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1. 发明申请

WO2018155538A1 電子ビーム装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018155538A1
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：PCT/JP2018/006396
申请日：2018-02-22
申请人：株式会社ニコン
发明人：佐藤　真路
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/09 , H01J37/305
CPC分类号： G03F7/20 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/09 , H01J37/305 , H01L21/027
摘要：電子ビーム装置は、個別に制御可能な複数の光ビームを提供可能な光学デバイス（８４）と、光学デバイスに照明光を照射する照明系（８２）と、光学デバイス（８４）からの複数の光ビームを光電素子（５４）に照射する投影光学系（８６）と、複数の光ビームを光電素子（５４）に照射することによって光電素子（５４）から放出される電子を複数の電子ビームとしてウエハ（Ｗ）に照射する電子ビーム光学系（７０）と、を備える。

2. 发明申请

WO2015118624A1 荷電粒子線装置、光学装置、照射方法、回折格子システム、及び回折格子审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置，光学装置，辐射方法，衍射光栅系统和衍射光栅
公开(公告)号：WO2015118624A1
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：PCT/JP2014/052608
申请日：2014-02-05
申请人：株式会社日立製作所
发明人：原田　研 , 孝橋　照生 , 岩根　智広
IPC分类号： G21K1/06 , G02B5/18 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/26
CPC分类号： G21K1/06 , G02B5/1842 , G02B5/1866 , G02B2005/1804 , G21K2201/064 , G21K2201/067 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/26
摘要：　刃状転位を含む回折格子の外形や大きさを、該回折格子とは別なる開口器用いることにより光波や電子波などの照射領域よりも小さくし、刃状転位回折格子が生成するらせん波の形状に開口の形状や大きさを重畳させ、回折面上でのらせん波の形状や大きさを開口の形状や大きさを反映したものとする。また、単一の開口器と単一の回折格子のペアによる回折格子システムだけでなく、複数の開口器と複数の刃状転位回折格子を組み合わせた回折格子システムとし、回折面上で複数のらせん波をより高い自由度で生成可能とする。
摘要翻译：使用与包括边缘位错的衍射梯度分离的光阑仪器，本发明使得衍射光栅的尺寸和外形小于光波，电子波等的照射面积。本发明还将由边缘位错衍射光栅产生的螺旋形波形的孔径的形状和尺寸，并使得衍射表面上的螺旋波的形状和尺寸反映孔径的形状和尺寸。此外，本发明不是使用单个孔径仪器和单个衍射光栅的衍射光栅系统，而是组合多个孔径仪器和多个边缘位错衍射光栅的衍射光栅系统，并且可以产生多个螺旋波在高自由度的衍射表面上。

3. 发明申请

WO2013161473A1 走査電子顕微鏡审中-公开
标题翻译：扫描电子显微镜
公开(公告)号：WO2013161473A1
公开(公告)日：2013-10-31
申请号：PCT/JP2013/058482
申请日：2013-03-25
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：小柏　　剛 , 佐藤　貢 , 今野　充
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/04 , H01J37/244 , H01J37/295
CPC分类号： H01J37/222 , H01J37/04 , H01J37/09 , H01J37/21 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J37/295 , H01J37/3178 , H01J2237/10 , H01J2237/24455 , H01J2237/24465 , H01J2237/24475 , H01J2237/24507 , H01J2237/2802 , H01J2237/2804
摘要：　従来、汎用の走査電子顕微鏡では、設定可能な最大の加速電圧が低く、通常の高分解能観察条件で観察可能な結晶薄膜試料は格子面間隔が大きい試料に限定されていた。このため、高精度に倍率校正を行う手段がなかった。　この解決手段として、本発明は、電子線を発生する電子源と、前記電子線で前記試料上を走査するように偏向する偏向器と、前記試料上に前記電子線を集束する対物レンズと、前記試料を透過した散乱電子および非散乱電子を検出する検出器と、前記試料と前記検出器の間に配置され前記散乱電子及び前記非散乱電子の検出角を制御する絞りと、を備え、前記電子線は所定の開き角で試料に入射し、前記試料上でビーム径が最小となるような第一の開き角より大きい第二の開き角で格子像を取得することを特徴とする。
摘要翻译：通常，在通用扫描电子显微镜中，可以设定的最大加速电压低，因此将显微镜限制为在通常的高分辨率观察下可观察到的结晶薄膜样品的晶格间距的样品条件很大。因此，无法以高精度进行放大校准。作为克服这一点的手段，提供：产生电子束的电子源; 偏转器，其执行偏转以便用所述电子束扫描所述样品; 将所述电子束聚焦在所述样品上的物镜; 检测已经通过所述样品和非散射电子的散射电子的检测器; 以及设置在所述样品和所述检测器之间的控制所述散射电子和所述非散射电子的检测角度的停止。所述电子束以规定的开启角度入射到样品上，并且以大于第一开启角度的第二开度角采集晶格图像，使得所述样品的光束直径为最小值。

