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1. 发明申请

WO2022238137A1 ASSESSMENT SYSTEM, METHOD OF ASSESSING 审中-公开
公开(公告)号：WO2022238137A1
公开(公告)日：2022-11-17
申请号：PCT/EP2022/061407
申请日：2022-04-28
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： WIELAND, Marco, Jan-Jaco
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/26 , H01J37/21 , H01J2237/1205 , H01J2237/1207 , H01J2237/21 , H01J2237/2803 , H01J2237/2817 , H01J37/265
摘要： Assessment systems and methods are disclosed. In one arrangement, charged particles are directed in sub-beams arranged in a multi-beam towards a sample. A plurality of control electrodes define a control lens array. Each control lens in the control lens array is aligned with a sub-beam path of a respective sub-beam of the multi-beam and configured to operate on the respective sub-beam. A plurality of objective electrodes define an objective lens array that directs the sub-beams onto a sample. Objective lenses are aligned with a sub-beam path aligned with a respective control lens. Selectable landing energies are implemented for a sub-beam of the multi-beam by applying corresponding potentials to the control electrodes and the objective electrodes. A controller is configured to select corresponding potentials so a spatial relationship between an image plane of the system and all control electrodes and objective electrodes is the same for each selectable landing energy.

2. 发明申请

WO2022031903A1 DEEP LEARNING MODEL FOR NOISE REDUCTION IN LOW SNR IMAGING CONDITIONS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022031903A1
公开(公告)日：2022-02-10
申请号：PCT/US2021/044633
申请日：2021-08-05
申请人： NANOTRONICS IMAGING, INC.
发明人： SHAROUKHOV, Denis, Y. , IVANOV, Tonislav , LEE, Jonathan
IPC分类号： G06T5/50 , H01J37/21 , G06T2207/20081 , G06T2207/20084 , G06T3/4046 , G06T5/002
摘要： Embodiments disclosed herein are generally related to a system for noise reduction in low signal to noise ratio imaging conditions. A computing system obtains a set of images of a specimen. The set of images includes at least two images of the specimen. The computing system inputs the set of images of the specimen into a trained denoising model. The trained denoising model is configured to output a single denoised image of the specimen. The computing system receives, as output from the trained denoising model, a single denoised image of the specimen.

3. 发明申请

WO2021186637A1 荷電粒子線装置审中-公开
公开(公告)号：WO2021186637A1
公开(公告)日：2021-09-23
申请号：PCT/JP2020/012094
申请日：2020-03-18
申请人：株式会社日立ハイテク
发明人：吉原　真衣 , 梶山　浩嗣 , 千葉　寛幸
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/28
摘要：荷電粒子線装置１を用いて試料ＳＡＭの撮影を行う際に、撮影時間を短縮でき、より正確な撮影像を得られる技術を提供する。荷電粒子線装置１は、電子銃３と、対物レンズ６と、ステージ８と、検出器１０，１１と、総合制御部Ｃ０と、撮影機能と、オートフォーカス機能とを備える。複数の撮影視野の各々のフォーカスは、複数の撮影視野のうち撮影対象に指定された指定視野６１に隣接するフォーカス値算出用視野６４において行われ、複数の撮影視野の各々のフォーカス値の算出には、フォーカス値算出用視野６４において算出されたフォーカス値が用いられる。

4. 发明申请

WO2021151629A1 METHOD OF OPERATING A CHARGED PARTICLE GUN, CHARGED PARTICLE GUN, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE 审中-公开
公开(公告)号：WO2021151629A1
公开(公告)日：2021-08-05
申请号：PCT/EP2021/050164
申请日：2021-01-07
申请人： ICT INTEGRATED CIRCUIT TESTING GESELLSCHAFT FÜR HALBLEITERPRÜFTECHNIK MBH
发明人： WINKLER, Dieter
IPC分类号： H01J37/073 , H01J37/21 , H01J37/18
摘要： A method of operating a charged particle gun (102) is described. The method includes providing an emitter (122) at a first emitter potential within the charged particle gun and providing a trapping electrode (142) at a first electrode potential within the charged particle gun, wherein the first emitter potential and the first electrode potential is provided to have an electrical field of essentially zero at the emitter and at the trapping electrode; switching the trapping electrode from the first electrode potential to a second electrode potential different from the first electrode potential to generate an electrostatic trapping field at the trapping electrode; and after switching the trapping electrode from the first electrode potential to the second electrode potential, switching on an electrostatic emission field at the emitter.

