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1. 发明申请

WO2015168308A1 HIGH-RESOLUTION PATTERNING OF GRAPHENE BY SCREEN AND GRAVURE PRINTING FOR HIGHLY FLEXIBLE PRINTED ELECTRONICS 审中-公开
标题翻译：用于高灵敏印刷电子屏幕的高分辨率图形和印刷印刷
公开(公告)号：WO2015168308A1
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：PCT/US2015/028325
申请日：2015-04-29
申请人： NORTHWESTERN UNIVERSITY
发明人： HERSAM, Mark, C. , SECOR, Ethan, B. , LIM, Sooman , FRISBIE, C., Daniel , FRANCIS, Lorraine, F. , HYUN, Woo, Jin
IPC分类号： C09D11/00
CPC分类号： C09D11/52 , C09D11/033 , C09D11/037 , G03F7/12
摘要： Graphene ink compositions as can be utilized with gravure and screen printing processes, to provide flexible electronic components with high-resolution printed graphene circuitry.
摘要翻译：石墨烯油墨组合物可用于凹版和丝网印刷工艺，以提供具有高分辨率印刷石墨烯电路的柔性电子部件。

2. 发明申请

WO2015126580A1 METHOD FOR CREATING SURFACE TEXTURE ON FLEXOGRAPHIC PRINTING ELEMENTS 审中-公开
标题翻译：用于在柔性印刷元件上形成表面纹理的方法
公开(公告)号：WO2015126580A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/US2015/013179
申请日：2015-01-28
申请人： MACDERMID PRINTING SOLUTIONS, LLC
发明人： GOTSICK, Timothy , BRYANT, Laurie, A. , RECCHIA, David, A.
IPC分类号： G03F7/26
CPC分类号： G03F7/12 , B05C1/0834 , B05C9/12 , G03F7/168 , G03F7/202 , G03F7/2022 , G03F7/2055
摘要： A method of making a relief image printing element from a photosensitive printing blank is described. The photosensitive printing blank comprises a laser ablatable mask layer disposed on at least one photocurable layer and the laser ablatable mask layer is selectively laser ablated to create an in situ mask and uncover portions of the at least one photocurable layer.
摘要翻译：描述了从感光印刷坯料制造凸版图像打印元件的方法。感光印刷坯料包括设置在至少一个光固化层上的激光可烧蚀掩模层，并且激光烧蚀掩模层被选择性地激光烧蚀以产生原位掩模并露出至少一个光固化层的部分。

3. 发明申请

WO2015075231A1 SCHABLONE FÜR ÄTZTECHNISCHE OBERFLÄCHENSTRUKTURIERUNGEN 审中-公开
标题翻译：模板以蚀刻技术的表面结构
公开(公告)号：WO2015075231A1
公开(公告)日：2015-05-28
申请号：PCT/EP2014/075404
申请日：2014-11-24
申请人： AKK GMBH
发明人： KESPER, Peter
IPC分类号： B05C9/06 , G03F7/00 , G03F7/12 , C23F1/00 , B41M7/00 , B44C1/00 , B41M1/20 , B44C1/22 , B29C33/38 , B29C45/37
CPC分类号： B41F15/34 , B29C45/372 , B41F19/00 , B41F23/00 , B41F31/00 , B41M7/00 , B41M7/0081 , B41M2205/00 , C23F1/00 , G03F7/12 , G03F7/24
摘要： Die Erfindung betrifft eine Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, ein Verfahren zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, eine Druckmaschine zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen sowie ein Verfahren zur ätztechnischen Oberflächenstrukturierung. Eine bekannte Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen weist eine ätzresistente Schablonenschicht [3] auf, wobei die Schablonenschicht (3) auf die zu strukturierende Oberfläche (2) übertragbar ist und wobei die Schablonenschicht [3] nach einer ätztechnischen Behandlung der zu strukturierenden Oberfläche (2) zumindest teilweise entfernbar ist, und wird erfindungsgemäß dadurch ausgestaltet und weitergebildet, dass die Schablonenschicht (3] mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) aufweist und dass mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) unabhängig voneinander von zu strukturierenden Oberfläche entfernbar sind.
摘要翻译：本发明涉及一种用于蚀刻技术表面结构，制造用于蚀刻技术的表面结构，在印刷机制造的掩模的蚀刻技术表面结构和表面结构化ätztechnischen的方法的掩模的方法的模具。用于蚀刻的技术的表面结构的已知模版具有耐蚀刻模板层[3]，其中所述模板层（3）的表面上被结构化（2）是转让，其中所述模板层[3]表面的ätztechnischen处理后的被至少结构（2）被部分地去除，并且被本发明设计的特征和开发，使得模板层（3]的至少两个部分（4,5），并且其中至少两个部分（4,5）从表面独立地移除，以构成。