4. 发明申请

WO2013129124A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2013129124A1
公开(公告)日：2013-09-06
申请号：PCT/JP2013/053607
申请日：2013-02-15
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：西原　誠 , 小室　修 , 川野　源
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/04 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/04 , H01J37/28 , H01J2237/047 , H01J2237/24585
摘要：　本発明の荷電粒子線装置は、荷電粒子源（１０１）と、加速電極（１１３）と、一次荷電粒子線（１０２）を調整する光学素子（１０６，９０２，９０３，９０５）と、対物レンズ（１０６）の温度変化を測定する温度計（９０１）と、前記加速電極及び前記光学素子を制御する制御装置（１２８）を備える。　前記制御装置は、（ア）一次荷電粒子線の加速電圧が所定の値より高い場合は、第１の温度変化を検出したときに、（イ）一次荷電粒子線の加速電圧が所定の値以下の場合は前記第１の温度変化より小さな第２の温度変化を検出したときに、光学素子の調整を行う。　これにより、一次荷電粒子線の加速電圧を変化させたときの光学条件への影響の抑制と、装置の高スループット化の両立を実現できる。
摘要翻译：该带电粒子束装置包括：带电粒子源（101）; 加速电极（113）; 调整初级带电粒子束（102）的光学元件（106,902,903,905）; 测量物镜（106）中的温度变化的温度计（901）; 以及控制加速电极和光学元件的控制装置（128）。当以下情况下，控制装置调节光学元件：（a）当初级带电粒子束的加速电压大于规定值时检测到第一温度变化; 和（b）当检测到小于第一温度变化的第二温度变化时，当初级带电粒子束的加速电压不大于规定值时。结果，当一次带电粒子束的加速电压改变时，可以实现对光学条件的影响的抑制，并且增加了器件产量。

5. 发明申请

WO2012075182A3 ELECTRON BEAM COLUMN AND METHODS OF USING SAME 审中-公开
标题翻译：电子束柱及其使用方法
公开(公告)号：WO2012075182A3
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：PCT/US2011062701
申请日：2011-11-30
申请人： KLA TENCOR CORP , MANKOS MARIAN , HAN LIQUN , JIANG XINRONG , RUNYON REX
发明人： MANKOS MARIAN , HAN LIQUN , JIANG XINRONG , RUNYON REX
IPC分类号： H01J37/26 , H01J37/06 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/04 , H01J2237/0458 , H01J2237/0492 , H01J2237/063 , H01J2237/1035 , H01J2237/14 , H01J2237/186 , H01J2237/24535
摘要： In one embodiment, a first vacuum chamber of an electron beam column has an opening which is positioned along an optical axis so as to pass a primary electron beam that travels down the column. A source that emits electrons is positioned within the first vacuum chamber. A beam-limiting aperture is configured to pass a limited angular range of the emitted electrons. A magnetic immersion lens is positioned outside of the first vacuum chamber and is configured to immerse the electron source in a magnetic field so as to focus the emitted electrons into the primary electron beam. An objective lens is configured to focus the primary electron beam onto a beam spot on a substrate surface so as to produce scattered electrons from the beam spot. Controllable deflectors are configured to scan the beam spot over an area of the substrate surface.
摘要翻译：在一个实施例中，电子束列的第一真空室具有沿光轴定位的开口，以便通过沿着该列行进的一次电子束。发射电子的源被定位在第一真空室内。光束限制孔被配置成通过发射电子的有限角度范围。磁浸透镜位于第一真空室的外部，并且被配置为将电子源浸入磁场中，以将发射的电子聚焦到一次电子束中。物镜被配置为将一次电子束聚焦到衬底表面上的束斑上，以便从束斑产生散射的电子。可控制偏转器被配置为在衬底表面的区域上扫描束斑。

