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1. 发明申请

WO2011068101A1 フィラメントの支持方法、電子銃、及び処理装置审中-公开
标题翻译：电子支撑方法，电子枪和加工装置
公开(公告)号：WO2011068101A1
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：PCT/JP2010/071386
申请日：2010-11-30
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一
发明人：飯島　栄一
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/07
CPC分类号： H01J37/075 , H01J37/07
摘要：電子銃は、カソード電極（１３）を熱電子により加熱するために通電されるフィラメント（１２）と、フィラメント（１２）を支持する２つのフィラメント支柱（４２, ４３）とを含む。フィラメント支柱（４２, ４３）の各々は、フィラメント（１２）が取着される先端（４２ｃ, ４３ｃ）と、ベース（４１）に固定される基端とを有する。フィラメント支柱（４２, ４３）の各々は、通電によりフィラメント（１２）に発生する伸びに応じて、それぞれの先端（４２ｃ, ４３ｃ）を変位させる。当該構成により、電子ビーム出力の安定化を図ることが可能となる。
摘要翻译：公开了一种电子枪，包括用热量加热阴极电极（13）的电力的灯丝（12）和用于支撑灯丝（12）的两个灯丝支撑件（42,43）。灯丝支撑件（42,43）分别具有安装灯丝（12）的前端（42c，43c），并且基端部固定在基座（41）上。根据由于施加电力而发生在灯丝（12）处的伸长，灯丝支撑件（42,43）使其前端（42c，43c）分别位移。电子束输出可以用这种配置来稳定。

2. 发明申请

WO2011051305A1 CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM, WITH MODULATION DEVICE 审中-公开
标题翻译：充电颗粒多波束平移系统，带调制装置
公开(公告)号：WO2011051305A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066199
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： A charged particle lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target. The system comprises a beam generator (3) for generating a plurality of charged particle beamlets, the plurality of beamlets defining a column, a beam stop array (10) having a surface for blocking beamlets from reaching the target surface and an array of apertures in the surface for allowing the beamlets to reach the target surface, and a modulation (9) device for modulating the beamlets to prevent one or more of the beamlets from reaching the target surface or allow one or more of the beamlets to reach the target surface, by deflecting or not deflecting the beamlets so that the beamlets are blocked or not blocked by the beam stop array. The modulation device comprises a plurality of apertures arranged in arrays for letting the beamlets pass through the modulation device, a plurality of modulators (30) arranged in arrays, each modulator provided with electrodes (32, 34) extending on opposing sides of an aperture for generating a voltage difference across the aperture, and a plurality of light sensitive elements (40) arranged in arrays, for receiving modulated light beams and converting the light beams into electric signals for actuating the modulators, wherein the light sensitive elements are located within the column, wherein the modulation device is subdivided into a plurality of alternating beam areas (51) and non-beam areas (52), the arrays of modulators are located in the beam areas, and the arrays of light sensitive elements are located in the non-beam areas and are in communication with the modulators in an adjacent beam area.
摘要翻译：一种用于将图案转印到目标表面上的带电粒子光刻系统。该系统包括用于产生多个带电粒子子束的束发生器（3），所述多个子束限定列，具有用于阻挡子束到达目标表面的表面的射束停止阵列（10）用于允许子束到达目标表面的表面;以及用于调制子束以防止一个或多个子束到达目标表面或允许一个或多个子束到达目标表面的调制（9）装置，通过偏转或不偏转子束，使得子束被阻挡或不被阻挡阵列阻挡。调制装置包括排列成阵列的多个孔，用于使子束通过调制装置，排列成阵列的多个调制器（30），每个调制器设置有在孔的相对侧上延伸的电极（32,34）产生穿过该孔的电压差以及排列成阵列的多个光敏元件（40），用于接收调制的光束并将光束转换成用于致动调制器的电信号，其中光敏元件位于列内，其中所述调制装置被细分为多个交替光束区域（51）和非光束区域（52），所述调制器阵列位于所述光束区域中，并且所述光敏元件阵列位于所述非光束区域中，并且与相邻波束区域中的调制器通信。

