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1. 发明申请

WO2015080894A1 TRIPLE MODE ELECTROSTATIC COLLIMATOR 审中-公开
标题翻译：三重模式静电收缩机
公开(公告)号：WO2015080894A1
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：PCT/US2014/065930
申请日：2014-11-17
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
发明人： SINCLAIR, Frank , BENVENISTE, Victor M.
IPC分类号： H01J37/147 , G02B27/30
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/1471 , H01J2237/047 , H01J2237/2485 , H01J2237/30472
摘要： A system includes a first electrode to receive an ion beam, a second electrode to receive the ion beam after passing through the first electrode, the first and second electrode forming an upstream gap defined by a convex surface on one of the first or second electrode and concave surface on the other electrode, a third electrode to receive the ion beam after passing through the second electrode, wherein the second and third electrode form a downstream gap defined by a convex surface on one of the second or third electrode and concave surface on the other electrode, wherein the second electrode has either two concave surfaces or two convex surfaces; and a voltage supply system to independently supply voltage signals to the first, second and third electrode, that accelerate and decelerate the ion beam as it passes through the first, second, and third electrode.
摘要翻译：一种系统包括用于接收离子束的第一电极，在通过第一电极之后接收离子束的第二电极，第一和第二电极形成由第一或第二电极之一上的凸表面限定的上游间隙，以及在另一个电极上的凹面，用于在穿过第二电极之后接收离子束的第三电极，其中第二和第三电极形成由第二或第三电极之一上的凸表面限定的下游间隙和其它电极，其中所述第二电极具有两个凹面或两个凸面; 以及电压供应系统，用于独立地向第一，第二和第三电极提供电压信号，其在离子束通过第一，第二和第三电极时加速和减速。

2. 发明申请

WO2012033698A1 UNIFORMITY CONTROL USING ION BEAM BLOCKERS 审中-公开
标题翻译：使用离子束屏障的均匀控制
公开(公告)号：WO2012033698A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/US2011/050161
申请日：2011-09-01
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. , DISTASO, Daniel , OLSON, Joseph , SINCLAIR, Frank
发明人： DISTASO, Daniel , OLSON, Joseph , SINCLAIR, Frank
IPC分类号： H01J37/05 , H01J37/317
CPC分类号： H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/047 , H01J2237/083 , H01J2237/24542
摘要： An ion beam is generated and the energy of this ion beam is changed from a first energy to a second energy through, for example, acceleration or deceleration. A portion of the ion beam is blocked after the energy is changed and the ion beam is implanted into a workpiece. A plurality of blockers may be used to block the beam. Each blocker may be attached to a drive unit configured to translate one of the blockers in a first direction. t
摘要翻译：产生离子束，并且该离子束的能量通过例如加速或减速从第一能量改变为第二能量。在能量改变之后，离子束的一部分被阻挡并且将离子束注入到工件中。可以使用多个阻挡器来阻挡梁。每个阻断器可以附接到驱动单元，该驱动单元被配置成在第一方向上平移一个阻断器。 Ť

