专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2017018432A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2017018432A1
公开(公告)日：2017-02-02
申请号：PCT/JP2016/071942
申请日：2016-07-27
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：池上　明 , 川本　雄太 , 土肥　英登 , 矢野　学 , 丹代　裕 , 数見　秀之
IPC分类号： H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/248 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/04 , H01J37/147 , H01J37/21 , H01J37/248 , H01J37/28
摘要：本発明は、収差発生の要因である視野移動時の離軸量を抑制しつつ、大きな視野移動を行うことが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために対物レンズ（１２）と、荷電粒子ビームを偏向する視野移動用偏向器（２３）を備えた荷電粒子線装置であって、前記視野移動用偏向器と前記対物レンズとの間に配置される加速管（１１）と、当該加速管に電圧を印加する電源と、前記視野移動偏向器による偏向条件に応じて、前記電源に印加する電圧を制御する制御装置を備えた荷電粒子線装置を提案する。
摘要翻译：本发明的目的是提供一种带电粒子束装置，其在视场移动时抑制离轴量，所述移动造成像差，并允许进行大视野移动。为了实现上述目的，该带电粒子束装置设置有用于视场移动的物镜（12）和偏转器（23），所述偏转器（23）使带电粒子束偏转，并且还提供具有位于物镜和用于视野移动的偏转器之间的加速管（11），向加速管施加电压的电源以及响应于电源施加的电压的控制装置对于视场移动的偏转器的偏转条件。

2. 发明申请

WO2014181685A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2014181685A1
公开(公告)日：2014-11-13
申请号：PCT/JP2014/061393
申请日：2014-04-23
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：高鉾　良浩 , 小林　大祐 , 木村　政司 , 笹島　正弘
IPC分类号： H01J37/18
CPC分类号： H01J37/18 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01J2237/1825 , H01J2237/26 , H01J2237/30
摘要：　荷電粒子線装置の真空排気構造は、荷電粒子源が設けられた真空室と、真空室に接続された真空配管と、真空配管を介して接続され、真空室内を排気するメイン真空ポンプと、真空配管における真空室とメイン真空ポンプとの間の位置に設けられた非蒸発ゲッターポンプと、真空配管における真空室と非蒸発ゲッターポンプとの間の位置に接続された粗排気ポートと、を備える。粗排気ポートは、粗排気ポートを開閉する粗排気用バルブと、真空室を大気開放するためのリークバルブとを備える。
摘要翻译：在本发明中，带电粒子束装置的抽空结构具有：设置带电粒子源的真空室; 连接到真空室的真空管道; 主真空泵，通过真空管连接到真空室并抽真空室; 设置在真空室和主真空泵之间的真空管道中的非蒸发吸气泵; 以及连接到真空室和非蒸发吸气泵之间的真空管道中的位置的粗排气口。粗排气口设置有用于打开和关闭粗排气口的粗排气阀和用于将真空室打开到大气的泄漏阀。

3. 发明申请

WO2014003937A1 Multi Species Ion Source 审中-公开
标题翻译：多种离子源
公开(公告)号：WO2014003937A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/US2013/042697
申请日：2013-05-24
申请人： FEI COMPANY
发明人： SCHWIND, Gregory A. , PARKER, N. William
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/21 , H01J27/205 , H01J37/08 , H01J2237/006 , H01J2237/082 , H01J2237/0827 , H01J2237/31749
摘要： A high brightness ion source with a gas chamber includes multiple channels, wherein the multiple channels each have a different gas. An electron beam is passed through one of the channels to provide ions of a certain species for processing a sample. The ion species can be rapidly changed by directing the electrons into another channel with a different gas species and processing a sample with ions of a second species. Deflection plates are used to align the electron beam into the gas chamber, thereby allowing the gas species in the focused ion beam to be switched quickly.
摘要翻译：具有气室的高亮度离子源包括多个通道，其中多个通道各自具有不同的气体。电子束通过一个通道以提供某种物质的离子用于处理样品。可以通过将电子引导到具有不同气体种类的另一个通道并用第二种离子的离子处理样品来快速改变离子种类。偏转板用于将电子束对准气体室，从而允许聚焦离子束中的气体物质快速切换。

