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1. 发明申请

WO2019047856A1 基底支持组件、成膜设备和方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019047856A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/CN2018/104196
申请日：2018-09-05
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人：孙朴 , 吴文泽 , 刘德健 , 曹飞
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/50
摘要：一种基底支持组件(10)，包括配置为在成膜工艺中支持基底(5)的支持板(1)，支持板(1)具有配置为朝向基底(5)的工作面，其中，支持板(1)的工作面上设置有间隔的多个开口(11)，多个开口(11)至少部分或全部中设有活动块(2)和驱动器(3)驱动器(3)配置为驱动活动块(2)相对于工作面升降，以使活动块(2)的顶面至少能在与工作面齐平的位置和凸出于工作面的位置间运动。还公开了一种成膜设备和成膜方法。

2. 发明申请

WO2019033535A1 一种蒸镀机台装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019033535A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：PCT/CN2017/106788
申请日：2017-10-19
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：蒋谦 , 陈永胜
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/04 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/56
摘要：一种蒸镀机台装置，其包括至少两个基板清洗机单元（10）、常压腔体（20）以及真空腔集合体；常压腔体（20）包括常压金属掩膜板补偿测试腔（205）和常压金属掩膜板装载腔（206），其中，常压金属掩膜板补偿测试腔（205）内设置有金属掩膜板与基板进行对位的对位系统，常压金属掩膜板补偿测试腔（205）的腔体下部设置有光源；常压腔体（20）设置于基板清洗机单元（10）与真空腔集合体之间。

3. 发明申请

WO2019000600A1 掩膜板审中-公开
公开(公告)号：WO2019000600A1
公开(公告)日：2019-01-03
申请号：PCT/CN2017/097225
申请日：2017-08-11
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：裴龙 , 宋春来
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/12
CPC分类号： G03F1/42 , C23C14/042 , G02F1/13 , H01L27/32 , H01L51/0011
摘要：一种掩膜板（1），包括外框（10）及多个子掩膜板（20），外框（10）为中空结构，包括第一边（101）、第二边（102）、第三边（103）及第四边（104），第一边（101）与第二边（102）平行且间隔设置，第三边（103）及第四边（104）平行且间隔设置，第三边（103）及第四边（104）沿第一方向（D1）延伸，第一边（101）及第二边（102）沿第二方向（D2）延伸，第三边（103）相对的两端分别连接第一边（101）的一端以及第二边（102）的一端，第四边（104）相对的两端分别连接第一边（101）远离第三边（103）的一端以及第二边（102）远离第三边（103）的一端，子掩膜板（20）用于选择性的遮挡制备像素时的发光材料，子掩膜板（20）沿第一方向（D1）延伸且多个子掩膜板（20）沿第二方向（D2）排列，子掩膜板（20）的相对的两端分别设置在第一边（101）及第二边（102）上，子掩膜板（20）可沿第一方向（D1）或第二方向（D2）往复运动。

4. 发明申请

WO2018227961A1 金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018227961A1
公开(公告)日：2018-12-20
申请号：PCT/CN2018/072082
申请日：2018-01-10
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
发明人：吴建鹏 , 丁渭渭 , 杨忠英 , 罗昶
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/042 , H01L51/0011
摘要：一种金属掩膜板（3）的设计方法，包括步骤：根据金属掩膜板（3）在使用时的拉伸力、以及金属掩膜板（3）在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算金属掩膜板（3）在互相垂直的两个方向上的形变量；根据金属掩膜板（3）在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式来补偿金属掩膜板（3）在互相垂直的两个方向上的形变。还公开了一种金属掩膜板（3）的制备方法及一种计算机可读存储介质。

5. 发明申请

WO2018184949A1 METHOD FOR CLEANING A VACUUM CHAMBER, APPARATUS FOR VACUUM PROCESSING OF A SUBSTRATE, AND SYSTEM FOR THE MANUFACTURE OF DEVICES HAVING ORGANIC MATERIALS 审中-公开
公开(公告)号：WO2018184949A1
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：PCT/EP2018/057962
申请日：2018-03-28
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , KELLER, Stefan , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , LEE, Jae Won , ANJIKI, Takashi
发明人： KELLER, Stefan , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , LEE, Jae Won , ANJIKI, Takashi
IPC分类号： C23C14/04 , B08B7/00 , C23C14/12 , C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4405 , B08B9/00 , C23C14/042 , C23C14/12
摘要： The present disclosure provides a method (100) for cleaning a vacuum chamber (210). The method (100) includes reducing a pressure in the vacuum chamber (210) to evaporate at least a part of a solvent contained in the vacuum chamber (210).

