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    • 6. 发明专利
    • リソグラフィ装置の製造方法、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
    • 光刻设备的制造方法,光刻设备及其制造方法
    • JP2016164941A
    • 2016-09-08
    • JP2015045085
    • 2015-03-06
    • キヤノン株式会社
    • 岩▲瀬▼ 大介是永 伸茂吉田 崇
    • G03F7/20H01L21/68H01L21/027
    • 【課題】照射部とステージとの相対位置を計測する計測部の光軸の調整を容易に行うために有利な技術を提供する。 【解決手段】パターンを基板に形成するリソグラフィ装置の製造方法であって、前記リソグラフィ装置は、ベースと、前記ベースに支持され、前記基板を保持して前記ベースに対して移動可能なステージと、前記ベースおよび前記ステージを収容するチャンバと、前記チャンバに固定された計測対象部材と、前記ベースに支持され、前記計測対象部材の位置を計測するためのヘッド部とを含み、前記製造方法は、前記ベースと前記計測対象部材との位置関係を規定するための位置決め部材を用いて、前記計測対象部材を前記ベースに対して位置決めする第1工程と、前記第1工程で位置決めされた前記計測対象部材に対して前記ヘッド部の計測軸を調整する第2工程と、前記第2工程の後、前記チャンバに前記ベースを収容する第3工程とを含む。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种有利于容易地调节测量部分的光轴的技术,其测量辐射部分和台的相对位置。解决方案:光刻设备包括:基座; 支撑在基座上的台架保持基板,并且可相对于底座移动; 储存基座和台架的室; 固定到所述室的测量对象构件; 以及由所述基座支撑并用于测量所述测量对象构件的位置的头部。 在基板上形成图案的光刻设备的制造方法包括:第一步骤,其中测量对象构件通过使用用于限定基座和测量对象构件之间的物理关系的定位构件相对于基座定位; 第二步骤,相对于位于第一步骤中的测量对象构件调节头部的测量轴; 以及第三步骤,其中基座在第二步骤之后存储在腔室中。选择图:图1
    • 7. 发明专利
    • リソグラフィ装置、および物品の製造方法
    • LITHOGRAPHIC APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF ARTICLE
    • JP2015213113A
    • 2015-11-26
    • JP2014094878
    • 2014-05-01
    • キヤノン株式会社
    • 岩▲瀬▼ 大介是永 伸茂
    • G03F7/20H01L21/68H01L21/027
    • H01J37/3174G03F7/70058H01J37/3045H01L21/2633H01L21/67259H01J2237/1501H01J2237/20292H01J2237/30455
    • 【課題】基板にパターンを形成する形成部と基板との間における相対位置を補正するために有利な技術を提供する。 【解決手段】パターンを基板に形成するリソグラフィ装置は、ベース部材と、前記基板を保持して前記ベース部材上を可動のステージと、前記ステージに保持された基板にパターン形成を行う形成部と、前記ベース部材および前記ステージを収容し、かつ前記形成部を支持するチャンバと、前記形成部と前記ベース部材との相対位置を検出する検出部と、前記ベース部材を駆動する駆動部と、前記検出部によって検出された前記相対位置が目標相対位置になるように前記駆動部を制御する制御部とを含む。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种有利于校正在基板上形成图案的形成部件与基板之间的相对位置的技术。解决方案:光刻设备在基板上形成图案,包括:基板 会员; 保持基板并可在基部构件上移动的台阶; 形成部,其在由所述载物台保持的所述基板上形成图案; 容纳基部构件和台架并支撑形成部分的室; 检测部,其检测所述形成部和所述基部构件之间的相对位置; 驱动所述基座部件的驱动部; 以及控制部,其控制驱动部,使得由检测部检测出的相对位置成为目标相对位置。