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    • 6. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM AUTOMATISCHEN KALIBRIEREN EINER VORRICHTUNG ZUM GENERATIVEN HERSTELLEN EINES DREIDIMENSIONALEN OBJEKTS
    • 方法来自动校准器具,用于产生三维生成点
    • WO2014180971A1
    • 2014-11-13
    • PCT/EP2014/059502
    • 2014-05-08
    • EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS
    • PERRET, HansPHILIPPI, Jochen
    • B29C67/00G05B19/401B22F3/105
    • B29C67/0088B22F3/1055B22F2003/1057B29C64/153B29C64/386B29C67/0077B29K2105/251B33Y10/00B33Y30/00B33Y50/02G05B19/4015G05B2219/37558Y02P10/295
    • Ein Verfahren zum automatischen Kalibrieren einer Vorrichtung zum generativen Herstellen eines dreidimensionalen Objekts (8) enthält die folgenden Schritte : Bestrahlen einer aufgetragenen Schicht eines Materials (3) oder eines Targets durch einen ersten Scanner (14), um ein erstes Testmuster (33) in dem Material (3) oder dem Target zu erzeugen; Bestrahlen der aufgetragenen Schicht des Materials (3) oder des Targets durch einen zweiten Scanner (15), um ein zweites Testmuster (34) in dem Material (3) oder dem Target zu erzeugen; Erfassen des ersten und des zweiten Testmusters (33, 34) durch eine Kamera (24) und Zuordnen des ersten und des zweiten Testmusters (33, 34) zu dem ersten bzw. zweiten Scanner (14, 15); Vergleichen des ersten und/oder des zweiten Testmusters (33, 34) mit einem Referenzmuster und/oder oder Vergleichen des ersten und des zweiten Testmusters (33, 34) miteinander; Bestimmen einer ersten Abweichung des ersten Testmusters (33) von dem Referenzmuster und/oder einer zweiten Abweichung des zweiten Testmusters (34) von dem Referenzmuster und/oder einer relativen Abweichung zwischen dem ersten Testmuster (33) und dem zweiten Testmuster (34); und Kalibrieren des ersten und/oder des zweiten Scanners (14, 15) derart, dass die erste und/oder die zweite Abweichung vom Referenzmuster und/oder die relative Abweichung zwischen dem ersten Testmuster (33) und dem zweiten Testmuster (34) einen Sollwert unterschreitet.
    • 一种用于自动校准用于三维物体(8)的生成制造装置,包括如下步骤:由第一扫描仪(14)照射的材料(3)或目标的包覆层,以在所述第一测试图案(33) 材料(3)或以产生目标; 照射的材料的涂覆层(3)或由第二扫描器的目标(15),以产生在材料的第二测试图案(34)(3)或所述目标; 由照相机(24)检测所述第一和第二测试图案(33,34)和分配所述第一和第二测试图案(33,34)连接到第一和第二扫描仪(14,15); 第一和/或第二测试图案(33,34)与一参考模式相比较和/或或比较所述第一和第二测试图案(33,34)相互; 确定所述参考图案和/或参考图案和/或之间的相对偏差的第二测试图案(34)的第二偏差的所述第一测试图案(33)的第一偏差所述第一测试图案(33)和所述第二测试图案(34); 和校准所述第一和/或第二扫描仪(14,15),使得从参考图案和/或所述第一测试图案之间以及在相对偏差(33)在第一和/或第二偏差所述第二测试图案(34)所希望的值 下方。
    • 9. 发明申请
    • BELICHTEROPTIK UND VORRICHTUNG ZUM HERSTELLEN EINES DREIDIMENSIONALEN OBJEKTS
    • 照明光学装置和产生三维物体的装置
    • WO2017076493A1
    • 2017-05-11
    • PCT/EP2016/001798
    • 2016-10-28
    • EOS GMBH ELECTRO OPTICAL SYSTEMS
    • PERRET, HansGRONENBORN, Stephan
    • G02B13/22B41J2/45
    • G02B13/22B41J2/451G03F7/2053G03F7/2055G03F7/70416
    • Eine Belichteroptik (20) dient als Aus- und/oder Nachrüstoptik für eine Vorrichtung (1) zum Herstellen eines dreidimensionalen Objektes (2) durch selektives schichtweises Verfestigen von Aufbaumaterial (15) an dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) in der jeweiligen Schicht entsprechenden Stellen mittels Einwirkung elektromagnetischer Strahlung (22). Die Vorrichtung umfasst eine Strahlungsquelle (21), welche in der Lage ist, eine elektromagnetische Strahlung (22) auszusenden, die geeignet ist, beim Auftreffen auf die dem Querschnitt des herzustellenden Objektes (2) entsprechenden Stellen einer in einer Arbeitsfläche (7) der Vorrichtung (1) aufgebrachten Schicht des Aufbaumaterials (15) die Verfestigung des Aufbaumaterials (15) an diesen Stellen zu bewirken. Die Belichteroptik (20) umfasst zumindest ein erstes objektseitiges Linsensystem (23) mit einer ersten Brennweite f 1 und ein zweites bildseitiges Linsensystem (24) mit einer zweiten Brennweite f 2 , welche in dem Strahlengang der von der Strahlungsquelle (21) ausgesandten Strahlung (22) anordbar sind. Die Brennebene des ersten Linsensystems (23) und die Brennebene des zweiten Linsensystems (24) fallen in einer Ebene zwischen den beiden Linsensystemen zusammen. Die Brennweite f 1 des ersten Linsensystems (23) ist gleich groß oder größer als die Brennweite f 2 des zweiten Linsensystems (24). Die Belichteroptik (20) ist so ausgebildet und anordbar, dass die elektromagnetische Strahlung (22) im Wesentlichen senkrecht auf die Arbeitsfläche (7) auftrifft.
    • 甲Belichteroptik(20)用作训练和/或改装导航用途stoptik˚F导航用途R A装置(1)用于制造三维物体(2)由建筑物材料(15)上的选择性逐层固化 通过电磁辐射(22)的作用在各层中产生待制造物体(2)的对应点的横截面。 该装置包括一个辐射源(21),其能够发射电磁辐射(22),这是合适的,在撞击在物体的横截面的(2)对应的地方之一在Arbeitsfl BEAR表面将被制造(7) 设备(1)施加建筑材料(15)的层以引起建筑材料(15)在这些位置处的凝固。 所述Belichteroptik(20)包括至少具有第一焦距f的第一物体侧的透镜系统(23)<子> 1 以及具有第二焦距f <子> 2 ,第二图像侧透镜系统(24),其 在辐射源(21)的光束路径中可以布置发射的辐射(22)。 第一透镜系统(23)的焦平面和第二透镜系统(24)的焦平面在两个透镜系统之间的平面中重合。 第一透镜系统(23)的焦距f 1具有相同的尺寸。 或大于第二透镜系统(24)的焦距f 2。 曝光光学器件(20)被设计和布置成使得电磁辐射(22)基本上垂直地照射在工作表面(7)上。