5. 发明申请

WO2020141071A1 METHOD FOR CALIBRATING A SCANNING CHARGED PARTICLE MICROSCOPE 审中-公开
公开(公告)号：WO2020141071A1
公开(公告)日：2020-07-09
申请号：PCT/EP2019/085710
申请日：2019-12-17
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： DILLEN, Hermanus, Adrianus , TEL, Wim, Tjibbo , VAN MIERLO, Willem, Louis
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/28
摘要： A method for calibrating a scanning charged particle microscope, such as a scanning electron microscope (SEM), is provided. The method includes dividing a wafer into a plurality of regions; preparing, on each of the plurality of regions, a pattern including a first periodic structure interleaved with a second periodic structure, the first and second periodic structures having an induced offset; determining an actual pitch the first and second periodic structures and thereby determining actual induced offset on each of the plurality of regions; selecting a plurality of regions from among the plurality of regions; measuring, by the SEM, a pitch of first and second periodic structures on each of the plurality of regions; and performing linearity calibration on the SEM based on the determining and the measuring.

6. 发明申请

WO2018042531A1 計測装置及び計測方法审中-公开
标题翻译：测量仪器和测量方法
公开(公告)号：WO2018042531A1
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：PCT/JP2016/075413
申请日：2016-08-31
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：高橋　範次 , 榊原　慎 , 森　渉 , 川野　源 , 笹氣　裕子
IPC分类号： H01J37/21 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/244
摘要：荷電粒子線を照射することによって試料の計測を行う計測装置であって、粒子源、電子レンズ、検出器、ステージ、環境を計測するセンサ、及び制御装置を備え、制御装置は、試料の計測位置における試料の高さの予測値を示す高さ予測値を算出する高さ算出モジュールと、試料の計測位置及び前記センサによって計測された環境の変化量に基づいて、環境の変化を反映した補正値を算出する補正値算出モジュールと、を含む制御モジュールを有し、制御モジュールは、補正値に基づいて高さ予測値を修正し、修正された高さ予測値に基づいて電子レンズを用いたフォーカス調整を制御するための制御値を設定する。
摘要翻译：为通过照射进行试样的测量的测量装置
带电粒子束，用于测量粒子源，电子透镜，检测器阶段，环境，和控制装置的传感器，控制装置包括用来计算该指示该样品的测量位置的样品的高度的预测值，根据已经由所述测量位置和所述样品的传感器测量的环境中的变化的量的高度预测值的高度计算模块，包括校正值计算模块，用于计算反映在环境中的变化的校正值的控制模块，所述控制模块修改基于所述校正值的高度预测值，将校正高度预测值并且基于计算值设置用于使用电子透镜来控制焦点调整的控制值。

7. 发明申请

WO2017050546A1 X-RAY CALIBRATION STANDARD OBJECT 审中-公开
标题翻译： X射线校准标准对象
公开(公告)号：WO2017050546A1
公开(公告)日：2017-03-30
申请号：PCT/EP2016/070794
申请日：2016-09-19
申请人： ARCAM AB
发明人： BACKLUND, Johan , WILDHEIM, Martin
IPC分类号： B29C67/00 , B23K15/00 , B22F3/105 , H01J37/304 , H01J37/21 , H01J37/20 , G01T1/29
CPC分类号： B23K15/0013 , B22F3/1055 , B23K15/002 , B23K15/0086 , B29C64/153 , B29C64/20 , B33Y10/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02 , G01T1/29 , H01J37/3002 , H01J37/305 , H01J2237/2445 , H01J2237/30433 , H01J2237/30472
摘要： An X-ray standard reference object for calibrating a scanning electron beam in an additive manufacturing apparatus by measuring X-ray signals generated by scanning the electron beam onto the reference object, the reference object comprises: a lower and an upper plate being essentially in parallel and attached spaced apart from each other, the upper plate comprises a plurality of holes, wherein a predetermined hollow pattern is provided inside the holes.
摘要翻译：一种用于通过测量通过将电子束扫描到参考物体上产生的X射线信号来校准添加剂制造装置中的扫描电子束的X射线标准参考物体，该参考对象包括：下部和上部板基本上是平行的并且彼此间隔开，所述上板包括多个孔，其中在所述孔内设置有预定的中空图案。