3. 发明申请

WO2007146395A2 ION BEAM APPARATUS AND METHOD EMPLOYING MAGNETIC SCANNING 审中-公开
标题翻译：离子束设备和使用磁性扫描的方法
公开(公告)号：WO2007146395A2
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/US2007/013985
申请日：2007-06-13
申请人： SEMEQUIP, INC. , GLAVISH, Hilton, F. , JACOBSON, Dale, Conrad , HORSKY, Thomas, N. , HAHTO, Sami, K. , HAMAMOTO, Nariaki , NAITO, Masao , NAGAI, Nobuo
发明人： GLAVISH, Hilton, F. , JACOBSON, Dale, Conrad , HORSKY, Thomas, N. , HAHTO, Sami, K. , HAMAMOTO, Nariaki , NAITO, Masao , NAGAI, Nobuo
IPC分类号： H01J37/05
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J2237/0044 , H01J2237/0455 , H01J2237/047 , H01J2237/0492 , H01J2237/057 , H01J2237/14 , H01J2237/30477 , H01J2237/31703 , H01L21/26513
摘要： A multipurpose ion implanter beam line configuration comprising a mass analyzer magnet followed by a magnetic scanner and magnetic collimator combination that introduce bends to the beam path, the beam line constructed for enabling implantation of common monatomic dopant ion species cluster ions, the beam line configuration having a mass analyzer magnet defining a pole gap of substantial width between ferromagnetic poles of the magnet and a mass selection aperture, the analyzer magnet sized to accept an ion beam from a slot-form ion source extraction aperture of at least about 80 mm height and at least about 7 mm width, and to produce dispersion at the mass selection aperture in a plane corresponding to the width of the beam, the mass selection aperture capable of being set to a mass-selection width sized to select a beam of the cluster ions of the same dopant species but incrementally differing molecular weights, the mass selection aperture also capable of being set to a substantially narrower mass-selection width and the analyzer magnet having a resolution at the mass selection aperture sufficient to enable selection of a beam of monatomic dopant ions of substantially a single atomic or molecular weight, the magnetic scanner and magnetic collimator being constructed to successively bend the ion beam in the same sense, which is in the opposite sense to that of the bend introduced by the analyzer magnet of the beam line.
摘要翻译：多用途离子注入机束线配置，其包括质量分析器磁体，随后是磁扫描仪和将准弯曲引导到光束路径的光束线，所述光束线被构造用于使得能够注入常见的单原子掺杂离子簇簇离子，所述束线配置具有质量分析器磁体限定磁体的铁磁极之间的相当宽度的极隙和质量选择孔，分析器磁体的尺寸设计成接受来自至少约80mm高度的槽形离子源提取孔的离子束，并且在至少约7mm的宽度，并且在与所述梁的宽度相对应的平面中的所述质量选择孔处产生分散体，所述质量选择孔能够被设置为质量选择宽度，所述质量选择宽度的尺寸被选择为选择聚束离子的束相同的掺杂剂种类但递增不同的分子量，质量选择孔径也能够被大大地设定质量选择宽度较窄的分析器磁体和质量选择孔径处的分辨率足以能够选择基本上单原子或分子量的单原子掺杂离子束，磁扫描器和磁准直器被构造为连续弯曲离子在相同意义上的光束，其与由光束线的分析器磁体引入的弯曲的方向相反。

4. 发明申请

WO2005006385A3 CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE WITH MULTI-SOURCE ARRAY 审中-公开
标题翻译：带有多源阵列的充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2005006385A3
公开(公告)日：2005-04-14
申请号：PCT/EP2004005288
申请日：2004-05-17
申请人： INTEGRATED CIRCUIT TESTING , FEUERBAUM HANS-PETER , FROSIEN JUERGEN , HOFFMANN ULI , WINKLER DIETER , ADAMEC PAVEL
发明人： FEUERBAUM HANS-PETER , FROSIEN JUERGEN , HOFFMANN ULI , WINKLER DIETER , ADAMEC PAVEL
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/04 , H01J37/30
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/047 , H01J2237/0635
摘要： The present invention provides a charged particle beam device. The device comprises an emitter array (22) for emitting a plurality of charged particle beams (8). The plurality of charged particle beams are imaged with a lens (12). An electrode unit (14) is provided for accelerating the plurality of charged particle beams. The potential differences between a first potential of the emitter array, a second potential of the electrode unit, and a third potential of a specimen, are controlled by a first control unit (11) and a second control unit. Thereby, the second potential is capable of accelerating the plurality of charged particle beams with respect to the first potential, and the third potential is capable of decelerating the plurality of charged particle beams with respect to the second potential.
摘要翻译：本发明提供一种带电粒子束装置。该装置包括用于发射多个带电粒子束（8）的发射极阵列（22）。多个带电粒子束用透镜（12）成像。设置有用于加速多个带电粒子束的电极单元（14）。第一控制单元（11）和第二控制单元控制发射极阵列的第一电位，电极单元的第二电位和试样的第三电位之间的电位差。因此，第二电位能够相对于第一电位加速多个带电粒子束，并且第三电位能够使多个带电粒子束相对于第二电位减速。