3. 发明申请

WO2012127963A1 電子銃又はイオン銃の取扱方法および収容体审中-公开
标题翻译：用于处理电子枪或离子枪的外壳和方法
公开(公告)号：WO2012127963A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/JP2012/054119
申请日：2012-02-21
申请人：電気化学工業株式会社 , 森下利幸 , 照井良典 , 廣川晋平
发明人：森下　利幸 , 照井　良典 , 廣川　晋平
IPC分类号： H01J37/06 , H01L21/027
CPC分类号： H01R43/26 , H01J3/02 , H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/067 , H01J37/07 , H01J37/08 , Y10T29/49117
摘要：本発明は、あらかじめ陰極（１）と陽極（９）とを組み込んで組立て、前記陰極と前記陽極とを組み込んだ状態で保管、輸送可能な荷電粒子銃（ＥＧ）において、前記荷電粒子銃を保管、輸送する際に、前記陰極と前記陽極とを導体（１１）で接続することを特徴とする。これにより、保管、輸送中に発生した静電気が引き起こす放電によって、荷電粒子銃の電極先端が損傷することを防止できるようになった。
摘要翻译：本发明是一种带电粒子枪（EG），其中负极（1）和正极（9）预先集成并组装，并且可以在负极和正极集成在一起，其中在带电粒子枪的储存和运输期间，负极和正极通过导体（11）连接。由此，可以防止带电粒子枪的电极头在储存和运输期间由静电引起的放电损坏。

4. 发明申请

WO2011051301A1 CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM, MODULATION DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF 审中-公开
标题翻译：充电颗粒多波束光刻系统，调制装置及其制造方法
公开(公告)号：WO2011051301A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066195
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , POSTMA, Ferry Michael
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , POSTMA, Ferry Michael
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to a modulation device for use in a charged particle multi -beamlet lithography system. The device includes a body comprising an interconnect structure 100) provided with a plurality of modulators and interconnects at different levels within the interconnect structure for enabling connection of the modulators to one or more pattern data receiving elements. A modulator includes a first electrode (132), a second electrode (134), and an aperture (135) extending through the body. The electrodes are located on opposing sides of the aperture for generating an electric field across the aperture. At least one of the first electrode and the second electrode includes a first conductive element (110) formed at a first level of the interconnect structure and a second conductive element (110) formed at a second level of the interconnect structure. The first and second conductive elements are electrically connected with each other.
摘要翻译：本发明涉及一种用于带电粒子多光束光刻系统的调制装置。该装置包括具有在互连结构内的不同级别的多个调制器和互连的互连结构100）的主体，用于使调制器能够连接到一个或多个模式数据接收元件。调制器包括第一电极（132），第二电极（134）和延伸穿过本体的孔（135）。电极位于孔的相对侧上，以产生穿过孔的电场。第一电极和第二电极中的至少一个包括形成在互连结构的第一水平处的第一导电元件（110）和形成在互连结构的第二级处的第二导电元件（110）。第一和第二导电元件彼此电连接。

5. 发明申请

WO2015124358A1 STERILIZATION MACHINE AND METHOD FOR STERILIZING PACKAGING CONTAINERS 审中-公开
标题翻译：灭菌机和杀菌包装容器的灭菌方法
公开(公告)号：WO2015124358A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/051075
申请日：2015-01-21
申请人： TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.
发明人： DICKNER, Jonas , MELLBIN, Håkan , LINDGREN, Roger , ÅKESSON, Mats
IPC分类号： A61L2/08 , B65B55/08 , G21K5/00 , H01J37/07 , H01J37/24
CPC分类号： A61L2/087 , A61L2202/23 , B65B3/00 , B65B55/08 , G21K5/02 , H01J37/07 , H01J37/165 , H01J37/242
摘要： Sterilization apparatus for sterilizing packaging containers(2), the sterilization apparatus comprising a first carousel (20) for supporting a plurality of sterilization devices (50), the sterilization devices (50) being adapted to sterilize an interior of the packaging containers (2) by electron beam irradiation, and a transport system for transporting the packaging containers (2), the transport system comprising a second carousel (40) coaxial with the first carousel (20), wherein the first carousel (20) comprises a first rotatable shaft (28) and the second carousel (40) comprises a separate second rotatable shaft (44) coaxial with the first rotatable shaft (20).
摘要翻译：用于对包装容器（2）进行杀菌的消毒装置，所述灭菌装置包括用于支撑多个灭菌装置（50）的第一转盘（20），所述灭菌装置（50）适于对所述包装容器（2）的内部进行消毒，以及用于运送包装容器（2）的输送系统，所述输送系统包括与第一转盘（20）同轴的第二转盘（40），其中第一转盘（20）包括第一可旋转轴（ 28），并且第二转盘（40）包括与第一可旋转轴（20）同轴的单独的第二可旋转轴（44）。

