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1. 发明申请

WO2019090967A1 坩埚及蒸镀方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019090967A1
公开(公告)日：2019-05-16
申请号：PCT/CN2018/072620
申请日：2018-01-15
申请人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：乔小平 , 李金川
IPC分类号： C23C14/24 , F27B14/04
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/54 , F27B14/04
摘要：一种坩埚及蒸镀方法，坩埚包括第一埚体（101）和设于相对第一埚体（101）内的第二埚体（102），第一埚体（101）和第二埚体（102）之间围合形成腔体结构，以使腔体横截面形成环形形状，腔体用于容纳蒸镀材料（300），第一埚体（101）背对第二埚体（102）的外壁面围设有第一加热部件（201），第二埚体背对第一埚体的内壁面围设有第二加热部件（202），坩埚还包括加热控制系统，加热控制系统控制第一加热部件（201）和第二加热部件（202）的加热时长不同，通过以上设置进行蒸镀，使得坩埚不会发生变形或者破裂的问题。

2. 发明申请

WO2019066087A1 蒸着装置、有機ＥＬパネルの製造装置、有機ＥＬパネルの製造方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019066087A1
公开(公告)日：2019-04-04
申请号：PCT/JP2018/037100
申请日：2018-10-03
申请人：株式会社ブイ・テクノロジー , 国立大学法人東北大学
发明人：水村　通伸 , 後藤　哲也
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/04 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L27/32 , H01L51/50 , H05B33/10
摘要：蒸着装置において、蒸着源を蒸着マスクや基板に近接配置させることを可能にし、成膜材料の分子流束の指向性を改善することで、成膜パターンの精度を向上させる。蒸着装置は、蒸着マスクが被成膜面に密着された基板を内部に保持する蒸着槽と、蒸着槽内に配置され、蒸着マスクに向けて成膜材料を放射する蒸着源とを備え、蒸着源は、成膜材料が収容されると共に蒸着マスクに向けた開口を有する容器と、容器内の成膜材料を加熱する加熱装置と、容器内の成膜材料に超音波振動を与える超音波振動子を備える。

3. 发明申请

WO2019047856A1 基底支持组件、成膜设备和方法审中-公开
公开(公告)号：WO2019047856A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/CN2018/104196
申请日：2018-09-05
申请人：京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人：孙朴 , 吴文泽 , 刘德健 , 曹飞
IPC分类号： C23C14/50 , C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/50
摘要：一种基底支持组件(10)，包括配置为在成膜工艺中支持基底(5)的支持板(1)，支持板(1)具有配置为朝向基底(5)的工作面，其中，支持板(1)的工作面上设置有间隔的多个开口(11)，多个开口(11)至少部分或全部中设有活动块(2)和驱动器(3)驱动器(3)配置为驱动活动块(2)相对于工作面升降，以使活动块(2)的顶面至少能在与工作面齐平的位置和凸出于工作面的位置间运动。还公开了一种成膜设备和成膜方法。

4. 发明申请

WO2019033535A1 一种蒸镀机台装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019033535A1
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：PCT/CN2017/106788
申请日：2017-10-19
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人：蒋谦 , 陈永胜
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/04 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/042 , C23C14/24 , C23C14/56
摘要：一种蒸镀机台装置，其包括至少两个基板清洗机单元（10）、常压腔体（20）以及真空腔集合体；常压腔体（20）包括常压金属掩膜板补偿测试腔（205）和常压金属掩膜板装载腔（206），其中，常压金属掩膜板补偿测试腔（205）内设置有金属掩膜板与基板进行对位的对位系统，常压金属掩膜板补偿测试腔（205）的腔体下部设置有光源；常压腔体（20）设置于基板清洗机单元（10）与真空腔集合体之间。