6. 发明申请

WO2018148992A1 荫罩组件及荫罩组件的重复使用方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018148992A1
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：PCT/CN2017/075461
申请日：2017-03-02
申请人：武汉华星光电技术有限公司
发明人：曹绪文
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C03C17/002 , C03C2218/151 , C03C2218/34 , C23C14/24 , H01L51/00 , H01L51/0011
摘要：一种荫罩组件及其重复使用方法，荫罩组件包括荫罩膜片（10）和框体（20），框体（20）包括相对设置的外壁（204）和内壁（202）及连接外壁（204）和内壁（202）的贴合面（206），贴合面（206）与荫罩膜片（10）贴合，贴合面（206）包括不共面的焊接区域（2064）与平铺区域（2062），焊接区域（2064）位于平铺区域（2062）与外壁（204）之间，框体（20）通过设置于焊接区域（2064）的焊点（30）固定荫罩膜片（10）的边缘，平铺区域（2062）位于焊接区域（2064）与内壁（202）之间，用于支撑荫罩膜片（10）并保持荫罩膜片（10）为平面。多次更换荫罩膜片（10）后一次性打磨抛光焊接区域（2064）所有的焊点（30），降低了焊点（30）抛光次数，提高了荫罩膜片（10）的平整度。

7. 发明申请

WO2018087029A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR HALTERUNG EINER MASKE IN EINER PLANLAGE 审中-公开
标题翻译：用于在规划中安装掩模的装置和方法
公开(公告)号：WO2018087029A1
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：PCT/EP2017/078299
申请日：2017-11-06
申请人： AIXTRON SE
发明人： GERSDORFF, Markus , LEONTJEVS, Vladimirs
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/54 , C23C14/22 , C23C14/56 , B05C21/00 , H01L51/00
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/228 , C23C14/50 , C23C14/54 , C23C14/56 , H01L51/0011
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Beschichten zumindest eines Substrates durch Einspeisen eines Ausgangsstoffs in einen Prozessraum (2), mit einem Substrathalter (5) zur Aufnahme des zumindest einen Substrates (6) und einer Maske (7), die von einem Maskentransportsystem (8) vor dem Beschichten an die Oberfläche des Substrates (6) bringbar und nach dem Beschichten von der Oberfläche des Substrates (6) entfernbar ist, wobei die Maske (7) zumindest teilweise magnetisch oder magnetisch aktivierbar ist. Um zu vermeiden, dass sich beim Substrat-oder Maskenwechsel Partikel von der Maske lösen, sind magnetisch wirkende Masken-Stabilisierungsmittel (19, 20, 21, 22, 23) vorgese- hen, um die Maske (7) nach ihrer Entfernung von der Oberfläche des Substrates(6) in einer vorgegebenen Flächenerstreckungslage, insbesondere einer Planlage zu stabilisieren, wobei die Magnete (19)an einem Schirmelement (17) an- geordnet sind, welches zwischen die Maske (7) und einem Gaseinlassorgan (9) bringbar ist.
摘要翻译：
本发明通过在处理室（2）注入的原料，有衬底支架（5），用于接收所述至少一个衬底涉及一种用于涂覆至少一个基片（6）和面罩（7）该掩模输送系统（8）的表面与AUML的涂覆之前;在所述基板（6）的车可以带来和表面＆AUML的涂布后;在所述基板（6）的表面是可移动的，其中所述掩模（7）至少部分地或磁性地是可激活的。为了避免在从掩模L＆ouml衬底或掩模交换颗粒;仙，磁性作用去除后提供用于母鸡到面罩（7）掩模稳定装置（19，20，21，22，23）在预定的FL＆AUML基板（6）的表面BEAR表面; chenerstreckungslage，特别是，以稳定的平坦度，其特征在于，屏蔽元件（17）上的磁体（19）是有序的切换，（其是掩模（7）和进气口构件之间 9）可以带来。