4. 发明申请

WO2011146912A8 STENCILS FOR HIGH-THROUGHPUT MICRON-SCALE ETCHING OF SUBSTRATES AND PROCESSES OF MAKING AND USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：用于高通量微米尺寸蚀刻的衬底及其制造和使用方法
公开(公告)号：WO2011146912A8
公开(公告)日：2012-12-20
申请号：PCT/US2011037478
申请日：2011-05-21
申请人： NANO TERRA INC , MERCK PATENT GMBH , STERN ERIC , BLANCHET GRACIELA BEATRIZ , HUNTING LINDSAY , MAYERS BRIAN T , MCLELLAN JOSEPH M , REUST PATRICK , KUEGLER RALF , GILLIES JENNIFER
发明人： STERN ERIC , BLANCHET GRACIELA BEATRIZ , HUNTING LINDSAY , MAYERS BRIAN T , MCLELLAN JOSEPH M , REUST PATRICK , KUEGLER RALF , GILLIES JENNIFER
IPC分类号： B05D1/32
CPC分类号： B44C1/227 , B41C1/148 , B41N1/24 , G03F7/027 , G03F7/12 , G03F7/16
摘要： The present invention is directed to stencils for high-throughput, high-resolution etching of substrates and processes of making and using the same.
摘要翻译：本发明涉及用于衬底的高通量，高分辨率刻蚀的模板以及制造和使用该模板的工艺。

5. 发明申请

WO2009127272A1 MASK SUPPORT, MASK ASSEMBLY, AND ASSEMBLY COMPRISING A MASK SUPPORT AND A MASK 审中-公开
标题翻译： MASK支持，MASK大会和组装包括一个MASK支持和一个MASK
公开(公告)号：WO2009127272A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/EP2008/066516
申请日：2008-12-01
申请人： APPLIED MATERIALS INC. - A CORPORATION OF THE STATE OF DELAWARE , LANDGRAF, Heike , SCHÜSSLER, Uwe , BANGERT, Stefan
发明人： LANDGRAF, Heike , SCHÜSSLER, Uwe , BANGERT, Stefan
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C14/042 , B05C21/005 , C23C14/04 , G03F7/12 , H05B33/10 , Y10T29/49826 , Y10T29/49863
摘要： A mask support 10 comprises a frame element 20 and an elastic element 30. The elastic element 30 is fixed to the frame element 20. The elastic element 30 is a component integrally formed of a flexible material. It comprises a lever or arm portion 37 having a first engagement protrusion 38 extending in an angle of approximately 90° from the free end of the arm portion 37. A mask assembly 40 comprises a laminar mask 41, e.g. manufactured from a thin metal foil, and connecting elements 42. The connecting elements 42 include an engagement portion 43 for engagement with the engagement protrusion 38 of the elastic element 30. The mask 41 may be attached/stretched to the mask support 10 as well as to detached from the mask support 10 comfortably.
摘要翻译：面罩支撑件10包括框架元件20和弹性元件30.弹性元件30固定到框架元件20.弹性元件30是由柔性材料整体形成的部件。它包括杠杆或臂部分37，其具有从臂部分37的自由端以大约90°的角度延伸的第一接合突出部38。由薄金属箔制成，以及连接元件42.连接元件42包括用于与弹性元件30的接合突起38接合的接合部分43.掩模41可以附着/拉伸到掩模支撑件10以及以便从面罩支撑件10舒适地脱离。

6. 发明申请

WO2009038992A1 ELECTROFORMED STENCILS FOR SOLAR CELL FRONT SIDE METALLIZATION 审中-公开
标题翻译：用于太阳能电池正面金属化的电化玻璃
公开(公告)号：WO2009038992A1
公开(公告)日：2009-03-26
申请号：PCT/US2008/075622
申请日：2008-09-08
申请人： FRY'S METALS, INC. , MEEUS, Thomas , KORSSE, Hans , BHATKAL, Ravindra, M.
发明人： MEEUS, Thomas , KORSSE, Hans , BHATKAL, Ravindra, M.
IPC分类号： G03F7/12 , B41C1/14 , H01L31/0224
CPC分类号： G03F7/2014 , B41M3/006 , G03F7/0015 , G03F7/12 , H01L31/022425 , H05K3/1225 , Y02E10/50
摘要： A method for providing metallization upon a semiconductor substrate utilizing a stencil having at least one aperture extending from the contact side to the fill side, the contact side of the stencil being substantially flat and forming a sharp edge with a wall of the at least one aperture, the at least one aperture being tapered such that an area of a cross-section of the at least one aperture at the fill side is larger than an area of the cross-section of the at least one aperture at the contact side. A method of forming a stencil for depositing metallization lines on a semiconductor substrate is also disclosed.
摘要翻译：一种用于在半导体衬底上提供金属化的方法，其利用具有从接触侧延伸到填充侧的至少一个孔的模版，所述模板的接触侧基本上是平的，并且形成具有至少一个孔的壁的锋利边缘所述至少一个孔是锥形的，使得在所述填充侧的所述至少一个孔的横截面的面积大于所述至少一个孔在所述接触侧的横截面的面积。还公开了一种形成用于在半导体衬底上沉积金属化线的模板的方法。

