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1. 发明申请

WO2008050670A1 ピアス式電子銃の電子ビーム集束の制御方法及び制御装置审中-公开
标题翻译：控制电子束聚焦电子枪的方法及其控制装置
公开(公告)号：WO2008050670A1
公开(公告)日：2008-05-02
申请号：PCT/JP2007/070352
申请日：2007-10-18
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 沈国華 , 佐竹徹
发明人：飯島栄一 , 沈国華 , 佐竹徹
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/07 , H01J3/026 , H01J37/06 , H01J37/304 , H01J2237/004 , H01J2237/182
摘要：　ピアス式電子銃の電子ビーム集束の制御において、電子銃内部での空間電荷効果及び空間電荷中和作用の影響を無くし、電子ビームの制御を完全なものとする。前記ピアス式電子銃の内部の温度を直接測定することにより電子銃内部の圧力をフィードバック制御する。前記ピアス式電子銃の内部の温度を直接測定する場所は、アノード（３９）、フローレジスター（４３）が望ましい。次いで、カソード室（３１）、中間室、揺動室（３３）のいずれかの出口または入口に設けたリング、絞り、排気筒のいずれかでも可能である。これにより、ビームを作る部分の安定化（電子銃自体の最適化設計）、ビーム輸送部の安定化及びビーム使用部の安定化の全てについて良好になった。
摘要翻译：在穿透式电子枪的电子束聚焦的控制中，消除了电子枪内的空间电荷效应和空间电荷中和作用的任何影响，从而完全控制电子束。通过直接测量穿孔式电子枪的内部温度来进行电子枪内压力的反馈控制。优选地，在阳极（39）和流量寄存器（43）处直接测量穿孔型电子枪的内部温度。此外，可以在阴极室（31），中间室和振荡室（33）中的任一个的出口或入口处的排气叠层，孔径光阑和环中的任何一个处执行直接测量。因此，光束产生区域的所有稳定（电子枪本身的优化设计），光束传输区域的稳定和光束使用区域的稳定已经变得合适。

2. 发明申请

WO2008114645A1 プラズマディスプレイパネル审中-公开
标题翻译：等离子显示面板
公开(公告)号：WO2008114645A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/JP2008/054350
申请日：2008-03-11
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 箱守宗人 , 倉内利春 , 矢野孝伸
发明人：飯島栄一 , 箱守宗人 , 倉内利春 , 矢野孝伸
IPC分类号： H01J11/02 , H01J29/86
CPC分类号： H01J11/12 , H01J9/261 , H01J11/48
摘要：　プラズマディスプレイパネル内に不純物ガスを混入させない技術を提供する。発光領域（１５）を第一、第二のパネル（２０、３０）に密着した金属膜から成る密閉部（１７）で取り囲み、第一、第二のパネル（２０、３０）を固定する封着部（４１）を密閉部（１７）の外側に配置する。封着部（４１）を水分が透過しても、密閉部（１７）を透過できないので、発光領域（１５）内に水分が侵入しない。封着部（４１）は水分が透過してもよいので、紫外線硬化型樹脂を用いることができ、作業効率が向上する。
摘要翻译：公开了一种防止杂质气体进入等离子体显示面板的技术。具体地，发光区域（15）由密封部分（17）围绕，所述密封部分（17）由紧密粘附在第一和第二面板（20,30）上的金属膜构成，并且密封部分（41）用于固定第一和第二面板（20,30）设置在密封部分（17）的外侧。即使当湿气渗透通过气密封闭部分41时，它也不能透过密封部分17。因此，水分不会进入发光区域（15）。由于气密封闭部41不需要防止水分渗透，所以可以使用紫外线固化性树脂作为气密封闭部41，从而提高工作效率。

3. 发明申请

WO2008149804A1 封着パネルの製造方法および製造装置、並びにプラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：用于制造密封面板的方法和装置以及制造等离子体显示面板的方法和装置
公开(公告)号：WO2008149804A1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：PCT/JP2008/060019
申请日：2008-05-30
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 箱守宗人 , 倉内利春 , 矢野孝伸 , 織井雄一
发明人：飯島栄一 , 箱守宗人 , 倉内利春 , 矢野孝伸 , 織井雄一
IPC分类号： H01J9/26 , G09F9/30 , H01J11/02
CPC分类号： H01J9/261 , H01J11/12 , H01J11/48 , H01J2329/867 , Y10T156/10
摘要：　第１基板と第２基板とを有する封着パネルの製造方法であって、ペースト化するためのバインダを含まない封着材を溶融させる溶融工程と；前記第２基板の表面に、溶融された前記封着材を塗布する塗布工程と；前記第１基板と前記第２基板とを、前記第２基板の表面に塗布された前記封着材を介して貼り合わせる封着工程と；を備える。
摘要翻译：提供一种用于制造具有第一基板和第二基板的密封面板的方法。该方法具有熔融步骤，熔化不含用于使材料成糊状态的粘合剂的密封材料; 施加步骤，将所述熔融密封材料施加到所述第二基板的表面上; 以及通过施加在第二基板的表面上的密封材料来接合第一基板和第二基板的密封步骤。