5. 发明申请

WO2018207803A1 硬質炭素膜とその製造方法および摺動部材审中-公开
公开(公告)号：WO2018207803A1
公开(公告)日：2018-11-15
申请号：PCT/JP2018/017862
申请日：2018-05-09
申请人：日本アイ・ティ・エフ株式会社
发明人：大城　竹彦 , 福谷　友佳子 , 三宅　浩二
IPC分类号： C23C14/06 , C23C14/24 , C23C16/26
CPC分类号： C23C14/06 , C23C14/24 , C23C16/26
摘要：ＭｏＤＴＣ含有オイル中での摺動に際して、優れた耐摩耗性に加えて、ラップ処理などによるコストアップや手間の発生を抑制しながら摺動面を平滑化して十分な低摩擦性を発揮することができる硬質炭素膜の製造技術を提供する。摺動部材の摺動面を形成する硬質炭素膜であって、炭素原子と結合する終端用原子を含有し、表面から一部が突出している複数の隆起状形態部を有しており、複数の隆起状形態部の周囲が、それぞれ、終端用原子により終端されている硬質炭素膜。グラファイトを蒸発源とするアーク蒸着法を用いて摺動部材の摺動面に硬質炭素膜を成膜する硬質炭素膜の製造方法であって、炭素原子と結合する終端用原子を含有するガスを導入して、複数の隆起状形態部を、周囲を終端用原子により炭素原子と結合させて終端させながら硬質炭素膜の表面に成長させる硬質炭素膜の製造方法。

6. 发明申请

WO2018155419A1 気化器および素子構造体の製造装置审中-公开
公开(公告)号：WO2018155419A1
公开(公告)日：2018-08-30
申请号：PCT/JP2018/005934
申请日：2018-02-20
申请人：株式会社アルバック
发明人：青代　信 , 清　健介 , 高橋　明久 , 矢島　貴浩 , 加藤　裕子
IPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/24 , H01L51/50 , H05B33/04 , H05B33/10
摘要：本発明の気化器は、素子構造体の製造装置に対して気化された樹脂材料を供給するための気化器であって、液状の樹脂材料を気化するための内部空間を備えた気化槽と、前記内部空間において、前記液状の樹脂材料を噴霧する吐出部と、前記内部空間において、前記吐出部に対向して配され、噴霧された前記液状の樹脂材料を加熱気化させる加温部と、前記内部空間において、前記加温部より下方に配され、該加温部で気化されなかった前記液状の樹脂材料が滴下されて保管される貯留部とを備えている。

7. 发明申请

WO2018148992A1 荫罩组件及荫罩组件的重复使用方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018148992A1
公开(公告)日：2018-08-23
申请号：PCT/CN2017/075461
申请日：2017-03-02
申请人：武汉华星光电技术有限公司
发明人：曹绪文
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24
CPC分类号： C23C14/042 , C03C17/002 , C03C2218/151 , C03C2218/34 , C23C14/24 , H01L51/00 , H01L51/0011
摘要：一种荫罩组件及其重复使用方法，荫罩组件包括荫罩膜片（10）和框体（20），框体（20）包括相对设置的外壁（204）和内壁（202）及连接外壁（204）和内壁（202）的贴合面（206），贴合面（206）与荫罩膜片（10）贴合，贴合面（206）包括不共面的焊接区域（2064）与平铺区域（2062），焊接区域（2064）位于平铺区域（2062）与外壁（204）之间，框体（20）通过设置于焊接区域（2064）的焊点（30）固定荫罩膜片（10）的边缘，平铺区域（2062）位于焊接区域（2064）与内壁（202）之间，用于支撑荫罩膜片（10）并保持荫罩膜片（10）为平面。多次更换荫罩膜片（10）后一次性打磨抛光焊接区域（2064）所有的焊点（30），降低了焊点（30）抛光次数，提高了荫罩膜片（10）的平整度。