8. 发明申请

WO2017018432A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2017018432A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：PCT/JP2016/071942
申请日：2016-07-27
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：池上　明 , 川本　雄太 , 土肥　英登 , 矢野　学 , 丹代　裕 , 数見　秀之
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/248 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/248 , H01J37/28
摘要：本発明は、収差発生の要因である視野移動時の離軸量を抑制しつつ、大きな視野移動を行うことが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために対物レンズ（１２）と、荷電粒子ビームを偏向する視野移動用偏向器（２３）を備えた荷電粒子線装置であって、前記視野移動用偏向器と前記対物レンズとの間に配置される加速管（１１）と、当該加速管に電圧を印加する電源と、前記視野移動偏向器による偏向条件に応じて、前記電源に印加する電圧を制御する制御装置を備えた荷電粒子線装置を提案する。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种带电粒子束装置，其在视场移动时抑制离轴量，所述移动造成像差，并允许进行大视野移动。为了实现上述目的，该带电粒子束装置设置有用于视场移动的物镜（12）和偏转器（23），所述偏转器（23）使带电粒子束偏转，并且还提供具有位于物镜和用于视野移动的偏转器之间的加速管（11），向加速管施加电压的电源以及响应于电源施加的电压的控制装置对于视场移动的偏转器的偏转条件。

9. 发明申请

WO2013067854A1 一种多电极束流聚焦调节装置与方法审中-公开
公开(公告)号：WO2013067854A1
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：PCT/CN2012/081553
申请日：2012-09-18
申请人：北京中科信电子装备有限公司
发明人：谢均宇 , 张继恒 , 孙勇
IPC分类号： H01J37/21
CPC分类号： H01J37/21 , H01J2237/24514 , H01J2237/31701
摘要：本发明公开了一种多电极束流聚焦调节装置与方法，包括：主控计算机（1）、光纤通信卡（2）、I/O信号控制器（3）、程控多路输出直流电源（4）、柱状电极组（5）、绝缘腔体（6）。其特征在于光纤通信卡（2）插在主控计算机（1）的 PCI插槽上，光纤通信卡（2）和 I/O信号控制器（3）之间通过光纤传输信号。I/O信号控制器（3）连接到程控多路输出直流电源（4），负责给程控多路输出直流电源（4）发送电压输出命令和采集反馈电压。

10. 发明申请

WO2011013342A1 パターン評価方法、その装置、及び電子線装置审中-公开
标题翻译：图案评估方法，其设备和电子束装置
公开(公告)号：WO2011013342A1
公开(公告)日：2011-02-03
申请号：PCT/JP2010/004743
申请日：2010-07-26
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 山梨弘将 , 早田康成 , 大橋健良 , 福田宗行
发明人：山梨弘将 , 早田康成 , 大橋健良 , 福田宗行
IPC分类号： H01J37/22 , G01B15/00 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01L21/66
CPC分类号： H01J37/28 , G06T7/74 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148 , G06T2207/30204 , H01J37/1478 , H01J2237/24578 , H01J2237/2611 , H01J2237/2817
摘要：　ビームの傾斜による視差を利用して試料表面の凹凸判定をし、寸法測定を行うパターン評価装置において、画像取得位置を移動するためのビーム偏向量に依存する位置ずれ量で補正した後のビーム傾斜前後のパターン位置ずれ量から、非点較差量又は焦点位置ずれ量を算出する。また、１枚のＳＥＭ画像を取得する際に一次電子の入射角を連続的に変化させ、同一画像内で異なる入射角で得られた領域が連続的につながっている画像を取得することにより、１枚の画像取得により凹凸判定を行う。
摘要翻译：公开了一种图案评估装置，其使用由光束倾斜引起的视差来测定样品的表面的不规则性并测量其尺寸，其中，从图案的量计算像散差的量或聚焦位移量在通过取决于用于移动图像采集位置的光束偏转量的位移量来校正光束倾斜之前和之后的位移。具体公开了一种模式评价装置，其在获取一个SEM图像时连续地改变一次电子的入射角，并且获取其中以相同图像内的不同入射角获得的区域连续连接的图像，从而确定在收购一幅图像的基础上进行违规行为。

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