6. 发明申请

WO2012114521A1 電子銃および電子ビーム装置审中-公开
标题翻译：电子枪和电子束装置
公开(公告)号：WO2012114521A1
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：PCT/JP2011/054377
申请日：2011-02-25
申请人：株式会社PARAM , 安田洋
发明人：安田　洋
IPC分类号： H01J1/13 , H01J1/26 , H01J1/304 , H01J37/06 , H01L21/027
CPC分类号： H01J29/485 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J1/148 , H01J1/26 , H01J37/065 , H01J37/07 , H01J37/075 , H01J37/26 , H01J37/3174
摘要：　電子銃陰極（１０４）は、柱状であり、加熱されることによって電子を放出する。この電子銃陰極の底面および側面を覆い、電子銃陰極を保持する電気伝導性を有するとともに、加熱された状態で前記電子銃陰極と反応し難い材料で構成された保持具（１０３）を設ける。電子銃陰極（１０４）は、先端部が露出して保持具（１０３）から突出しており、先端部に電界を印加することにより前記先端部から電子を前方に向けて放出する。
摘要翻译：阴极电子枪（104）为柱状，通过加热发射电子。覆盖阴极电子枪的底部和侧面的保持器（103）具有保持阴极电子枪的导电性，并且由处于加热状态时不容易与阴极电子枪反应的材料构成，被提供。阴极电子枪（104）的尖端从保持器（103）突出以露出，并且通过向尖端施加电场，从尖端向前方发射电子。

7. 发明申请

WO2008050670A1 ピアス式電子銃の電子ビーム集束の制御方法及び制御装置审中-公开
标题翻译：控制电子束聚焦电子枪的方法及其控制装置
公开(公告)号：WO2008050670A1
公开(公告)日：2008-05-02
申请号：PCT/JP2007/070352
申请日：2007-10-18
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 沈国華 , 佐竹徹
发明人：飯島栄一 , 沈国華 , 佐竹徹
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/07 , H01J3/026 , H01J37/06 , H01J37/304 , H01J2237/004 , H01J2237/182
摘要：　ピアス式電子銃の電子ビーム集束の制御において、電子銃内部での空間電荷効果及び空間電荷中和作用の影響を無くし、電子ビームの制御を完全なものとする。前記ピアス式電子銃の内部の温度を直接測定することにより電子銃内部の圧力をフィードバック制御する。前記ピアス式電子銃の内部の温度を直接測定する場所は、アノード（３９）、フローレジスター（４３）が望ましい。次いで、カソード室（３１）、中間室、揺動室（３３）のいずれかの出口または入口に設けたリング、絞り、排気筒のいずれかでも可能である。これにより、ビームを作る部分の安定化（電子銃自体の最適化設計）、ビーム輸送部の安定化及びビーム使用部の安定化の全てについて良好になった。
摘要翻译：在穿透式电子枪的电子束聚焦的控制中，消除了电子枪内的空间电荷效应和空间电荷中和作用的任何影响，从而完全控制电子束。通过直接测量穿孔式电子枪的内部温度来进行电子枪内压力的反馈控制。优选地，在阳极（39）和流量寄存器（43）处直接测量穿孔型电子枪的内部温度。此外，可以在阴极室（31），中间室和振荡室（33）中的任一个的出口或入口处的排气叠层，孔径光阑和环中的任何一个处执行直接测量。因此，光束产生区域的所有稳定（电子枪本身的优化设计），光束传输区域的稳定和光束使用区域的稳定已经变得合适。

8. 发明申请

WO2017084811A1 ADDITIVE MANUFACTURING OF THREE-DIMENSIONAL ARTICLES 审中-公开
标题翻译：三维物品的添加剂制造
公开(公告)号：WO2017084811A1
公开(公告)日：2017-05-26
申请号：PCT/EP2016/074575
申请日：2016-10-13
申请人： ARCAM AB
发明人： FAGER, Mattias
IPC分类号： H01J37/075 , H01J37/07 , B22F3/105 , B29C67/00
CPC分类号： B22F3/1055 , B22F3/1017 , B22F2003/1056 , B22F2003/1057 , B22F2998/10 , B22F2999/00 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B29C64/153 , B29C64/393 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , H01J29/46 , H01J37/07 , H01J37/242 , H01J37/3178 , H01J2237/06308 , H01J2237/065 , Y02P10/295 , H01J37/00 , B22F2203/00
摘要： The present invention relates to a method of forming a three- dimensional article through successively depositing individual layers of powder material that are fused together so as to form the article, comprising a method of operating a triode electron beam source including a cathode (102), a grid (104) and an anode (106) with the following steps: (a) setting an electron beam current, a cathode heating power, a grid potential Ug and a cathode potential Uc to predetermined start values; (b) reducing the cathode heating power and decreasing a Ug - Uc potential difference for mainintainig a predetermined electron beam current; (c) detecting an X-ray signal emanating from the electron beam source with at least one X-ray detector (190); (d) repeating said reducing and detecting steps until the detected X- ray signal is above a predetermined value; and (e) increasing the cathode heating power by a predetermined safety value above the heating power value which resulted in X-ray signals above said predetermined value. Thereby, the lowest acceptable cathode heating power without affacting the electron beam current is determined and thus the lifetime of the cathode element is prolonged.
摘要翻译：本发明涉及一种通过连续沉积熔合在一起以形成制品的单独的粉末材料层来形成三维制品的方法，该方法包括操作三极电子束其包括阴极（102），栅极（104）和阳极（106），其具有以下步骤：（a）将电子束电流，阴极加热功率，栅极电势Ug和阴极电势Uc设置为预定的开始值; （b）降低阴极加热功率并降低用于保持预定电子束电流的Ug-Uc电位差; （c）用至少一个X射线检测器（190）检测从电子束源发出的X射线信号; （d）重复所述减少和检测步骤，直到检测到的X射线信号高于预定值; 和（e）将阴极加热功率增加高于导致X射线信号高于所述预定值的加热功率值的预定安全值。因此，确定了最低可接受的阴极加热功率而不影响电子束电流，从而延长了阴极元件的寿命。