8. 发明申请

WO2018101802A2 HEATING ASSEMBLY 审中-公开
公开(公告)号：WO2018101802A2
公开(公告)日：2018-06-07
申请号：PCT/KR2017014042
申请日：2017-12-01
申请人： FINEVA INC
发明人： KIM JUNG HYUNG
IPC分类号： C23C14/26 , C23C14/24 , C23C14/54
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/26 , C23C14/54
摘要： The present invention relates to a heating assembly. According to an aspect of the present invention, there is provided a heating assembly for deposition equipment, the heating assembly comprising: a crucible having a space formed therein so as to contain a deposition material and having at least one nozzle implemented so as to guide the deposition material to the outside; a coil arranged outside the crucible and configured such that, as high-frequency power is applied thereto, a coil current corresponding to the high-frequency power flows through the coil, thereby forming a dynamic magnetic field in the periphery thereof; and a magnetic field concentrating structure arranged in the periphery of the coil, wherein an induction current is formed in the outer wall of the crucible by the dynamic magnetic field, the crucible is heated by heat occurring on the basis of the induction current and an electric resistance element of the crucible, and the dynamic magnetic field formed in the periphery of the coil is concentrated by the magnetic field concentrating structure, thereby increasing the heat occurring in the crucible.

9. 发明申请

WO2018086355A1 掩模板及其制作方法、有机发光二极管显示器的制作方法审中-公开
公开(公告)号：WO2018086355A1
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：PCT/CN2017/089949
申请日：2017-06-26
申请人：京东方科技集团股份有限公司
发明人：张粲 , 陈小川
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/24 , H01L51/56
CPC分类号： H01L51/0011 , C23C14/042 , C23C14/24 , H01L27/3211 , H01L27/3244 , H01L51/5012 , H01L51/5016 , H01L51/5056 , H01L51/5072 , H01L51/5088 , H01L51/5092 , H01L51/56 , H01L2227/323
摘要：一种掩模板，包括掩模板基板(10)以及贯穿掩模板基板(10)的多个开口(101)，其中，掩模板的材料为单晶硅。还公开了一种掩模板的制造方法和一种有机发光二极管显示器的制作方法。

10. 发明申请

WO2018077388A1 MEASUREMENT ASSEMBLY FOR MEASURING A DEPOSITION RATE, EVAPORATION SOURCE, DEPOSITION APPARATUS, AND METHOD THEREFOR 审中-公开
标题翻译：用于测量沉积速率的测量组件，蒸发源，沉积装置及其方法
公开(公告)号：WO2018077388A1
公开(公告)日：2018-05-03
申请号：PCT/EP2016/075681
申请日：2016-10-25
申请人： APPLIED MATERIALS, INC. , DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , SCHÜSSLER, Uwe , LANDGRAF, Heike , LOPP, Andreas , STAAF, Hans
发明人： DIEGUEZ-CAMPO, Jose Manuel , BANGERT, Stefan , SCHÜSSLER, Uwe , LANDGRAF, Heike , LOPP, Andreas , STAAF, Hans
IPC分类号： C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/54 , G01B7/06
CPC分类号： C23C14/546 , C23C14/042 , C23C14/12 , C23C14/24
摘要： A measurement assembly (100) for measuring a deposition rate of an evaporated material is described. The measurement assembly (100) includes: a first oscillation crystal (110) for measuring the deposition rate; a second oscillation crystal (120) for measuring the deposition rate; and a movable shutter (140). The movable shutter (140) is configured for blocking the evaporated material provided from a first measurement outlet (151), the first measurement outlet directed for providing evaporated material to the first oscillation crystal (110). Further, the movable shutter (140) is configured for blocking the evaporated material provided from a second measurement outlet (152), the second measurement outlet directed for providing evaporated material to the second oscillation crystal (120).
摘要翻译：描述用于测量蒸发材料的沉积速率的测量组件（100）。测量组件（100）包括：用于测量沉积速率的第一振荡晶体（110）第二振荡晶体（120），用于测量沉积速率; 和可动快门（140）。可移动遮光器（140）被配置用于阻挡从第一测量出口（151）提供的蒸发材料，第一测量出口指向用于将蒸发材料提供给第一振荡晶体（110）。此外，可动快门（140）被配置用于阻挡从第二测量出口（152）提供的蒸发材料，第二测量出口指向用于向第二振荡晶体（120）提供蒸发材料。

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