7. 发明申请

WO2009014546A2 PARYLENE-C STENCILS 审中-公开
公开(公告)号：WO2009014546A2
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/US2007/081553
申请日：2007-10-16
申请人： THE BRIGHAM AND WOMEN'S HOSPITAL, INC. , KHADEMHOSSEINI, Ali , RAJALINGAM, Bimalraj
发明人： KHADEMHOSSEINI, Ali , RAJALINGAM, Bimalraj
IPC分类号： B32B33/00 , B05D1/32
CPC分类号： C12N5/0068 , B41M1/12 , C12N5/0606 , C12N2502/13 , C12N2502/28 , C12N2533/52 , C12N2533/54 , C12N2533/70 , C12N2535/10 , G03F7/12 , Y10T428/1476
摘要： A reuseable microfabrication stencil is described that can be reversibly sealed on various substrates to pattern biomolecules and biomaterials such as proteins and cells. The stencil may be used for the generation of both static and dynamic co-cultures, and cell aggregates. A multilayer stencil is described that can be used in biological patterning and used to create static and dynamic co-cultures and cell aggregates. Processes for producing and using the microfabrication stencils are also described.
摘要翻译：描述了一种可重复使用的微制造模板，其可以可逆地密封在各种基材上以图案化生物分子和生物材料，例如蛋白质和细胞。模板可用于产生静态和动态共培养物和细胞聚集体。描述了可用于生物图案化并用于创建静态和动态共培养物和细胞聚集体的多层模板。还介绍了生产和使用微制造模板的流程。

8. 发明申请

WO2008022485A1 BELICHTUNGSVORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG VON SIEBDRUCKSCHABLONEN 审中-公开
标题翻译：曝光装置用于生产屏幕模板
公开(公告)号：WO2008022485A1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：PCT/CH2007/000419
申请日：2007-08-23
申请人： XPOSE HOLDING AG , BERNER, Peter
发明人： BERNER, Peter
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/12
CPC分类号： G03F7/12 , G03F7/2055 , G03F7/24
摘要： Eine Belichtungsvorrichtung zur Herstellung von Siebdruckschablonen (5) hat eine Halterung (4) für die Siebdruckschablone (5) sowie ein Belichtungssystem, das mindestens eine, einen Lichtstrahl erzeugende Lichtquelle und eine Optik in einem Belichtungskopf (9) aufweist. Ferner ist eine digitale Signale liefernde Signalquelle (Computer) vorhanden, welche mit dem Belichtungssystem in einer Weise in Verbindung steht, dass entsprechend den Signalen die ganze Siebdruckschablone (5) belichtbar ist. Dabei ist der Belichtungskopf (9) relativ zur Siebdruckschablone (5) bewegbar. Die Lichtquelle besteht vorzugsweise aus einer Anzahl n gleichartiger, im Wellenlängenbereich von 300 - 450 nm arbeitender Laserdioden, wobei jeweils Gruppen von Laserdioden in einem Modul (12) angeordnet sind. An der Belichtungseinheit sind in der Regel mehrere derartiger Module (12) vorhanden. Die Laserdioden sind von den Signalen der Signalquelle ansteuerbar. Die Lichtsignale der Laserdioden werden über eine gleiche Anzahl n lichtleitender Fasern zu einer Rasterplatte im Belichtungskopf (9) geführt. Der Lichtausgang der Rasterplatte wird zu einer im Wellenlängenbereich den Laserdioden angepassten Fokussieroptik (10) im Belichtungskopf (9) geleitet.
摘要翻译：用于制造丝网印刷模板（5）的曝光装置具有保持器（4），用于丝网印刷模版（5）和包含至少一个，光束产生光源和曝光头的光学系统的曝光系统（9）。此外，数字信号存在供给源（计算机），它与在一个方式的曝光系统中的连接，根据这些信号的所有的丝网印刷模版（5）能够暴露连通。这里，曝光头（9）相对于所述丝网印刷模版（5）是可移动的。光源优选由相同数目为n的，在波长范围300-450纳米工作的激光二极管，每个组的模块（12）中的激光二极管的布置。几个这样的模块（12）通常在曝光单元上可用。激光二极管由信号源的信号控制。激光二极管的光信号被引导越过导光纤维的相等数目n在曝光头（9）的栅格板。屏幕板的光输出被传导到在曝光头（9）适于将所述波长范围内的激光二极管的聚焦光学器件（10）。

