专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2019033536A1 蒸发源审中-公开
公开(公告)号：WO2019033536A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：PCT/CN2017/106790
申请日：2017-10-19
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：邹新
IPC分类号： C23C14/26
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/26
摘要：一种蒸发源，包括由导电材料制成的蒸发源本体；蒸发源本体包括：主体(101)，主体(101)内部开设有材料腔室(102)；主体(101)外侧的设置有第一电极连接端(103)，以及与第一电极连接端(103)极性相反的第二电极连接端(104)，第一电极连接端(103)与第二电极连接端(104)通电后，主体(101)自身导电产生热量以加热材料腔室(102)内的材料。

2. 发明申请

WO2017088567A1 喷嘴组件、蒸镀装置及制作有机发光二极管器件的方法审中-公开
公开(公告)号：WO2017088567A1
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：PCT/CN2016/099433
申请日：2016-09-20
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 合肥鑫晟光电科技有限公司
发明人：邹清华
IPC分类号： C23C14/26 , C23C14/12 , C23C14/54 , H01L51/56
CPC分类号： B05B9/002 , B05B1/20 , C23C14/12 , C23C14/243 , H01L51/001 , H01L51/56
摘要：一种喷嘴组件，包括设置有喷嘴（2）的本体（1），和设置在位于喷嘴（2）的侧壁中的中空腔（3），中空腔（3）中设置第一加热元件（4）。还公开了一种蒸镀装置及制作有机发光二极管器件的方法。

3. 发明申请

WO2017033053A1 HOMOGENEOUS LINEAR EVAPORATION SOURCE 审中-公开
标题翻译：均质线性蒸发源
公开(公告)号：WO2017033053A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：PCT/IB2016/001196
申请日：2016-08-19
申请人： FLISOM AG , PARRINI, Lorenzo
发明人： RUTH, Marta , PFEIFFER, Reto
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/26 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/26 , C23C14/243
摘要： Embodiments of the present disclosure generally relate to evaporation sources used for physical vapor deposition of material onto substrates and more particularly for controlled coating of large substrates, such as vacuum deposition of copper, indium, gallium, selenium, tellurium, cadmium, or zinc on flexible substrates. Embodiments disclosed herein are able to control the evaporation rate of the source material during processing so as to obtain a uniform deposition across the width of the substrate as the complete length of a roll-to-roll substrate is moved past the evaporation source during processing.
摘要翻译：本公开的实施方案一般涉及用于材料物理气相沉积到基底上的蒸发源，更具体地涉及大尺寸基底的受控涂覆，例如铜，铟，镓，硒，碲，镉或锌的真空沉积在柔性基板。本文公开的实施例能够在处理期间控制源材料的蒸发速率，以便在处理期间随着辊对辊衬底的整个长度移动通过蒸发源，从而在衬底的宽度上获得均匀的沉积。

4. 发明申请

WO2017008838A1 EVAPORATION SOURCE. 审中-公开
标题翻译：蒸发源
公开(公告)号：WO2017008838A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：PCT/EP2015/065988
申请日：2015-07-13
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , BANGERT, Stefan , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , KELLER, Stefan , SPATZ, Norbert
发明人： BANGERT, Stefan , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , KELLER, Stefan , SPATZ, Norbert
IPC分类号： C23C14/24 , C23C16/44
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/246 , C23C16/4401
摘要： An evaporation source (100) for a metal or a metal alloy is described. The evaporation source includes an evaporation crucible (104), wherein the evaporation crucible is configured to evaporate the metal or metal alloy, a distribution pipe (106) with one or more outlets (712) provided along the length of the distribution pipe, wherein the distribution pipe is in fluid communication with the evaporation crucible, wherein the distribution pipe further comprises a first outer tube (234) and a first inner tube (232), and wherein the distribution pipe and the evaporation crucible are provided as one single piece.
摘要翻译：描述了用于金属或金属合金的蒸发源（100）。蒸发源包括蒸发坩埚（104），其中蒸发坩埚被构造成蒸发金属或金属合金，分配管（106）具有沿着分配管的长度设置的一个或多个出口（712），其中分配管与蒸发坩埚流体连通，其中分配管还包括第一外管（234）和第一内管（232），并且其中分配管和蒸发坩埚被设置为一个单件。