6. 发明申请

WO2011126538A2 IN-VACUUM BEAM DEFINING APERTURE CLEANING FOR PARTICLE REDUCTION 审中-公开
标题翻译：真空光束定义用于颗粒减少的光泽清洁
公开(公告)号：WO2011126538A2
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：PCT/US2011000484
申请日：2011-03-16
申请人： AXCELIS TECH INC , COLVIN NEIL , ZHANG JINCHENG
发明人： COLVIN NEIL , ZHANG JINCHENG
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/3171 , H01J2237/022 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756
摘要： A method is provided for reducing particle contamination in an ion implantation system, wherein an ion implantation system having source, mass analyzer, resolving aperture, decel suppression plate, and end station is provided. An ion beam is formed via the ion source, and a workpiece is transferred between an external environment and the end station for ion implantation thereto. A decel suppression voltage applied to the decel suppression plate is modulated concurrent with the workpiece transfer, therein causing the ion beam to expand and contract, wherein one or more surfaces of the resolving aperture and/or one or more components downstream of the resolving aperture are impacted by the ion beam, therein mitigating subsequent contamination of workpieces from previously deposited material residing on the one or more surfaces. The contamination can be mitigated by removing the previously deposited material or strongly adhering the previously deposited material to the one or more surfaces.
摘要翻译：提供了一种用于减少离子注入系统中的颗粒污染的方法，其中提供了具有源，质量分析器，分辨孔径，减速抑制板和终端站的离子注入系统。通过离子源形成离子束，并且在外部环境和终端站之间传送工件以进行离子注入。施加到减速抑制板上的减速抑制电压与工件传送同时被调制，其中造成离子束膨胀和收缩，其中分辨孔的一个或多个表面和/或分辨孔下游的一个或多个部件是受到离子束的影响，其中减轻随后从驻留在一个或多个表面上的先前沉积的材料污染工件。可以通过去除先前沉积的材料或将先前沉积的材料强力粘附到一个或多个表面来减轻污染。

7. 发明申请

WO2011035260A2 DISTRIBUTED ION SOURCE ACCELERATION COLUMN 审中-公开
公开(公告)号：WO2011035260A2
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/US2010049525
申请日：2010-09-20
申请人： FEI CO , US OF AMERICA AS RESPRESENTED BY THE SECRETARY OF COMMERCE THE NAT INST OF STANDARDS AND TECHNOLOGY , MCCLELLAND JABEZ J , KNUFFMAN BRENTON J , STEELE ADAM V , ORLOFF JONATHAN H
发明人： MCCLELLAND JABEZ J , KNUFFMAN BRENTON J , STEELE ADAM V , ORLOFF JONATHAN H
IPC分类号： H01J27/02 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/08 , H01J37/3056 , H01J2237/0807 , H01J2237/083 , H01J2237/31749
摘要： An ion beam system uses a separate accelerating electrode, such as a resistive tube, to accelerate the ions while maintaining a low electric field at an extended, that is, distributed, ion source, thereby improving resolution. A magneto-optical trap can be used as the ion source.

8. 发明申请

WO2010114954A3 END TERMINATIONS FOR ELECTRODES USED IN ION IMPLANTATION SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：在离子植入系统中使用的电极的终止终止
公开(公告)号：WO2010114954A3
公开(公告)日：2011-01-13
申请号：PCT/US2010029548
申请日：2010-04-01
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT , SINCLAIR FRANK , RADOVANOV SVETLANA , PURSER KENNETH H
发明人： SINCLAIR FRANK , RADOVANOV SVETLANA , PURSER KENNETH H
IPC分类号： H01L21/265
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/04 , H01J2237/036 , H01J2237/15
摘要： An ion implantation system includes an electrostatic lens. The electrostatic lens includes a terminal electrode, a ground electrode and a suppression electrode disposed therebetween. An ion beam enters the electrostatic lens through the terminal electrode and exits through the ground electrode. The electrodes have associated electrostatic equipotentials. An end plate is disposed between a top and bottom portion of the suppression electrode and/or the top and bottom portion of the ground electrode. The respective end plate has a shape which corresponds to the electrostatic equipotential associated with the particular electrode in order to maintain uniformity of the beam as it passes through the electrostatic lens.
摘要翻译：离子注入系统包括静电透镜。静电透镜包括端子电极，接地电极和设置在它们之间的抑制电极。离子束通过端子电极进入静电透镜并通过接地电极离开。电极具有相关的静电等电位。端板设置在抑制电极的顶部和底部之间和/或接地电极的顶部和底部之间。相应的端板具有对应于与特定电极相关联的静电等电位的形状，以便在光束通过静电透镜时保持光束的均匀性。

