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1. 发明公开

EP4372121A2 WAFER-CHUCK, TRÄGER UND VERFAHREN 审中-实审
公开(公告)号：EP4372121A2
公开(公告)日：2024-05-22
申请号：EP23203999.0
申请日：2023-10-17
申请人： Technische Universität Dresden Körperschaft des öffentlichen Rechts
发明人： KNAUT, Martin
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/52 , C23C14/54 , C23C16/458 , C23C16/52 , H01L21/67 , G01K7/02
CPC分类号： C23C14/50 , C23C14/546 , C23C14/52 , C23C16/52 , C23C16/4586 , G01K7/02 , H01L21/67248
摘要： Ein Träger (100), ein Wafer-Chuck (200) und ein Verfahren (500) werden offenbart, wobei das Verfahren (500) aufweist: Einschleusen (502) eines Trägers (100) in eine Prozesskammer (402), wobei der Träger (100) aufweist: eine Trägerplatte (102), einen auf der Vorderseite (V) der Trägerplatte (102) angeordneten Schwingquarz (104), und einen ersten Elektrodenkontakt (106) und einen zweiten Elektrodenkontakt (108) zum Kontaktieren des Schwingquarzes (104); Koppeln (502) (z.B. in Kontakt bringen) des ersten Elektrodenkontaktes (106) und des zweiten Elektrodenkontaktes (108) mit einer in der Prozesskammer (402) angeordneten Schnittstelle (210); und Anlegen (504) eines Sensorsignals an den Schwingquarz (104) mittels der Schnittstelle (210).

2. 发明授权

EP2540858B1 Cathodic arc deposition 失效转让
标题翻译：阴极电弧沉积
公开(公告)号：EP2540858B1
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：EP11005342.8
申请日：2011-06-30
申请人： Lamina Technologies SA
发明人： Böhlmark, Johan , Curtins, Hermann
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/32 , C23C14/52 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0641 , C23C14/52 , H01J37/34 , H01J37/3414 , H01J37/3476

3. 发明公开

EP2761643A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG EINER REFLEKTIONSMINDERNDEN SCHICHT AUF EINEM SUBSTRAT 有权转让
标题翻译：方法和装置产生的减反射层上的衬底
公开(公告)号：EP2761643A1
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：EP12772719.6
申请日：2012-09-28
申请人： Leybold Optics GmbH
发明人： SCHERER, Michael , PISTNER, Jürgen , HAGENDORN, Harro , KLOSCH-TRAGESER, Michael
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/34 , C23C14/00 , C23C14/02 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C14/52
CPC分类号： H01J37/32082 , C23C14/0036 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/024 , C23C14/34 , C23C14/505 , C23C14/52 , C23C14/568 , C23C14/5826 , H01J37/32733 , H01J37/32779 , H01J37/32889 , H01J37/34 , H01J37/3408 , Y10T428/31504
摘要： The invention relates to an apparatus (1) for producing a reflection‑reducing layer on a surface (21) of a plastics substrate (20). The apparatus comprises a first sputtering device (3) for applying a base layer (22) to the surface (21) of the plastics substrate (20), a plasma source (4) for plasma‑etching the coated substrate surface (21), and a second sputtering device (5) for applying a protective layer (24) to the substrate surface (21). These processing devices (3, 4, 5) are arranged jointly in a vacuum chamber (2), which has inlets (8) for processing gases. In order to move the substrate (20) between the processing devices (3, 4, 5) in the interior of the vacuum chamber (2), a conveying apparatus (10) is provided which is preferably in the form of a rotary table (11). - Furthermore, the invention relates to a method for producing such a reflection‑reducing layer on the surface (21) of the plastics substrate (20).
摘要翻译：本发明涉及的基板的装置（1）的塑料（20）的表面（21）上产生减反射层。该装置包括：第一溅射装置（3），用于将基体层（22）到所述塑料衬底的表面（21）（20），等离子源（4），用于等离子体蚀刻所述涂覆的基材表面（21）以及用于将保护层（24），以在基板表面（21）的第二溅射装置（5）。这些处理装置（3，4，5）在真空室（2），其具有入口（8），用于处理气体被联合地布置。为了将处理设备之间移动所述衬底（20）（3，4，5）在所述真空腔室（2）的内部，一个传送装置（10）提供的所有其优选在一个旋转台的形式（ 11）。进一步地，本发明涉及一种用于制造塑料基板（20）的表面（21）上求降低反射层的方法。