5. 发明申请

WO2016096377A1 FILTER DEVICE TO REMOVE PARTICLES FROM A VAPOUR STREAM 审中-公开
标题翻译：从蒸汽流中去除颗粒的过滤装置
公开(公告)号：WO2016096377A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/077925
申请日：2015-11-27
申请人： TATA STEEL NEDERLAND TECHNOLOGY B.V.
发明人： BURTON, Daniel Brian , MAALMAN, Theodorus Franciscus Jozef , ZOESTBERGEN, Edzo , COMMANDEUR, Colin , BEENTJES, Petrus Cornelis Jozef
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/243 , B01D39/16 , B01D46/2403 , B01D46/4263 , B01D2239/0464 , C23C14/14
摘要： The invention relates to a filter device for reducing the amount of non-vaporous components in a vapour stream, comprising a carbon foam as filter material that is capable of being penetrated by the vapour stream and that is arranged in such a way that the only route for the vapour stream to pass the carbon foam is via penetration of the carbon foam. The device is in particular suitable for coating a substrate by physical vapour deposition of the vapour. The homogenous and single phase vapour stream produced by the filter device results in a smooth coated substrate wherein splashes are virtually absent.
摘要翻译：本发明涉及一种用于减少蒸气流中非汽相组分量的过滤装置，其包括碳泡沫作为过滤材料，该碳泡沫能够被蒸气流渗透，并且以这样一种方式排列，因为蒸气流通过碳泡沫是通过碳泡沫的渗透。该装置特别适用于通过蒸汽的物理气相沉积来涂覆基板。由过滤装置产生的均相和单相蒸汽流导致光滑的涂覆基质，其中飞溅物几乎不存在。

6. 发明申请

WO2015086168A8 A PROCESSING APPARATUS FOR PROCESSING DEVICES, PARTICULARLY DEVICES INCLUDING ORGANIC MATERIALS THEREIN, AND METHOD FOR TRANSFERRING AN EVAPORATION SOURCE FROM A PROCESSING VACUUM CHAMBER TO A MAINTENANCE VACUUM CHAMBER OR FROM THE MAINTENANCE VACUUM CHAMBER TO THE PROCESSING VACUUM CHAMBER 审中-公开
标题翻译：用于处理装置的处理装置，包括其有机材料的特定装置，以及将蒸发源从处理真空室传送到维护真空室或从维护真空室转移到加工真空室的方法
公开(公告)号：WO2015086168A8
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：PCT/EP2014067673
申请日：2014-08-19
申请人： APPLIED MATERIALS INC , DIEGUEZ-CAMPO JOSE MANUEL , BANGERT STEFAN , SCHÜSSLER UWE , HAAS DIETER
发明人： DIEGUEZ-CAMPO JOSE MANUEL , BANGERT STEFAN , SCHÜSSLER UWE , HAAS DIETER
IPC分类号： C23C14/04 , B05D1/00 , B05D1/02 , B05D3/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/56 , C23C16/44 , H01L51/00 , H01L51/56
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/246 , C23C14/50 , C23C14/56 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C14/566 , H01L51/001 , H01L51/0011 , H01L51/56
摘要： A processing apparatus for processing devices, particularly devices including organic materials therein, is described. The processing apparatus includes a processing vacuum chamber; at least one evaporation source for organic material, wherein the at least one evaporation source includes at least one evaporation crucible, wherein the at least one evaporation crucible is configured to evaporate the organic material, and at least one distribution pipe with one or more outlets, wherein the at least one distribution pipe is in fluid communication with the at least one evaporation crucible; and a maintenance vacuum chamber connected with the processing vacuum chamber, wherein the at least one evaporation source can be transferred from the processing vacuum chamber to the maintenance vacuum chamber and from the maintenance vacuum chamber to the processing vacuum chamber.
摘要翻译：描述了用于处理装置的处理装置，特别是包括其中的有机材料的装置。处理装置包括处理真空室; 用于有机材料的至少一个蒸发源，其中所述至少一个蒸发源包括至少一个蒸发坩埚，其中所述至少一个蒸发坩埚被配置为蒸发所述有机材料，以及至少一个具有一个或多个出口的分配管，其中所述至少一个分配管与所述至少一个蒸发坩埚流体连通; 以及与所述处理真空室连接的维护真空室，其中所述至少一个蒸发源可以从所述处理真空室转移到所述维护真空室，并且从所述维护真空室转移到所述处理真空室。