9. 发明申请

WO2010016238A1 直流型誘電体バリア放電式の電子照射装置及び電気治療器审中-公开
标题翻译：直流电介质放电电子辐射装置和电子装置
公开(公告)号：WO2010016238A1
公开(公告)日：2010-02-11
申请号：PCT/JP2009/003714
申请日：2009-08-04
申请人： Cambwick Healthcare株式会社 , 平澤計介 , 道善公美 , 多田ゆき , 沖原大司郎
发明人：平澤計介 , 道善公美 , 多田ゆき , 沖原大司郎
IPC分类号： A61N1/20 , A61N1/14
CPC分类号： A61N1/44 , A61N1/40 , H01J37/04 , H01J37/32348 , H05H1/2406 , H05H2001/2412 , H05H2245/122
摘要：一定方向の電子照射を平面の被照射部位に均一に行う電子照射装置を提供する。乾電池６Ｖの直流電源１を直流型高電圧装置２に接続し、直流型高電圧装置２によって６Ｖの電源をマイナス５５００Ｖに昇圧する。直流型高電圧装置２の負極出力端子３をカソード電極５に結線し、直流高電圧源２の正極出力端子６をアノード電極７に結線する。カソード電極５のアノード電極７との対向面に適度な比誘電率と一定範囲の体積抵抗率を有した誘電体シート４を密着する。この誘電体シート４は、ポリウレタンゴム製のシートから成る。カソード電極５と誘電体シート４を密着させ、本発明の直流型誘電体バリア放電電極９を構成する。ベルト状の装着具１５の上面に駆動電源１と直流型高電圧装置２を配置し、下面に放電電極９とアノード電極７を配置する。装着具１５を被治療者の患部に巻き付けた場合に、両電極９，７が患部を挟んで対向する。
摘要翻译：提供一种电子照射装置，用于对沿特定方向照射的平坦部分进行均匀的电子辐射。 6V干电池的直流电源（1）连接到直流高压装置（2），直流高压装置（2）将6V的电源电压提升到-5500V。直流高电压装置（2）的负极性输出端子（3）与阴极电极（5）连接，直流高压装置（2）的正极性输出端子（6）与阳极电极（7）。具有适当相对介电常数和一定体积电阻率范围的电介质片（4）粘附在面向阳极电极（7）的阴极电极（5）的表面上。电介质片（4）是聚氨酯橡胶片。阴极电极（5）和电介质片（4）彼此粘合构成直流电介质势垒放电电极（9）。驱动电源（1）和直流高压装置（2）配置在带状磨损部件（15）的上表面，放电电极（9）和阳极电极（7）在其下表面。当磨损构件（15）缠绕在患者的受影响部分周围时，电极（9,7）彼此面对，并将影响部分夹在其间。

10. 发明申请

WO2007058182A1 位相差電子顕微鏡装置审中-公开
标题翻译：相对电子显微镜
公开(公告)号：WO2007058182A1
公开(公告)日：2007-05-24
申请号：PCT/JP2006/322680
申请日：2006-11-14
申请人：大学共同利用機関法人自然科学研究機構 , ナガヤマアイピーホールディングスエルエルシー , 永山國昭
发明人：永山國昭
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/295
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/26 , H01J2237/0492 , H01J2237/2614 , H01J2237/2802
摘要：　試料を中心に、入射側に集光レンズおよび前方対物レンズを、射出側に後方対物レンズおよび投影レンズを対称的に配置した共焦点法において、試料前方と後方に空間フィルター挿入を可能とする構成を持つようにする。これにより、試料前に空間フィルターを設置可能であるという共焦点法の利点を生かし、従来の透過位相差電子顕微鏡の弱点（ハロー、電子線損失）を取り除いて、材料科学から生命科学にわたる幅広い材料を無染色状態において高コントラストかつ高分解能で見ることが可能な電子顕微鏡技術を確立できる、位相差電子顕微鏡装置を提供する。
摘要翻译：在入射侧使用集体透镜和前物镜的共焦方法以及相对于样品对称设置的出射侧的后物镜和投影透镜被配置为使得空间滤光器可以插入样品前面和后面。因此，可以利用共焦方法的优点，即空间滤光器可以安装在样品的前面，并消除传统的透射相位对比电子显微镜（光晕，电子束损耗）的缺点，从而提供相位对比电子显微镜，使用户能够观察到材料科学和生命科学的各种材料，在非染色状态下具有高对比度和高分辨率。

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