专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

JP6104426B2 案内装置、露光装置および物品の製造方法有权
公开(公告)号：JP6104426B2
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：JP2016077562
申请日：2016-04-07
申请人：キヤノン株式会社
发明人：諸橋明 , 是永伸茂
IPC分类号： F16C29/04 , F16C33/76 , H01L21/68 , G03F7/20 , F16C29/08

2. 发明专利

JP6092523B2 駆動装置、露光装置および物品の製造方法有权
标题翻译：驱动，曝光装置和制品的制造方法
公开(公告)号：JP6092523B2
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：JP2012093396
申请日：2012-04-16
申请人：キヤノン株式会社
发明人：諸橋明 , 是永伸茂
IPC分类号： H01L21/68 , G03F7/20
CPC分类号： H02K7/14 , F16H25/2418 , G03B27/581 , G03B7/20 , G03F7/70758 , F16H25/2204

3. 发明专利

JP2016138661A 案内装置、露光装置および物品の製造方法有权
标题翻译：指导装置，曝光装置及其制造方法
公开(公告)号：JP2016138661A
公开(公告)日：2016-08-04
申请号：JP2016077562
申请日：2016-04-07
申请人：キヤノン株式会社
发明人：諸橋明 , 是永伸茂
IPC分类号： F16C29/04 , F16C33/76 , H01L21/68 , G03F7/20 , F16C29/08
摘要：【課題】駆動装置において、パーティクルの飛散を防止する上で有利な技術を提供する。【解決手段】基台の第1面上に配置された案内部材と、前記案内部材の延伸方向である第1方向に沿って移動可能な移動部材と、を有する案内装置は、前記移動部材に固定されて前記移動部材とともに移動する複数の第1板部材および複数の第2板部材を含み、前記複数の第1板部材は、前記移動部材に対して前記第1方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、前記複数の第2板部材は、前記移動部材に対して、前記第1面に沿う方向であり且つ前記第1方向と交差する第2方向側に設けられ、それぞれが前記第1面と対面する部分から前記第1面と交差する方向に延伸した延伸面を有し、前記複数の第1板部材は前記第1方向に互いに離隔して配置され、前記複数の第2板部材は前記第2方向に互いに離隔して配置されている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供有利于防止驱动装置中的颗粒散射的技术。解决方案：引导装置具有布置在基座的第一表面上的引导构件和可沿第一方向移动的移动构件，是引导构件的延伸方向，并且其包括多个第一板构件和固定到移动构件并与移动构件一起移动的多个第二板构件。多个第一板构件相对于移动构件设置在第一方向侧上，并且每个第一板构件具有从面向第一表面的部分沿与第一表面交叉的方向延伸的延伸表面。所述多个第二板构件相对于所述移动构件设置在所述第二方向侧，所述第二方向侧是沿着所述第一表面的方向并与所述第一方向交叉的方向，并且每个所述第二板构件具有沿与所述第一方向相交的方向延伸的延伸表面表面从面向第一表面的部分。多个第一板构件沿第一方向彼此分离，并且多个第二板构件被布置成在第二方向上彼此分离。选择的图示：图2

4. 发明专利

JP2016004922A ステージ装置、リソグラフィ装置、及び物品の製造方法审中-公开
标题翻译：阶段装置，光刻装置和制造方法
公开(公告)号：JP2016004922A
公开(公告)日：2016-01-12
申请号：JP2014124753
申请日：2014-06-17
申请人：キヤノン株式会社
发明人：石川智規 , 是永伸茂
IPC分类号： H01L21/68 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/3174 , H01J2237/2007
摘要：【課題】鉛直方向の支持に用いる磁石から水平方向に漏れる磁場を低減すること。【解決手段】ステージ装置は、磁石LVMM1、LVMM2と、磁石LVMM1、LVMM2により浮上し、磁石LVMM1、LVMM2とともに水平面に沿う第1方向に移動する移動体と、移動体の可動域において磁石LVMM1、LVMM2の上方で対面する磁性体LVSSを有する固定部材LVSとを備えている。移動体が有する第1の磁場遮蔽面10と固定部材LVSが有する第2の磁場遮蔽面20とを用いて、磁石LVMM1、LVMM2の、少なくとも第1方向の側面を覆うことを特徴とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：减少用于支撑垂直方向的磁体在水平方向上的磁场。解决方案：舞台装置包括磁体LVMM1，LVMM2，通过磁铁LVMM1，LVMM2和与磁体LVMM1，LVMM2以及在可移动体的运动范围内具有面向磁铁LVMM1，LVMM2的上方的磁性材料LVSS的固定构件LVS一起沿水平面沿第一方向移动。至少第一方向的磁铁LVMM1，LVMM2的侧面通过使用可移动体的第一磁场屏蔽表面10和固定部件LVS的第二磁场屏蔽表面20被覆盖。

5. 发明专利

JP6338386B2 リソグラフィ装置、及び物品の製造方法有权
公开(公告)号：JP6338386B2
公开(公告)日：2018-06-06
申请号：JP2014017744
申请日：2014-01-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：伊藤敦史 , 是永伸茂
IPC分类号： G03F7/20 , G01B11/00 , G01B11/26 , G01B9/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70275 , G01B9/02027 , G01B11/26 , G03F7/70258 , G03F7/70383 , G03F7/7085

6. 发明专利

JP6316084B2 リソグラフィ装置、および物品の製造方法有权
公开(公告)号：JP6316084B2
公开(公告)日：2018-04-25
申请号：JP2014094878
申请日：2014-05-01
申请人：キヤノン株式会社
发明人：岩▲瀬▼ 大介 , 是永伸茂
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/3174 , G03F7/70058 , H01J37/3045 , H01J2237/1501 , H01J2237/20292 , H01J2237/30455 , H01L21/2633 , H01L21/67259

