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    • 1. 发明申请
    • CALIBRATION METHOD AND CALIBRATION DEVICE OBTAINABLE BY SAID METHOD.
    • WO2018122696A1
    • 2018-07-05
    • PCT/IB2017/058261
    • 2017-12-21
    • DWS S.R.L.
    • MURARO, AlbertoFORTUNATO, Roberto
    • G03F7/20G01B21/04B29C64/386B33Y50/02
    • G03F7/70416B29C64/393B33Y50/02G03F7/7005G03F7/70383G03F7/704G03F7/70466G03F7/70475G03F7/70516
    • Method for the calibration of a plurality of light sources (3) belonging to an additive manufacturing machine adapted to manufacture layered three- dimensional objects by selective solidification of corresponding layers of a basic material (1) in the liquid, pasty or powdery state, through irradiation with a light radiation emitted by the plurality of light sources, comprising the operations of: providing a layer of basic material (1); providing light sources (3) to convey, on respective work areas (5) of a surface of the basic material (1) mutually superposed in pairs, respective light beams (4) adapted to selectively modify the basic material (1); defining, for each work area (5), a corresponding reference surface superposed to the work area (5) and a corresponding alignment configuration between them; determining the relative displacements of each work area (5) with respect to the corresponding reference surface adapted to bring the work area (5) to the corresponding alignment configuration. The determination of the relative displacements between each work area (5) and the corresponding reference surface comprises the operations of: providing first image portions (8; 81; 82) on the reference surface; activating the corresponding light source (3) to project on the work surface (2), for each first image portion (8; 81; 82), a corresponding second image portion (9; 91; 92) adjacent to the first image portion (8; 81; 82). Each first image portion (8; 81; 82) and the corresponding second image portion (9; 91; 92) represent, respectively, a first graduated scale (10; 101; 102) and a reading cursor (11), or vice versa, configured to indicate, in combination with each other, a misalignment between the two image portions (8, 9; 81, 91; 82, 92).
    • 3. 发明申请
    • BELICHTEROPTIK UND VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN EINES DREIDIMENSIONALEN OBJEKTS
    • 照明光学装置和产生三维物体的装置
    • WO2017076493A1
    • 2017-05-11
    • PCT/EP2016/001798
    • 2016-10-28
    • EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS
    • PERRET, HansGRONENBORN, Stephan
    • G02B13/22B41J2/45
    • G02B13/22B41J2/451G03F7/2053G03F7/2055G03F7/70416
    • Eine Belichteroptik (20) dient als Aus- und/oder Nachrüstoptik für eine Vorrichtung (1) zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes (2) durch selektives schichtweises Verfestigen von Aufbaumaterial (15) an dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) in der jeweiligen Schicht entsprechenden Stellen mittels Einwirkung elektromagnetischer Strahlung (22). Die Vorrichtung umfasst eine Strahlungsquelle (21), welche in der Lage ist, eine elektromagnetische Strahlung (22) auszusenden, die geeignet ist, beim Auftreffen auf die dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) entsprechenden Stellen einer in einer Arbeitsfläche (7) der Vorrichtung (1) aufgebrachten Schicht des Aufbaumaterials (15) die Verfestigung des Aufbaumaterials (15) an diesen Stellen zu bewirken. Die Belichteroptik (20) umfasst zumindest ein erstes objektseitiges Linsensystem (23) mit einer ersten Brennweite f 1 und ein zweites bildseitiges Linsensystem (24) mit einer zweiten Brennweite f 2 , welche in dem Strahlengang der von der Strahlungsquelle (21) ausgesandten Strahlung (22) anordbar sind. Die Brennebene des ersten Linsensystems (23) und die Brennebene des zweiten Linsensystems (24) fallen in einer Ebene zwischen den beiden Linsensystemen zusammen. Die Brennweite f 1 des ersten Linsensystems (23) ist gleich groß oder größer als die Brennweite f 2 des zweiten Linsensystems (24). Die Belichteroptik (20) ist so ausgebildet und anordbar, dass die elektromagnetische Strahlung (22) im Wesentlichen senkrecht auf die Arbeitsfläche (7) auftrifft.