7. 发明申请

WO2016070267A1 SYSTEM AND METHOD FOR EVAPORATING A METAL 审中-公开
标题翻译：用于蒸发金属的系统和方法
公开(公告)号：WO2016070267A1
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：PCT/CA2015/051121
申请日：2015-11-02
申请人： GENERAL FUSION INC.
发明人： MOSSMAN, Alexander Douglas , PLANT, David Franklin
IPC分类号： C23C14/24 , B01D1/00 , B01J3/03
CPC分类号： B01D1/0017 , B01D1/0082 , B01J3/03 , C23C14/06 , C23C14/14 , C23C14/24 , C23C14/243
摘要： Examples of a device for gettering and surface conditioning are disclosed. The device comprises an elongated tube with a closed first end, a second end and a body extending between the first end and the second end. The body defines an inner cavity of the tube in which a heating device is inserted. The tube is inserted into a vessel so that the first end is positioned within the vessel. A solid metal is mounted closely to the tube in a region surrounding the heating device and a meshed screen is mounted over the solid metal and secured to the tube. When the heating device is on, the heat transfers through the tube's wall into the solid metal melting and vaporizing it, so that the metal vapors travel and coat onto vessel's surfaces. The device can also be used in producing metal alloys such as lead lithium alloys.
摘要翻译：公开了用于吸气和表面调理的装置的实例。该装置包括具有封闭的第一端的细长管，第二端和在第一端和第二端之间延伸的本体。主体限定管的内腔，加热装置插入其中。将管插入容器中，使得第一端位于容器内。固体金属在围绕加热装置的区域中紧密地安装在管上，并且网状筛被安装在固体金属上并固定到管上。当加热装置打开时，热量通过管壁传递到固体金属中，使其熔化和蒸发，使得金属蒸汽传播并涂覆在容器的表面上。该装置还可用于生产诸如铅锂合金的金属合金。

8. 发明申请

WO2016062514A1 TEMPERIERTE GASZULEITUNG MIT AN MEHREREN STELLEN EINGESPEISTEN VERDÜNNUNGSGASSTRÖMEN 审中-公开
标题翻译：具有多点温度供气美联储稀释气体流
公开(公告)号：WO2016062514A1
公开(公告)日：2016-04-28
申请号：PCT/EP2015/072669
申请日：2015-10-01
申请人： AIXTRON SE
发明人： GERSDORFF, Markus , DAUELSBERG, Martin , PAGADALA GOPI, Baskar , LONG, Michael
IPC分类号： C23C14/12 , C23C16/448 , C23C16/455 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/243 , C23C14/541 , C23C16/4481 , C23C16/45561
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Abscheiden organischer Schichten auf einem Substrat (20), mit einer einen Verdampfer (1', 1') aufweisenden Prozessgasquelle (1, 11),in welchem Verdampfer (1', 11') eine Quellentemperiereinrichtung (2, 12) eine Quellentemperatur (T 1 , T 1 ' ) erzeugt, wobei in den Verdampfer (1', 11') eine Trägergaszuleitung (4, 14) mündet, zur Einspeisung eines Trägergasstroms in eine erste Transportleitung (5, 15), wobei dieerste Transportleitung (5, 15) mit einer Leitungstemperiereinrichtung (7, 17) temperierbar ist, und in dieerste Transportleitung (5, 15) eine erste Verdünnungsgaszuleitung (8, 18) mündet, zur Einspeisung eines Verdünnungsgasstroms indie erste Transportleitung (8, 18), und mit einem mittels einer Gaseinlasstemperiereinrichtung (32) auf eine Gaseinlasstemperatur (T 5 ) temperierbaren Gaseinlassorgan (31), das mit der ersten Transportleitung (8,18) leitungsverbunden ist und mit dem der gasförmige Ausgangsstoff in eine Prozesskammer (30) einspeisbar ist, die einen Suszeptor (35) aufweist, der mittels einer Suszeptortemperiereinrichtung (27) derart auf eine Suszeptortemperatur (T 6 ) temperierbar ist, dass auf dem auf dem Suszeptor (35) aufliegenden Substrat (20) mittels des gasförmigen Ausgangsstoffes eine Schicht aufwächst.
摘要翻译：本发明涉及一种用于与一个蒸发器的基板（20）上沉积的有机层的装置和方法（1”，1‘），其具有处理气体源（1，11），其中所述蒸发器（1’，11' ）一个Quellentemperiereinrichtung （2，12） '生成，其中，所述蒸发器（1源温度（T1，T1）'，11“），其具有载气进料管线（4，14）打开时，用于输送载气流成第一传输线（5，15），其特征在于所述具有Leitungstemperiereinrichtung（7,17）第一输送线（5,15）可被回火，并进入第一传输线（5，15）的第一稀释气进料管线（8，18）打开时，用于供给稀释气体流引入所述第一传输线（8，18），和连接到所述第一传输线（8,18）一个Gaseinlasstemperiereinrichtung（32）的气体入口温度（T5）温度控制的气体入口元件（31）的装置是线连接的并与该气态原料成临处理室（30）可以被馈送，包括：基座（35），由一个Suszeptortemperiereinrichtung的装置（27），以便使基座温度（T6）是温度控制的，即搁置在上基座（35）衬底（20）通过的气态原料的方法的层生长。