5. 发明申请

WO2003083892A1 DISPOSITIF DE MESURE DE L'EMISSION DE RAYONS X PRODUITE PAR UN OBJET SOUMIS A UN FAISCEAU D'ELECTRONS 审中-公开
标题翻译：用于测量暴露于电子束的物体产生的X射线辐射的装置
公开(公告)号：WO2003083892A1
公开(公告)日：2003-10-09
申请号：PCT/FR2003/000987
申请日：2003-03-28
申请人： CAMECA , DE CHAMBOST, Emmanuel , HOMBOURGER, Chrystel , MONTERO, Juan , MONTSALLUT, Pierre , STAUB, Pierre-François
发明人： DE CHAMBOST, Emmanuel , HOMBOURGER, Chrystel , MONTERO, Juan , MONTSALLUT, Pierre , STAUB, Pierre-François
IPC分类号： H01J37/256
CPC分类号： H01J37/256 , H01J2237/047 , H01J2237/2561
摘要： La présente invention porte sur un dispositif de mesure de l'émission de rayons X produite par un objet, ou échantillon, soumis à un faisceau d'électrons. Le dispositif comporte au moins un sous-ensemble ou colonne électronique qui permet d'élaborer et de contrôler le faisceau d'électrons et un support permettant de positionner l'objet mesuré. II comporte également des moyens d'analyse spectrale des rayons X émis par l'échantillon à analyser et des moyens optiques permettant de contrôler la position de l'échantillon par rapport au faisceau. L'énergie du faisceau créé, ainsi que l'intensité du courant d'électrons obtenu permettent de répondre aux exigences de sensibilité, de résolution et de précision demandée par les fabricants de semi-conducteurs. L'invention s'applique notamment au contrôle de fabrication de wafer de circuits intégrés.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量由暴露于电子束的物体或样品产生的X射线的发射的装置。该装置包括能够产生和控制电子束的至少一个子集或电子列，以及允许测量对象被定位的支持。它还包括用于对样品发射的X射线进行光谱分析的装置并且光学装置使得能够相对于光束控制样品的位置。由此产生的光束的能量和获得的电子流的强度符合半导体制造商规定的灵敏度，分辨率和精度方面的要求。本发明特别地用于控制集成电路晶片的生产。

6. 发明申请

WO2017066023A1 CONTROLLING AN ION BEAM IN A WIDE BEAM CURRENT OPERATION RANGE 审中-公开
标题翻译：在宽光束电流操作范围内控制离子束
公开(公告)号：WO2017066023A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：PCT/US2016/055125
申请日：2016-10-03
申请人： VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC.
发明人： CHANG, Shengwu , ROUNDS, Kristen , LEAVITT, William , BROSNAN, Daniel
IPC分类号： H01J37/317 , H01J27/02 , H01J37/30
CPC分类号： H01J37/3002 , H01J37/12 , H01J37/3171 , H01J2237/047 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/04924
摘要： Provided herein are approaches for controlling an ion beam within an accelerator/decelerator. In an exemplary approach, an ion implantation system includes an ion source for generating an ion beam, and a terminal suppression electrode coupled to a terminal, wherein the terminal suppression electrode is configured to conduct the ion beam through an aperture of the terminal suppression electrode and to apply a first potential to the ion beam from a first voltage supply. The system further includes a lens coupled to the terminal and disposed adjacent the terminal suppression electrode, wherein the lens is configured to conduct the ion beam through an aperture of the lens and to apply a second potential to the ion beam from a second voltage supply. In an exemplary approach, the lens is electrically insulated from the terminal suppression electrode and independently driven, thus allowing for an increased beam current operation range.
摘要翻译：本文提供用于控制加速器/减速器内的离子束的方法。在示例性方法中，离子注入系统包括用于产生离子束的离子源和耦合到端子的端子抑制电极，其中端子抑制电极被配置为通过端子抑制电极的孔传导离子束，以及从第一电压源向离子束施加第一电位。该系统还包括耦合到端子并且邻近端子抑制电极设置的透镜，其中透镜被配置为通过透镜的孔传导离子束并且将第二电势从第二电压源提供给离子束。在示例性方法中，透镜与终端抑制电极电绝缘且独立驱动，因此允许增加电子束电流操作范围。

