plurality of cables with the first extra cable, via a choke so as to provide a return path for common-mode currents.
摘要翻译：要解决的问题：提供解决共模电流不受控制返回问题的致动系统和光刻设备，并且在主要实施例中防止在低压环境中的高压电缆之间发生电晕和放电。解决方案：示例性致动系统包括致动器模块，电源和电力传输电缆。致动器模块包括电动马达和被配置为在一端连接到电动马达的第一多个屏蔽电缆。致动器模块位于低压环境中，并且第一多个电缆的每个屏蔽件接地。传输电缆将第一多个电缆与电源电连接，并且包括额外的电缆，其被配置为经由扼流圈将第一多个电缆的每个屏蔽件与第一附加电缆连接，以便提供用于共用的返回路径模式电流。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

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