    • 甲Belichteroptik(20)用作训练和/或改装导航用途stoptik˚F导航用途R A装置(1)用于制造三维物体(2)由建筑物材料(15)上的选择性逐层固化 通过电磁辐射(22)的作用在各层中产生待制造物体(2)的对应点的横截面。 该装置包括一个辐射源(21),其能够发射电磁辐射(22),这是合适的,在撞击在物体的横截面的(2)对应的地方之一在Arbeitsfl BEAR表面将被制造(7) 设备(1)施加建筑材料(15)的层以引起建筑材料(15)在这些位置处的凝固。 所述Belichteroptik(20)包括至少具有第一焦距f的第一物体侧的透镜系统(23)<子> 1 以及具有第二焦距f <子> 2 ,第二图像侧透镜系统(24),其 在辐射源(21)的光束路径中可以布置发射的辐射(22)。 第一透镜系统(23)的焦平面和第二透镜系统(24)的焦平面在两个透镜系统之间的平面中重合。 第一透镜系统(23)的焦距f 1具有相同的尺寸。 或大于第二透镜系统(24)的焦距f 2。 曝光光学器件(20)被设计和布置成使得电磁辐射(22)基本上垂直地照射在工作表面(7)上。

    • 5. 发明申请
    • STEREOLlTHOGRAPHY MACHINE WITH IMPROVED OPTICAL UNIT
    • 具有改进的光学单元的立体成像机
    • WO2016146185A1
    • 2016-09-22
    • PCT/EP2015/055679
    • 2015-03-18
    • COSTABEBER, Ettore Maurizio
    • COSTABEBER, Ettore Maurizio
    • B29C67/00
    • B29C64/393B29C64/135B29C64/20B29C64/268B29K2105/0002B33Y30/00B33Y50/02G02B26/08G02B26/0833G02B26/101G03F7/70416G05B19/4099G05B2219/49023
    • The invention relates to a Stereolithography machine (1) comprising: • a container (2) for a fluid substance (15) suited to be solidified through exposure to predefined radiation (3a); • a laser source (3) apt to emit a beam of said predefined radiation (3a); • a vector scanning optical unit (4) configured to perform a vector scanning of a reference surface (5) arranged inside said container (2) according to a desired vector data image by means of said predefined radiation; • a memory to store said vector data image representative of an image to be scanned on said reference surface; • a logic control unit (6) configured for controlling said vector scanning optical unit (4) and/or said laser source (3) in such a way as to expose a predefined portion of said reference surface (5) to said radiation (3a) according to said vector data image; wherein said vector scanning optical unit (4) comprises a first and a second micro- opto-electromechanical systems (MOEMS) (7, 8) arranged in series one after the other with respect to a travelling path of said predefined radiation, each MOEMS system comprising: • a mirror (9) having a diameter comprised between about 2 mm and about 8 mm associated with a supporting structure (10) through articulation means (11) configured so as to define for said mirror (9) a rotation axis (X1, X2); • an actuator (12) suited to move said mirror (9) around said rotation axis (X1, X2) in a quasi-static manner at an angular speed so that a corresponding marking speed of said laser beam on said reference surface (5) is comprised between about 0.5 m/s and about 3 m/s when said laser source (3) is emitting said predetermined radiation (3a) during said vector scanning; and wherein • the rotation axis (X1) of the mirror (9) of the first MOEMS system (7) is incident to the rotation axis (X2) of the mirror (9) of the second MOEMS system (8).
    • 本发明涉及一种立体光刻机(1),包括:•用于通过暴露于预定辐射(3a)而被固化的流体物质的容器(2); •适于发射所述预定辐射(3a)的光束的激光源(3); •矢量扫描光学单元(4),被配置为通过所述预定辐射根据期望的矢量数据图像执行布置在所述容器(2)内部的参考表面(5)的矢量扫描; •存储器,用于存储表示要在所述参考表面上扫描的图像的所述矢量数据图像; •逻辑控制单元(6),被配置为以使所述参考表面(5)的预定部分暴露于所述辐射(3a)的方式控制所述矢量扫描光学单元(4)和/或所述激光源(3) )根据所述矢量数据图像; 其中所述矢量扫描光学单元(4)包括相对于所述预定辐射的行进路径一个接一个地串联布置的第一和第二微光机电系统(MOEMS)(7,8),每个MOEMS系统 包括:•反射镜(9),其具有通过铰接装置(11)与支撑结构(10)相关联的约2mm和约8mm之间的直径,所述铰接装置构造成为所述反射镜(9)限定旋转轴线(X1 ,X2); •致动器(12),适于以角度速度以准静态方式围绕所述旋转轴线(X1,X2)移动所述反射镜(9),使得所述激光束在所述参考表面(5)上的相应标记速度, 当在所述矢量扫描期间所述激光源(3)发射所述预定辐射(3a)时,所述光束包含约0.5m / s至约3m / s; 并且其中•所述第一MOEMS系统(7)的所述反射镜(9)的旋转轴线(X1)入射到所述第二MOEMS系统(8)的所述反射镜(9)的旋转轴线(X2)。
    • 8. 发明申请
    • 表面凹凸の作製方法
    • 制备表面结构和形状的方法
    • WO2007040138A1
    • 2007-04-12
    • PCT/JP2006/319301
    • 2006-09-28
    • 株式会社きもと餌取 英樹
    • 餌取 英樹
    • G03F7/20G02B5/02
    • G03F7/201B82Y10/00G02B3/0012G02B3/0031G02B5/02G03F1/50G03F7/0005G03F7/7035G03F7/70416
    •  フォトマスクを用い、容易且つ高精度に所望の凹凸形状を形成することが可能な表面凹凸作製方法を提供する。  感光性樹脂組成物からなる感光膜の一方の側に、光透過部と光不透過部とを有するマスク部材を感光膜に対し間隔を持って配置し、マスク部材側に配置された光源から光を照射し、マスク部材の光透過部を通して感光膜を露光し、感光膜の露光部或いは未露光部を現像により除去し、感光膜に露光部或いは未露光部の形状で決まる凹凸を作製する。露光の際に、光源とマスク部材の遮光面との距離L、光源の大きさD、マスク部材と感光膜との光学距離Tなどの露光条件を制御し、露光部或いは未露光部の形状を制御する。
    • 本发明提供一种制备能够使用光掩模以高精度容易地形成所需凹凸形状的表面凹凸的方法。 具有光透射部分和不透光部分的掩模构件设置在由感光性树脂组合物形成的感光膜的一侧,同时在感光膜和掩模构件之间提供空间。 从设置在掩模构件侧的光源施加光,通过掩模构件中的透光部露出感光膜。 通过显影除去感光膜中的曝光部分或未曝光部分,以制备由感光膜中的曝光部分或未曝光部分的形状确定的凹凸。 在曝光中,曝光条件例如光源与掩模部件的遮光面之间的距离(L),光源的尺寸(D)以及掩模部件和光罩之间的光学距离(T) 调节感光膜以调节曝光部分或未曝光部分的形状。