4. 发明申请

WO2013067854A1 一种多电极束流聚焦调节装置与方法审中-公开
公开(公告)号：WO2013067854A1
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：PCT/CN2012/081553
申请日：2012-09-18
申请人：北京中科信电子装备有限公司
发明人：谢均宇 , 张继恒 , 孙勇
IPC分类号： H01J37/21
CPC分类号： H01J37/21 , H01J2237/24514 , H01J2237/31701
摘要：本发明公开了一种多电极束流聚焦调节装置与方法，包括：主控计算机（1）、光纤通信卡（2）、I/O信号控制器（3）、程控多路输出直流电源（4）、柱状电极组（5）、绝缘腔体（6）。其特征在于光纤通信卡（2）插在主控计算机（1）的 PCI插槽上，光纤通信卡（2）和 I/O信号控制器（3）之间通过光纤传输信号。I/O信号控制器（3）连接到程控多路输出直流电源（4），负责给程控多路输出直流电源（4）发送电压输出命令和采集反馈电压。

5. 发明申请

WO2012040014A1 ION BEAM TUNING 审中-公开
标题翻译：离子束调谐
公开(公告)号：WO2012040014A1
公开(公告)日：2012-03-29
申请号：PCT/US2011/051549
申请日：2011-09-14
申请人： vARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , CHANG, Shengwu , OLSON, Joseph, C. , SINCLAIR, Frank , MCCLELLAN, Matthew, P.
发明人： CHANG, Shengwu , OLSON, Joseph, C. , SINCLAIR, Frank , MCCLELLAN, Matthew, P.
IPC分类号： H01J37/10 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/24405 , H01J2237/24528 , H01J2237/24542
摘要： A beam line ion implanter includes an ion source configured to generate an ion beam, a scanner configured to scan the ion beam to produce a scanned ion beam having trajectories which diverge from a scan origin, and a focusing element having a focusing field positioned upstream of the scanner configured to focus the ion beam to a focal point at the scan origin. A method of ion beam tuning includes generating an ion beam, focusing the ion beam to a focal point positioned at a scan origin, and scanning the ion beam to produce a scanned ion beam having trajectories which diverge from the scan origin.
摘要翻译：束线离子注入机包括被配置为产生离子束的离子源，被配置为扫描离子束以产生具有从扫描原点发散的轨迹的扫描离子束的扫描器，以及聚焦元件，其具有位于扫描器被配置为将离子束聚焦到扫描原点处的焦点。离子束调谐的方法包括产生离子束，将离子束聚焦到位于扫描原点的焦点，并扫描离子束以产生具有与扫描原点分离的轨迹的扫描离子束。

6. 发明申请

WO2011102122A1 真空処理装置审中-公开
标题翻译：真空加工装置
公开(公告)号：WO2011102122A1
公开(公告)日：2011-08-25
申请号：PCT/JP2011/000846
申请日：2011-02-16
申请人：株式会社アルバック , 飯島栄一 , 池田裕人 , 磯佳樹
发明人：飯島　栄一 , 池田　裕人 , 磯　佳樹
IPC分类号： C23C14/30 , H01J37/06 , H01J37/065 , H01J37/10 , H01J37/147
CPC分类号： H01J37/305 , C23C14/30 , H01J37/21 , H01J2237/216 , H01J2237/3132
摘要：高真空領域においても電子ビームの発散を抑え、蒸発レートの低下を防止し、安定した成膜を行うことができる真空処理装置を提供する。【課題】【解決手段】真空処理装置（蒸着装置）１は、真空蒸着室５０と、電子銃２０と、電子ビーム集束機構１５０とを有する。上記真空蒸着室５０は、蒸発材料３１を収容する蒸発源及び該蒸発材料３１が加熱されて蒸着膜として蒸着される被処理部材１０が設けられている。上記電子銃は、上記真空蒸着室５０に隣接して配置され、上記蒸発材料３１を加熱する電子ビームを出射する。上記電子ビーム集束機構１５０は、上記真空蒸着室５０内に設けられ、電子銃２０から出射した上記電子ビームを集束する。
摘要翻译：提供能够稳定成膜的真空处理装置。所述真空处理装置即使在高真空下也可以使电子束发散最小化，并且防止蒸发速率降低。所提供的真空处理装置（沉积装置）（1）具有真空沉积室（50），电子枪（20）和电子束聚焦机构（150）。真空沉积室（50）设置有蒸发源（31）和目标构件（10）。蒸发材料（31）被加热并沉积在目标构件上，形成沉积膜。与真空沉积室（50）相邻的电子枪发射加热蒸发材料（31）的电子束。设置在真空沉积室（50）内部的电子束聚焦机构（150）聚焦由电子枪（20）发射的电子束。

