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    • 3. 发明申请
    • 半導体記憶装置、及びその書込み方法
    • 半导体存储器件及其写入方法
    • WO2017022700A1
    • 2017-02-09
    • PCT/JP2016/072463
    • 2016-08-01
    • 株式会社デンソー
    • 甲斐 芳英
    • G11C16/02G11C16/06
    • G11C11/404G11C7/1096G11C11/4074G11C16/10G11C16/28G11C16/3454G11C2013/0076
    • 半導体記憶装置は、制御電極(122)と、浮遊電極(123)と、ソース(124)と、ドレイン(125)と、を有するメモリセル(121)と、制御電極とドレインを接続するスイッチ(30)と、ソースに所定電圧を印加するソースドライバ(14)と、ソースに所定電流を供給する電流源(20)と、ドレインに所定電圧を印加するドレインドライバ(16)と、制御電極とソース間に生じる電圧を測定する電圧測定回路(22)と、制御電極に所定電圧を印加する制御電極ドライバ(18)と、を有する。メモリセルの書込み時に、電圧測定回路は、スイッチがオンされた状態で電流源からメモリセルに所定電流が流れた時に制御電極とソース間に生じる電圧を測定し、制御電極ドライバは、測定された電圧に基づいて制御された電圧を制御電極に印加する。
    • 该半导体存储装置包括:包括控制电极(122),浮动电极(123),源极(124)和漏极(125)的存储单元(121) 用于连接控制电极和漏极的开关(30); 用于向源提供规定电压的源极驱动器(14); 用于向源提供规定电流的电流源(20); 漏极驱动器(16),用于向所述漏极施加规定的电压; 电压测量电路(22),用于测量控制电极和源极之间产生的电压; 以及用于向控制电极施加规定电压的控制电极驱动器(18)。 当将数据写入存储单元时,电压测量电路在开关导通的状态下,当规定的电流从电流源流向存储单元时,测量控制电极与源极之间产生的电压,并在此基础上 的测量电压,控制电极驱动器将受控电压施加到控制电极。
    • 4. 发明申请
    • Dual Function Hybrid Memory Cell
    • 双功能混合存储单元
    • WO2016172636A1
    • 2016-10-27
    • PCT/US2016/029059
    • 2016-04-22
    • NEO SEMICONDUCTOR, INC.
    • HSU, Fu-Chang
    • H01L29/792H01L21/28G11C11/56G11C16/02
    • G11C16/0475G11C7/1015G11C11/401G11C16/0466G11C16/10G11C2211/4016H01L21/28282H01L27/1211H01L29/4234H01L29/66833H01L29/785H01L29/792
    • A dual function hybrid memory cell is disclosed. In one aspect, the memory cell includes a substrate, a bottom charge-trapping region formed on the substrate, a top charge-trapping region formed on the bottom charge-trapping region, and a gate layer formed on the top charge trapping region. In another aspect, a method for programming a memory cell having a substrate, a bottom charge-trapping layer, a top charge-trapping layer, and a gate layer is disclosed. The method includes biasing a channel region of the substrate, applying a first voltage differential between the gate layer and the channel region, injecting charge into the bottom charge-trapping layer from the channel region based on the first voltage differential. The method also includes applying a second voltage differential between the gate layer and the channel region and injecting charge from the bottom charge-trapping layer into the top charge-trapping layer based on the second voltage differential.
    • 公开了一种双功能混合存储器单元。 一方面,存储单元包括基板,形成在基板上的底部电荷俘获区域,形成在底部电荷俘获区域上的顶部电荷俘获区域和形成在顶部电荷俘获区域上的栅极层。 另一方面,公开了一种用于编程具有衬底,底部电荷俘获层,顶部电荷俘获层和栅极层的存储器单元的方法。 该方法包括偏置衬底的沟道区域,在栅极层和沟道区域之间施加第一电压差,基于第一电压差将电荷从沟道区域注入底部电荷俘获层。 该方法还包括在栅极层和沟道区域之间施加第二电压差,并且基于第二电压差将电荷从底部电荷俘获层注入顶部电荷俘获层。
    • 8. 发明申请
    • 半導体装置
    • 半导体器件
    • WO2016024355A1
    • 2016-02-18
    • PCT/JP2014/071429
    • 2014-08-14
    • ルネサスエレクトロニクス株式会社
    • 樫原 洋次
    • G11C16/04G11C16/02G11C16/06
    • G11C16/24G11C16/0425G11C16/0433G11C16/08G11C16/14G11C16/3427
    •  半導体装置は、複数のスプリット型メモリセル(250L)を含む第1のメモリマット(1L)と、複数のスプリット型メモリセル(250R)を含む第2のメモリマット(1R)と、スプリット型メモリセル(100L)のコントロールゲート(CG)に接続される第1のコントロールゲート線(CGL)と、スプリット型メモリセル(100R)のコントロールゲート(CG)に接続される第2のコントロールゲート線(CGR)とを備える。半導体装置は、さらに、スプリット型メモリセル(100L)のメモリゲート(MG)に接続される第1のメモリゲート線(MGL)と、スプリット型メモリセル(100R)のメモリゲート(MG)に接続される第2のメモリゲート線(MGR)とを備える。
    • 一种半导体器件,包括包括多个分离式存储单元(250L)的第一存储器垫(1L); 包括多个分离型存储单元(250R)的第二存储器垫(1R); 连接到分离式存储单元(100L)的控制栅极(CG)的第一控制栅极线(CGL); 以及连接到分离式存储单元(100R)的控制栅极(CG)的第二控制栅极线(CGR)。 半导体器件还包括连接到分离式存储单元(100L)的存储器栅极(MG)的第一存储器栅极线(MGL); 以及连接到分离式存储单元(100R)的存储器栅极(MG)的第二存储器栅极线(MGR)。