9. 发明申请

WO2016021112A1 SYSTEM AND METHOD BASED ON MULTI-SOURCE DEPOSITION FOR FABRICATING PEROVSKITE FILM 审中-公开
标题翻译：基于多源沉积的制备薄膜的系统和方法
公开(公告)号：WO2016021112A1
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：PCT/JP2015/003450
申请日：2015-07-08
申请人： OKINAWA INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY SCHOOL CORPORATION
发明人： QI, Yabing , ONO, Luis Katsuya , WANG, Shenghao
IPC分类号： C23C16/44 , H01L51/44 , H01L51/48 , C07F7/22 , C07F7/24
CPC分类号： C23C14/542 , C07F7/22 , C07F7/24 , C23C14/0694 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/243 , C23C14/505 , H01L31/0256 , H01L51/0008 , H01L51/0029 , H01L51/4226
摘要： A system and method for fabricating a perovskite film is provided, the system including a substrate stage configured to rotate around its central axis at a rotation speed, a first set of evaporation units, each coupled to the side section or the bottom section of the chamber, a second set of evaporation units coupled to the bottom section, and a shield defining two or more zones having respective horizontal cross-sectional areas, which are open and facing the substrate, designated for the two or more evaporation units in the second set. The resultant perovskite film includes multiple unit layers, wherein each unit layer is formed by one rotation of the substrate stage, and the composition and thickness of the unit layer are controlled by adjusting at least the evaporation rates, the rotation speed and the horizontal cross-sectional areas.
摘要翻译：提供了一种用于制造钙钛矿膜的系统和方法，该系统包括被配置为围绕其中心轴以旋转速度旋转的衬底台，第一组蒸发单元，每个联接到腔室的侧部或底部，耦合到底部的第二组蒸发单元和限定两个或更多个具有相应的水平横截面面积的屏蔽件，所述两个或多个区域是敞开的且面向衬底，被指定用于第二组中的两个或更多个蒸发单元。所得到的钙钛矿膜包括多个单位层，其中每个单位层通过衬底台的一个旋转形成，并且通过至少调节蒸发速率，转速和水平横截面来控制单元层的组成和厚度，截面积。

10. 发明申请

WO2016017374A1 アーク蒸発源审中-公开
标题翻译：弧蒸发源
公开(公告)号：WO2016017374A1
公开(公告)日：2016-02-04
申请号：PCT/JP2015/069340
申请日：2015-07-03
申请人：株式会社神戸製鋼所
发明人：黒川　好徳 , 廣田　悟史 , 谷藤　信一
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： C23C14/243 , C23C14/32 , C23C14/325 , H01J37/32055 , H01J37/3266 , H01J37/32669
摘要：　ターゲットの先端面にアークスポットを安定して保持することができ、しかも、装置の小型化が達成可能なアーク蒸発源を提供する。　アーク蒸発源１は、アーク放電によって先端面３ａから溶解されて蒸発されるターゲット３と、ターゲット３の側面３ｂから当該ターゲット３の半径方向に離間した位置に配置された少なくとも１つの磁石４とを備えている。磁石４は、ターゲット３の側面３ｂにおいてターゲット３の軸方向のターゲット３の先端面３ａから１０ｍｍまでの範囲において、以下の条件ａ）およびｂ）、すなわち、ａ）ターゲット３の側面３ｂに対して磁場による磁力線がなす角度は、４５度以下であり、かつ、ｂ）当該磁力線の強度におけるターゲット３の軸方向の成分は、２００Ｇ以上であるという条件を満たす磁場ＭＦ１を形成するように配置されている。
摘要翻译：本发明提供一种电弧蒸发源，其能够在目标的前端面上稳定地保持电弧点，并且还能够实现更大的装置紧凑性。电弧蒸发源1设置有：从顶面3a熔化并通过电弧放电而蒸发的靶3; 以及设置在目标3的径向方向上与目标3的侧面3b分离的位置的至少一个磁体4.磁体4在目标3的侧面3b处设置在向上的范围内在目标3的轴向方向上与目标3的尖端表面3a成10mm，以便形成满足条件a）和b）的磁场MF1，即a）由相对于目标3的侧面3b的磁场的磁力不大于45度，b）在磁力线强度下目标3的轴向方向的分量为至少200 G。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式