7. 发明申请

WO2015130410A3 ION IMPLANTATION SYSTEM AND METHOD WITH VARIABLE ENERGY CONTROL 审中-公开
标题翻译：离子植入系统和方法与可变能量控制
公开(公告)号：WO2015130410A3
公开(公告)日：2015-12-17
申请号：PCT/US2015011578
申请日：2015-03-06
申请人： AXCELIS TECH INC
发明人： KO-CHUAN JEN CAUSON , FARLEY MARVIN
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/302 , H01J2237/047 , H01J2237/24514 , H01J2237/30483
摘要： An ion implantation system and method for implanting ions at varying energies, and consequently varying implantation depths 208, 212, across a workpiece 200 is provided. The system comprises an ion source configured to ionize a dopant gas into a plurality of ions and to form an ion beam 202. A mass analyzer is positioned downstream of the ion source and configured to mass analyze the ion beam. A deceleration/acceleration stage is positioned downstream of the mass analyzer. An energy filter may form part of the deceleration/acceleration stage or may positioned downstream of the deceleration/acceleration stage. An end station is provided having a workpiece support associated therewith for positioning the workpiece before the ion beam is also provided. A scanning apparatus is configured to scan 204 one or more of the ion beam and workpiece support with respect to one another. One or more power sources are operably coupled to one or more of the ion source, mass analyzer, deceleration/acceleration stage, and energy filter. A controller is configured to selectively vary one or more voltages respectively supplied to one or more of the deceleration/acceleration stage and the energy filter concurrent with the scanning of the ion beam and/or workpiece support, wherein the selective variation of the one or more voltages is based, at least in part, on a position of the ion beam with respect to the workpiece support.
摘要翻译：提供了一种离子注入系统和用于以变化的能量注入离子的离子注入系统和方法，并因此改变跨越工件200的注入深度208,212。该系统包括被配置为将掺杂剂气体离子化成多个离子并形成离子束202的离子源。质量分析器位于离子源的下游并且被配置为质量分析离子束。减速/加速阶段位于质量分析仪的下游。能量过滤器可以形成减速/加速阶段的一部分，或者可以位于减速/加速阶段的下游。设置终端站，其具有与其相关联的工件支撑件，用于在还提供离子束之前定位工件。扫描装置被配置为相对于彼此扫描204个离子束和工件支撑件中的一个或多个。一个或多个电源可操作地耦合到离子源，质量分析器，减速/加速阶段和能量过滤器中的一个或多个。控制器被配置为选择性地改变与扫描离子束和/或工件支撑件同时提供给减速/加速阶段和能量过滤器中的一个或多个的一个或多个电压，其中一个或多个电压至少部分地基于离子束相对于工件支撑件的位置。

8. 发明申请

WO2014192361A1 荷電粒子線装置、試料観察方法审中-公开
标题翻译：充电粒子装置和样本观测方法
公开(公告)号：WO2014192361A1
公开(公告)日：2014-12-04
申请号：PCT/JP2014/056392
申请日：2014-03-12
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：大南　祐介 , 坂詰　卓 , 伊東　祐博
IPC分类号： H01J37/244 , G01N23/04 , G01N23/225 , H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/26 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/22 , G01N23/046 , G01N2223/3307 , G01N2223/418 , H01J37/10 , H01J37/20 , H01J37/222 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J2237/047 , H01J2237/10 , H01J2237/221 , H01J2237/226 , H01J2237/2443 , H01J2237/2445 , H01J2237/24578 , H01J2237/2611 , H01J2237/2802
摘要：　本発明は、透過型電子顕微鏡において、一次荷電粒子線（９００）と試料との相互関係を決定するベクトルパラメータ（θ，Ｅ，Ｉ）を制御して、複数の異なるベクトルパラメータに対応する試料の透過荷電粒子画像を取得すること、試料を透過した透過電子又は前方散乱電子を検出する検出器（５００）の上に直接または所定の部材を介して試料を配置すること、を特徴とする。　これにより、光学顕微鏡に比して焦点深度が大きい電子顕微鏡を用いた場合にも試料内部の構造物の三次元位置や密度を正確に特定すること、試料の同じ箇所に対する光学顕微鏡観察と電子顕微鏡を用いた三次元内部構造観察とを容易に実施すること、が可能になる。
摘要翻译：本发明是一种透射电子显微镜，其特征在于：控制矢量参数（＆amp; E，I），以确定初级带电粒子束（900）和样本之间的相关性，并获得多个透射电子显微镜，对应于不同矢量参数的样本的带电粒子图像; 并且将检体直接放置，或者将规定部件插入其间，将检测器（500）检测出已经通过试样的正向散射电子或透射电子。结果，即使使用比光学显微镜的焦深大的电子显微镜也可以精确地识别试样内的结构的密度和三维位置; 并且容易地执行使用电子显微镜的三维内部结构观察和相同标本位点的光学显微镜观察。