4. 发明申请

WO2008035587A1 真空処理装置审中-公开
标题翻译：真空加工系统
公开(公告)号：WO2008035587A1
公开(公告)日：2008-03-27
申请号：PCT/JP2007/067621
申请日：2007-09-11
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 増田行男 , 磯佳樹 , 箱守宗人
发明人：飯島栄一 , 増田行男 , 磯佳樹 , 箱守宗人
IPC分类号： C23C14/30 , H01J9/02 , H01J11/02
CPC分类号： C23C14/30 , C23C14/081 , H01J2211/40
摘要：　ピアス式電子銃を用いた真空蒸着装置を使用して被処理基板に蒸着被膜を形成するに際し、電子ビームを真空槽内の蒸発源に収容された蒸着材料の蒸発ポイントに誘導し、前記蒸発ポイントでの電子ビームの照射範囲を最適化して、優れた蒸着被膜をより早い成膜速度で形成することのできる真空処理装置を提供する。ピアス式電子銃の電子ビームを真空槽内の蒸発源に収容された蒸着材料の蒸発ポイントへ偏向させて誘導する手段として、前記電子ビームの入射方向に対して略直交し、かつ前記蒸発源の電子ビーム照射面に対して略平行な磁場を形成する磁石装置を、前記電子ビーム照射面の裏側の真空槽外に設けた。磁石装置に永久磁石を使用して装置の小型化を図った。その結果、電子ビーム偏向装置を真空槽内に置いていた従来の装置に比べて、真空槽内が簡素になった。機械的及び磁気的干渉がなくなり、電子ビームの照射範囲を最適化することができた。
摘要翻译：一种真空处理系统，用于使用采用穿孔式电子枪的真空蒸镀系统，将电子束引导到包含在蒸发源中的蒸发材料的蒸发点上，在待处理的基板上以更高的速率形成优异的蒸镀膜一个真空槽，并优化蒸发点处电子束的照射范围。作为用于引导穿孔式电子枪的电子束的方法，在将其朝向包含在蒸发源中的蒸发材料的蒸发点的真空槽中偏转的同时，形成与电子束的入射方向相交的磁场的磁体装置在电子束照射平面的背面的真空槽的外侧，设置与蒸发源的电子束照射面大致垂直且大致平行的面。在磁铁装置中使用永久磁铁来减小装置的尺寸。与将电子束偏转器放置在真空槽中的传统装置相比，真空罐简化。消除机械和磁性干扰，并优化电子束的照射范围。

5. 发明申请

WO2008050662A1 プラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造装置审中-公开
标题翻译：等离子显示面板制造方法和制造装置
公开(公告)号：WO2008050662A1
公开(公告)日：2008-05-02
申请号：PCT/JP2007/070314
申请日：2007-10-18
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 箱守宗人
发明人：飯島栄一 , 箱守宗人
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/08 , H01J9/02 , H01J11/02
CPC分类号： C23C14/081 , C23C14/568 , H01J9/02 , H01J11/12 , H01J11/40
摘要：　プラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、保護層としての（１１１）配向したＭｇＯ膜を容易に得られるように、成膜温度を下げて製造工程を簡素にする。また、製造装置を簡単な構造にしてタクトタイムを短縮する。　走査電極、維持電極、誘電体層及び保護層から成る前面基板とアドレス電極、バリアリブ及び蛍光体からなる背面基板から構成されているプラズマディスプレイの製造方法において、電子ビーム蒸着装置での蒸着の前のガラス基板の温度を常温（１２０°C以下）にし、且つ前記電子ビーム蒸着装置のＭｇＯ成膜速度を８０００Å・ｍ／ｍｉｎ以上とする。常温での成膜で、従来の高温での成膜と同等のＭｇＯ膜が得られた。
摘要翻译：提供了一种等离子体显示面板制造方法，其通过降低成膜温度来简化制造步骤，以便容易地获得取向的MgO膜作为保护层。此外，制造的装置具有简单的结构，从而减少了节拍时间。该方法用于制造包括具有扫描电极，维持电极，电介质层和保护层的前基板的等离子体显示器; 以及具有寻址电极，隔壁和荧光体的背面基板。通过电子束沉积装置沉积之前的前玻璃基板的温度保持在常温（120℃或更低），并且电子束沉积装置的MgO膜形成速度设定为不小于8000埃/分钟。通过在正常温度下的成膜，可以获得与高温下成膜相当的MgO膜。