7. 发明专利

JP2017208386A 位置決め装置、リソグラフィー装置および物品製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017208386A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：JP2016098152
申请日：2016-05-16
申请人：キヤノン株式会社
发明人：鈴木健太郎 , 是永伸茂 , 岩谷聡
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/68 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70775 , G03F7/0002 , G03F7/707 , G03F7/70716 , G03F7/70758
摘要：【課題】単純な構成で回転に関するストロークを大きくするために有利な技術を提供する。【解決手段】位置決め装置は、互いに直交する第1方向および第2方向に平行な面の上で可動部を移動させるように構成され、前記第2方向における前記可動部の位置を拘束するガイドとしての単一のガイドと、前記可動部を駆動する駆動部とを備える。前記可動部は、前記ガイドによって案内されながら第1方向に移動可能な第1可動体と、第1端および第2端を有し、前記第1端が回転軸受を介して前記第1可動体に接続され、前記面の上で移動する第2可動体と、前記第2可動体によって案内されながら前記第1端と前記第2端との間の所定範囲内で移動可能な第3可動体とを含む。前記駆動部は、前記第2可動体の前記第1端を前記第1方向に駆動する第1駆動部と、前記第2可動体の前記第2端を前記第1方向に駆動する第2駆動部とを含む。【選択図】図4

8. 发明专利

JP2015146342A リソグラフィ装置、及び物品の製造方法有权
标题翻译： LITHOGRAPHIC装置及其制造方法
公开(公告)号：JP2015146342A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2014017744
申请日：2014-01-31
申请人：キヤノン株式会社
发明人：伊藤敦史 , 是永伸茂
IPC分类号： H01L21/683 , G01B11/00 , G01B11/26 , G01B9/02 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70275 , G01B11/26 , G01B9/02027 , G03F7/70258 , G03F7/70383 , G03F7/7085
摘要：【課題】基板上でのビームの位置決め精度の点で有利なリソグラフィ装置を提供する。【解決手段】パターンを基板に形成するリソグラフィ装置であって、前記パターンを形成するためのビームを前記基板に照射する複数の光学系を含み、該光学系の光軸に直交する第1方向及び第2方向のうち少なくとも一方に沿って配列された光学ユニットと、前記光軸に平行な軸のまわりの前記光学ユニットの回転角を計測するための一対の干渉計と、を有し、前記一対の干渉計の計測軸の間の距離は、前記第1方向において最も離れた2つの光学系の光軸の間の距離及び前記第2方向において最も離れた2つの光学系の光軸の間の距離のうち長い方の距離以上であることを特徴とするリソグラフィ装置を提供する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在将光束定位在基板上的准确性方面有利的光刻设备。解决方案：用于在基板上形成图案的光刻设备，包括：光学单元，其包含多个光学系统，用于用光束照射基板以形成图案，并且沿着与光学系统的光轴正交的第一方向和第二方向中的至少一个布置; 以及一对干涉仪，用于测量光学单元绕与光轴平行的轴线的旋转角度。一对干涉仪的测量轴之间的距离长于在第一方向上最远的光学系统的两个光轴之间的距离中较长的一个距离，并且光学系统的两个光轴之间的距离在第二个方向上分离得最远方向。

9. 发明专利

JP2015144269A 描画装置、および物品の製造方法审中-公开
标题翻译：光刻设备及其制造方法
公开(公告)号：JP2015144269A
公开(公告)日：2015-08-06
申请号：JP2014263037
申请日：2014-12-25
申请人：キヤノン株式会社
发明人：伊藤敦史 , 是永伸茂
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/027
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/3002 , H01J37/3174 , H01J2237/20221 , H01J2237/20292 , H01J2237/30438
摘要：【課題】単位面積あたりの生産性の点で有利な描画装置を提供する。【解決手段】描画装置は、それぞれがビームを基板に照射する複数の光学系(CL1−3)と、それぞれが所定のサイズの基板を保持して可動の複数の保持部(FM1−3)と、を含み、複数の光学系に対して複数の保持部を走査させて、該複数の保持部にそれぞれ保持された複数の基板にそれぞれ複数の光学系によりビームで描画を行う。走査の方向に直交する方向において、複数の光学系のうちの互いに隣接する2つの光学系の間隔は、複数の保持部のうちの1つの保持部の長さと前記サイズとの和より短い。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种光刻设备在每单位平方尺度的吞吐量方面更有利。解决方案：光刻设备包括多个光学系统（CL1-3），每个光学系统（CL1-3）每个都用光束照射基板，并且多个保持单元（FM1-3），每个保持单元在保持规定尺寸的基板的同时可移动。使多个光学系统扫描多个保持单元，并且由多个保持单元中的一个或另一个保持的多个基板通过光束进行光刻，每个基板由多个光学系统中的一个或另一个。在与扫描方向正交的方向上，多个光学系统中的两个相邻的光学系统之间的空间比多个保持单元中的每一个的长度和规定尺寸的总和短。

10. 发明专利

JP6761279B2 位置決め装置、リソグラフィー装置および物品製造方法有权
公开(公告)号：JP6761279B2
公开(公告)日：2020-09-23
申请号：JP2016098152
申请日：2016-05-16
申请人：キヤノン株式会社
发明人：鈴木健太郎 , 是永伸茂 , 岩谷聡
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , H01L21/027 , B29C59/02 , G03F9/00

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式