4. 发明公开

EP2501836A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM BESCHICHTEN EINES SUBSTRATES 有权
标题翻译：装置和方法用于涂布基材
公开(公告)号：EP2501836A1
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：EP10782586.1
申请日：2010-11-19
申请人： Fraunhofer Gesellschaft zur Förderung der angewandten Wissenschaft E.V. , Singulus Technologies AG
发明人： SCHÖPKA, Ulrich , ÖCHSNER, Richard , PFEFFER, Markus , MAAß, Wolfram , LANGER, Jürgen , OCKER, Berthold
IPC分类号： C23C14/34 , C23C14/52 , H01J37/34
CPC分类号： C23C14/52 , C23C14/34
摘要： The invention relates to a device for coating a substrate, comprising a vacuum chamber, the inside of which is designed to receive the substrate to be coated and at least one sputter target, which is designed to be removed during operation of the device by particle bombardment, wherein at least one window is disposed in the wall of the vacuum chamber. The device further comprises a unit for determining the removal of the sputter target, said unit having a measurement unit for optically measuring the distance between a predeterminable point outside of the vacuum chamber and at least one predeterminable point on the surface of the sputter target, wherein the measurement unit further comprises an evaluation unit, by means of which a parallax offset and/or geometric distortion can be corrected. The invention further relates to a corresponding method.

5. 发明公开

EP0490727A1 Appareil et creuset pour dépot en phase vapeur 失效
标题翻译：装置和坩埚从气相沉积。
公开(公告)号：EP0490727A1
公开(公告)日：1992-06-17
申请号：EP91403232.1
申请日：1991-11-29
申请人： SOCIETE EUROPEENNE DE PROPULSION
发明人： Valentian, Dominique
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/52 , C30B30/08 , C30B23/02
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/52 , C30B23/02 , C30B30/08
摘要： L'appareil pour dépôt en phase vapeur à haute température comprend une enceinte (6) isolante thermiquement, des premier, deuxième et troisième diffuseurs (3, 4, 5) pour constituer des première, deuxième et troisième zones de chauffage isotherme respectivement autour des premier, deuxième et troisième compartiments (21, 22, 23) d'un creuset fermé amovible (1) destiné à contenir un matériau source dans le premier compartiment (21) et un substrat dans le deuxième compartiment (22).
Les premier, deuxième et troisième diffuseurs (3, 4, 5) sont par construction indépendants thermiquement les uns des autres et présentent chacun une section en forme de U pour enserrer respectivement les premier, deuxième et troisième compartiments (21 à 23) du creuset. Ces premier, deuxième et troisième compartiments (21 à 23) sont disposés de façon non alignée, selon une ligne brisée, de telle sorte que les décalages angulaires assurent un découplage thermique radiatif entre les premier, deuxième et troisième compartiments (21 à 23).

