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    • 1. 发明申请
    • SCHABLONE FÜR ÄTZTECHNISCHE OBERFLÄCHENSTRUKTURIERUNGEN
    • 模板以蚀刻技术的表面结构
    • WO2015075231A1
    • 2015-05-28
    • PCT/EP2014/075404
    • 2014-11-24
    • AKK GMBH
    • KESPER, Peter
    • B05C9/06G03F7/00G03F7/12C23F1/00B41M7/00B44C1/00B41M1/20B44C1/22B29C33/38B29C45/37
    • B41F15/34B29C45/372B41F19/00B41F23/00B41F31/00B41M7/00B41M7/0081B41M2205/00C23F1/00G03F7/12G03F7/24
    • Die Erfindung betrifft eine Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, ein Verfahren zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen, eine Druckmaschine zur Herstellung einer Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen sowie ein Verfahren zur ätztechnischen Oberflächenstrukturierung. Eine bekannte Schablone für ätztechnische Oberflächenstrukturierungen weist eine ätzresistente Schablonenschicht [3] auf, wobei die Schablonenschicht (3) auf die zu strukturierende Oberfläche (2) übertragbar ist und wobei die Schablonenschicht [3] nach einer ätztechnischen Behandlung der zu strukturierenden Oberfläche (2) zumindest teilweise entfernbar ist, und wird erfindungsgemäß dadurch ausgestaltet und weitergebildet, dass die Schablonenschicht (3] mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) aufweist und dass mindestens zwei Teilbereiche (4, 5) unabhängig voneinander von zu strukturierenden Oberfläche entfernbar sind.
    • 本发明涉及一种用于蚀刻技术表面结构,制造用于蚀刻技术的表面结构,在印刷机制造的掩模的蚀刻技术表面结构和表面结构化ätztechnischen的方法的掩模的方法的模具。 用于蚀刻的技术的表面结构的已知模版具有耐蚀刻模板层[3],其中所述模板层(3)的表面上被结构化(2)是转让,其中所述模板层[3]表面的ätztechnischen处理后的被至少结构(2) 被部分地去除,并且被本发明设计的特征和开发,使得模板层(3]的至少两个部分(4,5),并且其中至少两个部分(4,5)从表面独立地移除,以构成。