9. 发明申请

WO2012101704A1 荷電粒子線装置审中-公开
标题翻译：充电颗粒光束装置
公开(公告)号：WO2012101704A1
公开(公告)日：2012-08-02
申请号：PCT/JP2011/006672
申请日：2011-11-30
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 松井啓之 , 小室修 , 西原誠 , 程朝輝
发明人：松井　啓之 , 小室　修 , 西原　誠 , 程　朝輝
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/026 , H01J37/28 , H01J2237/0044 , H01J2237/047
摘要：　荷電粒子線装置に新たに別の装置を搭載することなく、試料の荷電粒子線の照射領域に生じる帯電を高速に除電する方法を提供する。　試料の測定のために荷電粒子線を照射したのち、次の測定を行う前の段階において、リターディング電圧または／及び加速電圧を調整し、リターディング電圧の値と加速電圧の値の差が、測定時よりも小さくすることで除電を行うよう制御する。　荷電粒子線装置に別の装置を搭載することなく、試料の荷電粒子線の照射領域に生じる帯電を除電できるため、スループットを低下させることなく除電が可能となる。
摘要翻译：提供了一种用于高速中和由带电粒子束照射的样品的区域中产生的电荷的方法，而不在带电粒子束装置中提供新的分离装置。在用于测量样品的带电粒子束照射之后并且在进行下一次测量之前的阶段，调节和控制延迟电压和/或加速电压，使得通过延迟电压的值和延迟电压的值之间的差来实现中和加速电压的值小于测量时的值。可以在带电粒子束装置中不设置单独的装置的情况下中和由带电粒子束照射的样品的区域产生的电荷; 因此，中和是可能的，而不降低生产量。

10. 发明申请

WO2011006588A1 VORRICHTUNG ZUR VERMEIDUNG VON PARASITÄREN SCHWINGUNGEN IN ELEKTRONENSTRAHLRÖHREN 审中-公开
标题翻译：设备，用于电子管寄生预防VIBRATIONS
公开(公告)号：WO2011006588A1
公开(公告)日：2011-01-20
申请号：PCT/EP2010/003996
申请日：2010-07-02
申请人： KARLSRUHER INSTITUT FÜR TECHNOLOGIE , THUMM, Manfred , GANTENBEIN, Gerd
发明人： THUMM, Manfred , GANTENBEIN, Gerd
IPC分类号： H01J23/30 , H01J25/00 , H01J37/04
CPC分类号： H01J37/04 , H01J23/30 , H01J25/025 , H01J2237/047
摘要： Vorrichtung zur Vermeidung von parasitären Schwingungen in Elektronenstrahlröhren, umfassend einen Strahltunnel (2) mit axial anliegenden statischen Magnetfeld sowie axial abwechselnd angeordneten Keramik- und Metallringen (12, 13). Die Aufgabe liegt darin, die Elektronenstrahlröhre so zu modifizieren, dass in dieser Störschwingungen unterdrückt oder deren Auswirkungen auf den Elektronenstrahl reduziert werden. Die Aufgabe wird dadurch gelöst, dass die Metallringe (13) jeweils Strukturen (16) am inneren Umfang (14) der Ringdurchbrüche (15) aufweisen.
摘要翻译：装置，用于避免电子管寄生振荡，包括具有轴向相邻的静磁场的光束隧道（2），并交替地沿轴向布置的陶瓷和金属环（12，13）。任务是修改的阴极射线管，以便抑制此寄生振动或它们的影响被减小到电子束。该目的是这样实现的，所述金属环（13）每个都具有在所述环形开口（15）的内周（14）的结构（16）。

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