7. 发明申请

WO2007143736A2 COMPACT SCANNING ELECTRON MICROSCOPE 审中-公开
标题翻译：紧凑扫描电子显微镜
公开(公告)号：WO2007143736A2
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/US2007/070654
申请日：2007-06-07
申请人： FEI COMPANY , BIERHOFF, Mart Petrus Maria , BUIJSSE, Bart , KOOIJMAN, Cornelis Sander , VAN LEEUWEN, Hugo , TAPPEL, Hendrik Gezinus , SANFORD, Colin August , STOKS, Sander Richard Marie , BERGER, Steven , BORMANS, Ben Jacobus Marie , DRIESSEN, Koen Arnoldus Wilhelmus , PERSOON, Johannes Antonius Hendricus Wilhelmus Gerardus
发明人： BIERHOFF, Mart Petrus Maria , BUIJSSE, Bart , KOOIJMAN, Cornelis Sander , VAN LEEUWEN, Hugo , TAPPEL, Hendrik Gezinus , SANFORD, Colin August , STOKS, Sander Richard Marie , BERGER, Steven , BORMANS, Ben Jacobus Marie , DRIESSEN, Koen Arnoldus Wilhelmus , PERSOON, Johannes Antonius Hendricus Wilhelmus Gerardus
IPC分类号： G01R1/44
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/21 , H01J37/226 , H01J37/244 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J37/302 , H01J2237/1405 , H01J2237/162 , H01J2237/1825 , H01J2237/188 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006
摘要： A compact electron microscope is robust, simple to operate, and preferably requires no special utilities. Imaging can begin shortly after a sample is inserted. A preferred simplified design includes permanent magnets for focusing, lack a vacuum controller and vacuum gauge, and uses a backscattered electron detector and no secondary electron detector.
摘要翻译：紧凑的电子显微镜是坚固的，操作简单，并且优选不需要特殊的用途。插入样品后即可开始成像。优选的简化设计包括用于聚焦的永磁体，缺少真空控制器和真空计，并且使用背散射电子检测器并且不使用二次电子检测器。

8. 发明申请

WO2007143734A2 USER INTERFACE FOR AN ELECTRON MICROSCOPE 审中-公开
标题翻译：电子显微镜的用户界面
公开(公告)号：WO2007143734A2
公开(公告)日：2007-12-13
申请号：PCT/US2007/070650
申请日：2007-06-07
申请人： FEI COMPANY , BIERHOFF, Mart Petrus Maria , BUIJSSE, Bart , KOOIJMAN, Cornelis Sander , VAN LEEUWEN, Hugo , TAPPEL, Hendrik Gezinus , SANFORD, Colin August , STOKS, Sander Richard Marie , BERGER, Steven , BORMANS, Ben Jacobus Marie , DRIESSEN, Koen Arnoldus Wilhelmus , PERSOON, Johannes Antonius Hendricus Wilhelmus Gerardus
发明人： BIERHOFF, Mart Petrus Maria , BUIJSSE, Bart , KOOIJMAN, Cornelis Sander , VAN LEEUWEN, Hugo , TAPPEL, Hendrik Gezinus , SANFORD, Colin August , STOKS, Sander Richard Marie , BERGER, Steven , BORMANS, Ben Jacobus Marie , DRIESSEN, Koen Arnoldus Wilhelmus , PERSOON, Johannes Antonius Hendricus Wilhelmus Gerardus
IPC分类号： G01R1/44
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/185 , H01J37/20 , H01J37/21 , H01J37/226 , H01J37/244 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J37/302 , H01J2237/1405 , H01J2237/162 , H01J2237/1825 , H01J2237/188 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006
摘要： A user interface for operation of a scanning electron microscope device that combines lower magnification reference images and higher magnification images on the same screen to make it easier for a user who is not used to the high magnification of electron microscopes to readily determine where on the sample an image is being obtained and to understand the relationship between that image and the rest of the sample. Additionally, other screens, such as, for example, an archive screen and a settings screen allow the user to compare saved images and adjust the settings of the system, respectively.
摘要翻译：用于操作扫描电子显微镜装置的用户界面，其将较低倍率参考图像和较高放大倍率的图像组合在同一屏幕上，使得不被用于电子显微镜的高放大倍数的用户容易地确定样品在哪里更容易正在获取图像并了解该图像与其余样本之间的关系。此外，其他屏幕（例如存档屏幕和设置屏幕）允许用户比较保存的图像并分别调整系统的设置。