6. 发明公开

EP0275334A1 System for monitoring material dispensed onto a subtrate 失效
标题翻译：系统zum Erfassen von Material auf einem Substrat。
公开(公告)号：EP0275334A1
公开(公告)日：1988-07-27
申请号：EP87100654.0
申请日：1987-01-20
申请人： NORDSON CORPORATION
发明人： Merkel, Stephen L.
IPC分类号： G01N21/88 , B05C5/00
CPC分类号： C23C14/52 , G01J1/42 , G05D5/03
摘要： A system for monitoring energy radiant from a material dispensed onto a substrate (S). As disclosed, an infrared sensor (16) is positioned to receive infrared energy radiated by a substrate and by a heated adhesive (B) applied to the substrate (S), with the resistance of the sensor varying in dependence upon the amount of infrared energy received. An amplifier has an input capacitively coupled to the sensor, and the voltage at the amplifier input varies in dependence upon the resistance of the sensor. The output voltage of the amplifier varies in dependence upon the amplifier input voltage, and hence upon the amount of infrared energy reaching the sensor. In order to prevent inaccuracies in the amplifier output signal due to, for example, temperature-related resistance variations of the sensor, the amplifier input is grounded during intervals when the sensor receives infrared energy from the substrate and ungrounded shortly before the sensor begins to receive infrared energy from the heated adhesive.
摘要翻译：一种用于监测从分配到衬底（S）上的材料辐射的能量的系统。如所公开的，红外传感器（16）被定位成接收由衬底和施加到衬底（S）的加热粘合剂（B）辐射的红外能量，传感器的电阻根据红外能量的量而变化接收。放大器具有与传感器电容耦合的输入，放大器输入端的电压根据传感器的电阻而变化。放大器的输出电压根据放大器的输入电压而变化，并因此依赖于到达传感器的红外能量。为了防止由于例如传感器的温度相关的电阻变化引起的放大器输出信号的不准确性，当传感器从衬底接收到红外能量并在传感器开始接收之前不接地时，放大器输入接地来自加热粘合剂的红外能量。

7. 发明授权

EP2703518B1 Mask assembly for testing a deposition process. 有权转让
标题翻译：用于测试沉积过程的掩模组件。
公开(公告)号：EP2703518B1
公开(公告)日：2017-07-12
申请号：EP13169604.9
申请日：2013-05-29
申请人： Samsung Display Co., Ltd.
发明人： Kim, Min Ho , Cha, You Min , Park, Seuk Hwan
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/54 , C23C14/52 , C23C14/56 , C23C14/46 , B05C3/20
CPC分类号： B05C3/20 , C23C14/042 , C23C14/46 , C23C14/52 , C23C14/542 , C23C14/568
摘要： A deposition apparatus includes deposition sources (S1, S2, S3, S4), a deposition chamber (CB), a mask assembly (MA, MA10, MA20, MA30), and a transfer unit (TP). The mask assembly (MA, MA10, MA20, MA30) includes a support member (10), a shutter member (20), and a drive member (30). The support member (10) has a first opening (OP1) configured to allow the deposition materials (M1, M2, M3, M4) to pass through while supporting the base substrate (SUB) on which the deposition materials are deposited. The shutter member (20) is accommodated in the support member (10) and has a second opening (OP2) smaller than the first opening (OP1). The drive member (30) is configured to change a position of the second opening (OP2) with respect to the base substrate (SUB) in accordance with the movement of the mask assembly (MA, MA10, MA20, MA30).
摘要翻译：沉积设备包括沉积源（S1，S2，S3，S4），沉积室（CB），掩模组件（MA，MA10，MA20，MA30）和转印单元（TP）。面罩组件（MA，MA10，MA20，MA30）包括支撑构件（10），活门构件（20）和驱动构件（30）。支撑构件（10）具有第一开口（OP1），该第一开口（OP1）被配置为允许沉积材料（M1，M2，M3，M4）在支撑沉积有沉积材料的基础基板（SUB）的同时穿过。活门构件20容纳在支撑构件10中并具有比第一开口OP1小的第二开口OP2。驱动构件（30）构造成根据掩模组件（MA，MA10，MA20，MA30）的移动而改变第二开口（OP2）相对于基础基板（SUB）的位置。

8. 发明公开

EP3047054A4 METHODS OF PRODUCING LARGE GRAIN OR SINGLE CRYSTAL FILMS 审中-公开
标题翻译： VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VONGROSSKÖRNIGENODER EINKRISTALLINSCHICHTEN
公开(公告)号：EP3047054A4
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：EP14850433
申请日：2014-08-05
申请人： SOLAR-TECTIC LLC , BLUE WAVE SEMICONDUCTORS INC
发明人： VISPUTE RATNAKAR D , SEISER ANDREW
IPC分类号： C30B23/06 , C23C14/08 , C23C14/30 , C23C14/52 , C23C14/54 , C30B29/16
CPC分类号： C30B23/066 , C23C14/081 , C23C14/30 , C23C14/52 , C23C14/541 , C30B29/16
摘要： Highly textured [111] oriented films such as MgO crystalline films are deposited by e-beam evaporation on ordinary soda-lime glass. Semiconductor films such as silicon can be deposited on these MgO films using eutectics at temperatures below the softening point of ordinary glass and having extremely high textured and strong [111] orientation. The invention may be used for efficient and cost effective solar cells, displays, etc.
摘要翻译：通过电子束蒸发在普通的钠钙玻璃上沉积高度织构化的[111]取向膜，例如MgO晶体膜。可以在低于普通玻璃软化点的温度下使用共晶物质在这些MgO膜上沉积诸如硅的半导体膜，并且具有非常高的纹理和强[111]取向。本发明可用于高效且成本有效的太阳能电池，显示器等。