8. 发明申请

WO2018086355A1 掩模板及其制作方法、有机发光二极管显示器的制作方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018086355A1
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：PCT/CN2017/089949
申请日：2017-06-26
申请人：京东方科技集团股份有限公司
发明人：张粲 , 陈小川
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/5012 , H01L51/5016 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/56 , H01L2227/323
摘要：一种掩模板，包括掩模板基板(10)以及贯穿掩模板基板(10)的多个开口(101)，其中，掩模板的材料为单晶硅。还公开了一种掩模板的制造方法和一种有机发光二极管显示器的制作方法。

9. 发明申请

WO2018077388A1 MEASUREMENT ASSEMBLY FOR MEASURING A DEPOSITION RATE, EVAPORATION SOURCE, DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD THEREFOR 审中-公开
标题翻译：用于测量沉积速率的测量组件，蒸发源，沉积装置及其方法
公开(公告)号：WO2018077388A1
公开(公告)日：2018-05-03
申请号：PCT/EP2016/075681
申请日：2016-10-25
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , SCHÜSSLER, Uwe , LANDGRAF, Heike , LOPP, Andreas , STAAF, Hans
发明人： DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , SCHÜSSLER, Uwe , LANDGRAF, Heike , LOPP, Andreas , STAAF, Hans
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/54 , G01B7/06
CPC分类号： C23C14/546 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要： A measurement assembly (100) for measuring a deposition rate of an evaporated material is described. The measurement assembly (100) includes: a first oscillation crystal (110) for measuring the deposition rate; a second oscillation crystal (120) for measuring the deposition rate; and a movable shutter (140). The movable shutter (140) is configured for blocking the evaporated material provided from a first measurement outlet (151), the first measurement outlet directed for providing evaporated material to the first oscillation crystal (110). Further, the movable shutter (140) is configured for blocking the evaporated material provided from a second measurement outlet (152), the second measurement outlet directed for providing evaporated material to the second oscillation crystal (120).
摘要翻译：描述用于测量蒸发材料的沉积速率的测量组件（100）。测量组件（100）包括：用于测量沉积速率的第一振荡晶体（110）第二振荡晶体（120），用于测量沉积速率; 和可动快门（140）。可移动遮光器（140）被配置用于阻挡从第一测量出口（151）提供的蒸发材料，第一测量出口指向用于将蒸发材料提供给第一振荡晶体（110）。此外，可动快门（140）被配置用于阻挡从第二测量出口（152）提供的蒸发材料，第二测量出口指向用于向第二振荡晶体（120）提供蒸发材料。

10. 发明申请

WO2018000977A1 掩膜版组件及其安装方法、蒸镀装置审中-公开
公开(公告)号：WO2018000977A1
公开(公告)日：2018-01-04
申请号：PCT/CN2017/084733
申请日：2017-05-17
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人：林治明 , 王震 , 张健 , 唐富强 , 黄俊杰
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , B05C21/005 , C23C14/24
摘要：一种掩膜版组件（10）、一种安装掩膜版组件（10）的方法及一种蒸镀装置。掩膜版组件（10）包括支撑架（300）；固定于支撑架（300）上的掩膜版（200），掩膜版（200）包括有效掩膜区（201）和包围有效掩膜区（201）的无效掩膜区（202）；固定于支撑架（300）上的第一支撑条（301），第一支撑条（301）设置于掩膜版（200）背离支撑架（300）的一侧，且第一支撑条（301）在支撑架（300）所在平面的投影与掩模版（200）在支撑架（300）所在平面的投影存在第一交叠部分，第一交叠部分位于无效掩膜区（202）在支撑架（300）所在平面的投影区域内。

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