9. 发明申请

WO2005074002A3 FOCUSING SYSTEM AND METHOD FOR A CHARGED PARTICLE IMAGING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：带电粒子成像系统的聚焦系统和方法
公开(公告)号：WO2005074002A3
公开(公告)日：2005-12-29
申请号：PCT/US2005001756
申请日：2005-01-20
申请人： APPLIED MATERIALS ISRAEL LTD , APPLIED MATERIALS INC , ROGERS STEVE ROBERT
发明人： ROGERS STEVE ROBERT
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/21 , H01J37/22 , H01J37/28 , H01J37/29
CPC分类号： H01J37/21 , H01J37/153 , H01J37/222 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J37/29 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/2538 , H01J2237/2817 , H01J2237/31774
摘要： Apparatus for focusing a charged particle beam onto a surface, including a charged particle beam generator which is adapted to project the charged particle beam onto a location on the surface, thereby causing charges to be emitted from the location. The apparatus further includes an imaging detector which is adapted to receive the charges so as to form an image of the location, and an aberrating element which is positioned before the imaging detector and which is adapted to produce an aberration in the image. A processor is adapted to receive the image and to adjust at least one of the charged particle beam generator and a position of the surface in response to the aberration.
摘要翻译：用于将带电粒子束聚焦到表面上的装置，包括带电粒子束发生器，其适于将带电粒子束投射到表面上的位置上，从而使电荷从该位置发射。该设备还包括适于接收电荷以形成位置的图像的成像检测器以及位于成像检测器之前并且适于在图像中产生像差的像差元件。处理器适于接收图像并且响应于像差来调整带电粒子束发生器和表面的位置中的至少一个。

10. 发明申请

WO2017136465A1 FIELD CURVATURE CORRECTION FOR MULTI-BEAM INSPECTION SYSTEMS 审中-公开
标题翻译：多梁检测系统的现场曲率修正
公开(公告)号：WO2017136465A1
公开(公告)日：2017-08-10
申请号：PCT/US2017/016082
申请日：2017-02-01
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： BRODIE, Alan D. , KNIPPELMEYER, Rainer , SEARS, Christopher , ROUSE, John , CHEN, Grace H.
IPC分类号： H01L21/66 , H01L21/67 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/12 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/1207 , H01J2237/21 , H01J2237/2801 , H01J2237/2817
摘要： Multi-beam e-beam columns and inspection systems that use such multi-beam e-beam columns are disclosed. A multi-beam e-beam column configured in accordance with the present disclosure may include an electron source and a multi-lens array configured to produce a plurality of beamlets utilizing electrons provided by the electron source. The multi-lens array may be further configured to shift a focus of at least one particular beamlet of the plurality of beamlets such that the focus of the at least one particular beamlet is different from a focus of at least one other beamlet of the plurality of beamlets.
摘要翻译：公开了使用这种多束电子束柱的多束电子束柱和检查系统。根据本公开配置的多束电子束柱可以包括电子源和多透镜阵列，其被配置为利用由电子源提供的电子来产生多个子束。多透镜阵列可进一步配置成移动多个小射束中的至少一个特定小射束的焦点，使得至少一个特定小射束的焦点不同于多个小射束中的至少一个其他小射束的焦点子束。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式