9. 发明公开

EP3126541A1 VACUUM PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR MOUNTING A PROCESSING SYSTEM 审中-公开
标题翻译： VERFAHREN ZUR MONTAGE EINES VERARBEITUNGSSYSTEMS VAKUUMVERARBEITUNGSSYSTEM
公开(公告)号：EP3126541A1
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：EP14715572.5
申请日：2014-04-02
申请人： Applied Materials, Inc.
发明人： RIES, Florian , HEIN, Stefan , HENRICH, Jürgen , SAUER, Andreas
IPC分类号： C23C14/52 , C23C14/56 , C23C16/54
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/52 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C16/54 , C23C16/545
摘要： A vacuum processing system for a flexible substrate is provided. The processing system includes a first chamber adapted for housing one of a supply roll for providing the flexible substrate and a take-up roll for storing the flexible substrate; a second chamber adapted for housing one of a supply roll for providing the flexible substrate and a take-up roll for storing the flexible substrate; a maintenance zone between the first chamber and the second chamber; and a first process chamber for depositing material on the flexible substrate, wherein the second chamber is provided between the maintenance zone and the first process chamber. The maintenance zone allows for maintenance access to at least one of the first chamber and the second chamber.
摘要翻译：提供了一种用于柔性基底的真空处理系统。处理系统包括适于容纳用于提供柔性基板的供应辊之一和用于存储柔性基板的卷取辊的第一室; 第二室，适于容纳用于提供柔性基板的供应辊中的一个;以及用于存储柔性基板的卷取辊; 第一室和第二室之间的维护区; 以及用于在柔性基板上沉积材料的第一处理室，其中第二室设置在维护区和第一处理室之间。维护区允许对第一室和第二室中的至少一个进行维护。

10. 发明公开

EP2982776A1 PROCESSING DEVICE AND METHOD FOR MEASURING WORKPIECE TEMPERATURE IN PROCESSING DEVICE 审中-公开
标题翻译：处理设备和方法用于测量工件的温度在处理装置
公开(公告)号：EP2982776A1
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：EP14778446.6
申请日：2014-03-11
申请人： Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho (Kobe Steel, Ltd.)
发明人： FUJII, Hirofumi
IPC分类号： C23C14/52 , C23C16/44 , G01K5/50
CPC分类号： G01K5/50 , C23C14/52 , C23C14/541 , C23C16/52 , G01N25/00
摘要： Provided are a processing apparatus (1) and a method capable of accurately measuring a real temperature of a workpiece contained and heated in a chamber. The processing apparatus (1) comprises a chamber (2) containing a workpiece (W), a measurement piece (6) installed in the chamber (2), and a measuring unit (8). The measurement piece (6) is capable of thermal expansion and contraction in response to an internal temperature of the chamber (2). The measuring unit (8) measures a thermal expansion and contraction amount of the measurement piece (6) to thereby measure the real temperature of the workpiece (W).
摘要翻译：本发明提供一种处理装置（1），并测量在一个室含有并加热一个工件的实际温度能够准确地设定的方法。所述处理装置（1）包括（2）含有一个工件（W）的腔室，安装在所述腔室（2）的测量件（6），以及测量单元（8）。测量件（6）是能够响应于在所述腔室（2）的内部温度的热膨胀和收缩的。所述测量单元（8）测量所述测量件（6）的热膨胀和收缩量，从而测量所述工件的实际温度（W）。

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