6. 发明申请

WO2007013363A1 真空処理装置审中-公开
标题翻译：真空处理设备
公开(公告)号：WO2007013363A1
公开(公告)日：2007-02-01
申请号：PCT/JP2006/314454
申请日：2006-07-21
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一
发明人：飯島栄一
IPC分类号： C23C14/56
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/30
摘要：　基材が搭載される複数のキャリアと、制御された雰囲気に保持され、前記キャリアが循環移動する循環経路と、前記循環経路に設けられた、前記キャリアに対する前記基材の投入および取出しを行う複数の基材出入室と、前記循環経路における前記各基材出入室の間にそれぞれ設けられた、前記基材に真空処理を施す真空処理室と、を備えたことを特徴とする真空処理装置。
摘要翻译：真空处理装置设有多个载体，由此安装基材; 循环路径，其保持在受控气氛中并允许载体在其中循环; 布置在循环路径中的用于在载体上装载和取出基材的多个基材出口/入口室; 以及设置在循环路径中的基材排出室之间的真空处理室，对基材进行真空处理。

7. 发明申请

WO2008152928A1 プラズマディスプレイパネルの製造方法および製造装置审中-公开
标题翻译：等离子显示面板制造方法和装置
公开(公告)号：WO2008152928A1
公开(公告)日：2008-12-18
申请号：PCT/JP2008/060025
申请日：2008-05-30
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 箱守宗人 , 中塚雅斗 , 倉内利春
发明人：飯島栄一 , 箱守宗人 , 中塚雅斗 , 倉内利春
IPC分类号： H01J9/39 , H01J9/26 , H01J11/02
CPC分类号： H01J9/39 , H01J9/261 , H01J9/385 , H01J9/46 , H01J11/12
摘要：　封着された第１基板（１）と第２基板（２）との間に放電ガスが充填されてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、プラズマ放電に対する保護膜が形成された前記第１基板（１）を、真空中または制御された雰囲気中で２８０℃以上に加熱することにより、前記保護膜から不純ガスを離脱させる第１脱ガス工程と；前記保護膜から前記不純ガスが離脱された前記第１基板（１）と、前記第２基板（２）と、を当接させて封着する封着工程と；を有することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。第１基板と第２基板とを当接させる前の排気コンダクタンスが大きい状態で保護膜から不純ガスを離脱させるので、短時間で清浄化を行うことが可能になる。また保護膜を２８０℃以上に加熱するので、保護膜に吸着した不純ガスの約７０％以上を離脱させることが可能になる。
摘要翻译：一种用于制造等离子体显示面板的方法，其中限定在第一和第二基板（1,2）之间并填充有放电气体的密封空间。该方法的特征在于包括：第一脱气步骤，从形成在第一基板（1）上的保护膜解吸杂质气体，以通过将第一基板（1）加热到280°以上来保护第一基板（1）免受等离子体放电在真空空间中或在受控气氛中的密封步骤，以及使从所述保护膜脱离杂质气体的所述第一基板（1）与所述第二基板（2）接触并密封其间的空间的密封步骤。由于在第一基板与第二基板接触之前杂质气体从保护膜解吸，并且在排气电导高时，可以在短时间内进行清洗。此外，由于将保护膜加热到280℃以上，所以可以解吸吸附在保护膜上的约70％以上的杂质气体。