9. 发明申请

WO2015124356A1 STERILIZATION DEVICE AND AN ELECTRON BEAM EMITTER 审中-公开
标题翻译：灭菌装置和电子束发射器
公开(公告)号：WO2015124356A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/051070
申请日：2015-01-21
申请人： TETRA LAVAL HOLDINGS & FINANCE S.A.
发明人： MELLBIN, Håkan
IPC分类号： A61L2/08 , B65B55/08 , G21K5/00 , H01J37/07 , H01J37/24
CPC分类号： A61L2/087 , A61L2202/11 , A61L2202/23 , B65B55/08 , G21K5/02 , H01J37/07 , H01J37/242
摘要： Sterilization device, in particular for sterilization of packaging material, comprising a first chamber, a barrier element and a connection area, wherein the first chamber is adapted to provide charge carriers for sterilization, characterized in that the connection area is connected to a third chamber so that the barrier element forms at least one part of the boundary of a volume in which a first atmosphere exists.
摘要翻译：杀菌装置，特别是用于包装材料的灭菌，包括第一室，阻挡元件和连接区域，其中第一室适于提供用于灭菌的电荷载体，其特征在于，连接区域连接到第三室屏障元件形成存在第一气氛的体积的边界的至少一部分。

10. 发明申请

WO2011051304A1 MODULATION DEVICE AND CHARGED PARTICLE MULTI-BEAMLET LITHOGRAPHY SYSTEM USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：使用该方法的调制装置和充电颗粒多波束光刻系统
公开(公告)号：WO2011051304A1
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/EP2010/066198
申请日：2010-10-26
申请人： MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V. , WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
发明人： WIELAND, Marco Jan-Jaco , JAGER, Remco , VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent , STEENBRINK, Stijn Willem Herman Karel
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
摘要： The invention relates to a charged-particle multi -beamlet lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target using a plurality of charged particle beamlets. The system includes a beam generator (3), a beamlet blanker array (9), a shielding structure (111) and a projection system. The beam generator is arranged for generating a plurality of charged particle beamlets. The beamlet blanker array is arranged for patterning the plurality of beamlets in accordance with a pattern. The beamlet blanker array comprises a plurality of modulators (101) and a plurality of light sensitive elements (107), a light sensitive element being arranged to receive pattern data carrying light beams and to convert the light beams into electrical signals. The light sensitive elements are electrically connected to one or more modulators for providing the received pattern data. The shielding structure (111) is of an electrically conductive material for substantially shielding electric fields generated in proximity of the light sensitive elements from the modulators, wherein the shielding structure is arranged to be set at a predetermined potential. The projection system is arranged for projecting the patterned beamlets onto the target surface.
摘要翻译：本发明涉及使用多个带电粒子子束将图案转印到靶表面上的带电粒子多光束光刻系统。该系统包括光束发生器（3），子束消隐器阵列（9），屏蔽结构（111）和投影系统。光束发生器布置成用于产生多个带电粒子子束。子束消隐器阵列被布置成根据图案图案化多个子束。子束消隐器阵列包括多个调制器（101）和多个光敏元件（107），光敏元件布置成接收携带光束的图案数据并将光束转换成电信号。光敏元件电连接到一个或多个调制器以提供接收到的图案数据。屏蔽结构（111）是导电材料，用于基本上屏蔽来自调制器的光敏元件附近产生的电场，其中屏蔽结构被设置成预定电位。投影系统布置成将图案化的子束投影到目标表面上。

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