9. 发明申请

WO2003004719A1 MASKEN- UND SUBSTRATHALTERANORDNUNG 审中-公开
标题翻译： MASK和基质夹持装置
公开(公告)号：WO2003004719A1
公开(公告)日：2003-01-16
申请号：PCT/EP2002/006776
申请日：2002-06-19
申请人： AIXTRON AG , SCHWAMBERA, Markus , FRANKEN, Walter , KITTEL, Florenz
发明人： SCHWAMBERA, Markus , FRANKEN, Walter , KITTEL, Florenz
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： H01L21/682 , C23C14/042 , G03F1/20 , G03F7/12
摘要： Die Erfindung betrifft einen Halter für ein in der Prozesskammer einer Beschichtungsanlage anzuordnendes Substrat (1) und zugehörigen Halter für eine über dem Substrat in Kontakt oder geringem Abstand anzuordnende Maske (2) zur strukturierten Beschichtung des Substrates (1), wobei der Maskenhalter (3) zum Substathalter (4) eine definierte Lage einnimmt. Es ist wesentlich, dass der Substrathalter (4) als Rahmen gestaltet ist mit an den Rändern (1') des Substrates angreifenden Lagefixierungsorganen (5, 6), dass der Maskenhalter (3) ebenfalls als Rahmen gestaltet ist, welcher eine Fläche umgibt, die den Substrathalter (4) überfängt, und dass an den beiden Rahmen (3, 4) Verbindungsmittel (7, 8) vorgesehen sind zur lagefixierten Zuordnung der beiden Rahmen (3, 4) zueinander.
摘要翻译：本发明涉及一种保持器用于将被布置在一个涂覆设备衬底（1）的处理腔室和用于对被布置在接触的基材与或小间距掩模超过相关联的保持件（2）的基材（1）的结构化涂层，其中所述掩模保持器（3）对于Substathalter（4）占据的限定位置。至关重要的是，在基板保持器（4）被设计为具有在基板位置固定装置的边缘（1“）接合的框架（5,6），所述掩模保持器（3）也被周围的区域设计成一帧，其衬底支架（4）上延伸，并且，在所述两帧（3,4）的连接装置（7,8）被提供用于两帧的位置固定的分配（3,4）彼此连接。

10. 发明申请

WO0052528A3 MONOGRAIN MEMBRANE MASK 审中-公开
标题翻译： MONO粮食REED MASK
公开(公告)号：WO0052528A3
公开(公告)日：2001-01-11
申请号：PCT/DE0000708
申请日：2000-03-01
申请人： FORSCHUNGSZENTRUM JUELICH GMBH , MEISSNER DIETER
发明人： MEISSNER DIETER
IPC分类号： G03F1/00 , G03F1/20 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/12 , G03F1/14 , G03F1/08 , G03F1/16
CPC分类号： G03F1/20 , G03F1/50 , G03F1/54 , G03F7/12
摘要： The invention relates to a mask, a method for the production of said mask, the mask itself and advantageous applications of the inventive mask. The method for the production of the mask comprises the following steps: using a monograin membrane consisting of light-sensitive particles; wherein said light-sensitive particles behave in such a way that they are resistant to light in a first state and not resistant to light in a second state; passing the monograin membrane from the light resistant to the non-light resistant state; exposing the membrane in accordance with a given structure; in accordance with said exposure, the particles fall off from the monograin membrane or dissolve; subsequently passing the membrane from the light-sensitive to the light insensitive state. The mask consequently consists of a monograin membrane with defined structures. Said mask can be used, for instance, in a silk screen or lithographic printing process or in the production of electrodes. One advantage of said process is that it is not necessary to always use photosensitive resist.
摘要翻译：本发明涉及的掩模，用于制造掩模，这种掩模以及有利用途的方法。用于制造掩模的方法包括以下步骤：一个单粒膜被使用，其由光敏颗粒，所述光敏颗粒是那些不表现抗性在第一状态下耐光以及在第二状态下的光; 单粒子膜由在耐非光条件耐光制成; 然后将膜按照预定图案进行曝光; 对应于曝光，颗粒掉出单粒膜或溶解的; 然后将膜从感光状态带到光不敏感状态。因此，该掩模由具有定义的结构的单粒子膜的。它用于例如丝网或用于光刻工艺，或用于生产电极。在此过程中必须是有利的感光光致抗蚀剂的任何情况下不被使用。

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