8. 发明申请

WO2007119676A1 封着パネルおよびプラズマディスプレイパネルの製造方法审中-公开
标题翻译：密封面板和等离子显示面板的制造方法
公开(公告)号：WO2007119676A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/JP2007/057561
申请日：2007-04-04
申请人：株式会社アルバック , 倉内利春 , 飯島栄一
发明人：倉内利春 , 飯島栄一
IPC分类号： H01J5/20 , H01J7/18 , H01J9/02 , H01J11/02
CPC分类号： H01J9/261 , H01J11/12 , H01J11/52
摘要： This invention provides a sealing panel (100) that can suppress a rise in discharge voltage. The sealing panel (100) comprises a resin material-containing sealing material (20) disposed on the whole periphery in a part between a pair of substrates (1,2). A getter (22), which adsorbs an impurity gas released from the sealing material (20) and an impurity gas passed through the sealing material (20), is formed continuously or intermittently along the inner periphery of the sealing material (20). Further, an ultraviolet shielding wall (24) for preventing ultraviolet light generated within the sealing panel (100) from being incident to the sealing material (20) is formed continuously along the inner periphery of the sealing material (20).
摘要翻译：本发明提供能够抑制放电电压上升的密封面板（100）。密封面板（100）包括设置在一对基板（1,2）之间的整个周边上的含树脂材料的密封材料（20）。沿密封材料（20）的内周连续地或间歇地形成吸附从密封材料（20）释出的杂质气体和通过密封材料（20）的杂质气体的吸气剂（22）。此外，用于防止密封面板（100）内产生的紫外线入射到密封材料（20）的紫外线屏蔽壁（24）沿着密封材料（20）的内周连续地形成。

9. 发明申请

WO2007066537A1 真空装置用仕切りバルブ审中-公开
标题翻译：真空装置的门阀
公开(公告)号：WO2007066537A1
公开(公告)日：2007-06-14
申请号：PCT/JP2006/323682
申请日：2006-11-28
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一
发明人：飯島栄一
IPC分类号： C23C14/24 , F16K3/02 , F16K51/02
CPC分类号： F16K51/02 , C23C14/081 , C23C14/246 , C23C14/30 , F16K3/06
摘要：　蒸着装置に使用される真空装置用仕切りバルブが開弁位置にあるときでも、蒸着材料の蒸気から弁箱の内壁面及び弁体のシール部材を保護することにより蒸着室の真空保持の信頼性を向上させる。　電子銃用仕切りバルブ（１）として、真空装置用仕切りバルブを使用し、バルブ閉時は、従来と同様に弁体（３）が電子銃部を蒸着室から切り離す。バルブ開時は、筒状の可動シ－ルド（２２）をバルブの弁室（１５）内に挿入することにより弁室（１５）を蒸着室から切り離し弁箱（２）の内壁面及び弁体（３）のシール部材が蒸着室内の蒸気に晒されないようにして、蒸着物（ＭｇＯ）の付着から保護する。
摘要翻译：即使在气相沉积装置中使用的用于真空装置的闸阀处于打开位置时，也可以通过保护阀壳体和密封件的密封件的内壁面来提高气相沉积室中的真空保持的可靠性抵靠沉积材料的蒸气的阀体。用于真空装置的闸阀用作电子枪的闸阀（1）。当阀门处于关闭位置时，如现有技术那样，阀体（3）将电子枪部件从气相沉积室中分离出来。另一方面，当阀处于打开位置时，通过将圆柱形可动屏蔽件（22）插入阀室（15）中，阀室（15）与蒸镀室分离，以防止阀室阀壳体（2）和阀体（3）的密封构件在气相沉积室中暴露于蒸汽，由此可以防止其沉积材料（MgO）。

10. 发明申请

WO2007046281A1 成膜材料供給装置审中-公开
标题翻译：电影成型材料供应设备
公开(公告)号：WO2007046281A1
公开(公告)日：2007-04-26
申请号：PCT/JP2006/320303
申请日：2006-10-11
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 藤原明弘 , 増田行男
发明人：飯島栄一 , 藤原明弘 , 増田行男
IPC分类号： C23C14/24 , H01J9/02 , H01J11/02
CPC分类号： C23C14/246 , H01J9/02
摘要：　３個以上のリングハースに対しても均等に成膜材料を供給することができること。　長期間の連続運転に耐える多量の成膜材料を収容する成膜材料供給室から供給される成膜材料を成膜室内のリングハース上で蒸発させて上方を移送される基板に膜を形成させる真空蒸着装置において、前記リングハースは前記移送される基板の幅方向に３個以上並設されていて、少なくとも両端のリングハースを除く中間のリングハースには、前記成膜材料の供給量を調節可能な電磁振動フィーダにより供給することを特徴とする。
摘要翻译：本发明提供一种成膜材料供给装置，其能够将成膜材料均匀地供给到三个以上的环形炉床。成膜材料供给装置是一种真空气相沉积装置，其中从成膜材料供应室供应的成膜材料能够长时间耐受连续操作的大量成膜材料，在成膜室内的环形炉床上蒸发以在基底上形成转移到炉床上的膜。成膜材料供给装置的特征在于，三个以上的环形炉床在要被转印的基板的宽度方向上并列，并且在至少两个端部环形炉床中的中间的炉壁中，成膜材料由电磁振动给料器，其可以调节供应的成膜材料的量。

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