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1. 发明申请

WO2012165792A2 진공증착장치 审中-公开
标题翻译：真空沉积装置
公开(公告)号：WO2012165792A2
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/KR2012/004025
申请日：2012-05-22
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사 , 공두원 , 이종하 , 이동현 , 정성재 , 박상현
发明人： 공두원 , 이종하 , 이동현 , 정성재 , 박상현
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C16/4401 , C23C14/50 , C23C14/562 , C23C14/564 , C23C16/4586 , C23C16/545
摘要： 본 발명은 진공증착장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 진공증착장치는 진공의 챔버 내에 배치되는 기판에 소스를 증착하기 위한 진공증착장치에 있어서, 상기 기판을 이송하는 기판 이송부; 상기 기판 이송부와 대향되게 배치되며, 상기 기판 이송부 상에 배치되는 기판에 소스를 분사하는 노즐; 상기 기판 이송부에 소스가 증착되는 것을 방지되도록 상기 기판 이송부의 표면온도를 제어하는 온도제어부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 소스가 기판을 이송하는 기판이송부 상에 입자화되어 증착됨으로써 발생하는 생산성 저하를 최소화할 수 있는 진공증착장치가 제공된다.
摘要翻译：真空沉积设备技术领域本发明涉及真空沉积设备。根据本发明的用于将源沉积在设置在真空室内的基板上的真空沉积设备包括：用于转移基板的基板转移部分; 设置成面对基板转印部的喷嘴，喷嘴将源喷射到设置在基板转印部上的基板上; 以及用于控制基板转印部件的表面温度以防止源沉积到基板转印部件上的温度控制部件。因此，由于可以防止源极被颗粒化并沉积在用于转移衬底的衬底转移部分上，所以可以使生产率的降低最小化。

2. 发明申请

WO2012165793A2 박막 증착 장치용 원료 공급유닛 审中-公开
标题翻译：用于薄膜沉积装置的燃料供应单元
公开(公告)号：WO2012165793A2
公开(公告)日：2012-12-06
申请号：PCT/KR2012/004026
申请日：2012-05-22
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사 , 공두원 , 박상현 , 권진환 , 차재정 , 박병민 , 이영국
发明人： 공두원 , 박상현 , 권진환 , 차재정 , 박병민 , 이영국
IPC分类号： C23C14/24 , C23C14/56
CPC分类号： C23C16/455 , C23C14/246 , C23C14/56
摘要： 본 발명은 박막 증착 장치용 원료 공급유닛에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 박막 증착 장치용 원료 공급유닛은 박막 증착 장치용 챔버 내부에 배치되어 증발 재료를 분사하는 인젝터에 증발 재료를 공급하는 박막 증착 장치용 원료 공급유닛에 있어서, 증발 재료가 보관되는 저장공간이 내부에 형성되고, 일측에 형성되는 배출구가 연결라인을 통해 상기 인젝터측에 연결되는 용기몸체;와, 상기 용기몸체의 저장공간에 직선방향으로 이동 가능하게 삽입되는 피스톤몸체와, 외주면에 안착부가 형성되어 상기 피스톤몸체의 외측면에 배치되는 두 개 이상의 안착부재와, 상기 안착부재의 안착부에 조립되어 상기 용기몸체의 저장공간 내주면에 밀착하는 적어도 두 개의 접촉링이 형성된 이송부재; 및, 상기 이송부재가 용기몸체의 배출구를 향해 이동하도록 이송부재에 가압력을 인가하는 가압부재;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于薄膜沉积设备的燃料供应单元。本发明的薄膜蒸镀装置的燃料供给装置，其向蒸发材料供给设置在该薄膜沉积装置的室内的喷射器的喷射蒸镀材料的喷射装置，其特征在于，包括：容纳体，储存蒸发的物质，容器主体具有限定在其一侧的排放孔，并且通过连接线连接到喷射器; 活塞体，其插入以能够沿直线方向移动到所述容器主体的收纳空间; 至少两个座椅构件，每个座椅构件在其外表面上包括座椅部件，并且设置在所述活塞体的外表面上; 传送构件，其包括分别与所述座椅构件的所述座椅部件组装并且紧密地附接到所述容器主体的所述存储空间的内表面的至少两个接触环; 以及向所述转印构件施加按压力的按压构件，使得所述转印构件朝向所述容器主体的出口移动。

3. 发明申请

WO2013187547A1 파손방지 기능을 구비한 기판처리 시스템 审中-公开
标题翻译：具有防止损坏功能的基板处理系统
公开(公告)号：WO2013187547A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/KR2012/004933
申请日：2012-06-22
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사 , 박상현 , 이동현 , 오현필 , 전광진 , 권진환 , 박성진
发明人： 박상현 , 이동현 , 오현필 , 전광진 , 권진환 , 박성진
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： H01J37/32807 , B01J3/002 , C23C14/06 , C23C14/243
摘要： 본 발명은 파손방지 기능을 구비한 기판처리 시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 파손방지 기능을 구비한 유체탱크는 유체를 저장할 수 있는 유체탱크; 상기 유체탱크로부터 유체를 공급받아 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 유체가 유동 가능하도록 상기 유체탱크와 상기 챔버를 상호 연결하는 파이프; 상기 파이프에서 상기 유체가 유동함에 따라 열을 공급받아 발생하는 열팽창에 대응하여 상기 유체탱크의 위치변경이 가능하도록 하는 파손방지부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 유체탱크가 파이프의 열팽창에 따른 부피변화에 대응하여 유체탱크의 파손을 방지할 수 있는 파손방지 기능을 구비한 기판처리 시스템이 제공된다.
摘要翻译：本发明涉及具有防止损坏的功能的基板处理系统。根据本发明的具有防止损坏功能的基板处理系统包括：用于储存流体的流体箱; 从流体箱供给流体并提供衬底被处理的空间的腔室; 将流体箱和室彼此连接以使得流体能够流过其中的管; 以及能够响应于由于管道中的流体的运动而由供热产生的热膨胀而改变流体箱的位置的损坏防止单元。因此，提供了具有防止损坏的功能的基板处理系统，其能够防止对应于由管道的热膨胀引起的体积变化的对流体箱的损坏。

4. 发明申请

WO2013187548A1 태양 전지용 박막 급속 열처리 시스템 审中-公开
标题翻译：用于太阳能电池薄膜快速热处理系统
公开(公告)号：WO2013187548A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/KR2012/004935
申请日：2012-06-22
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사 , 유상우 , 김주원 , 전광진 , 박상현 , 차재정
发明人： 유상우 , 김주원 , 전광진 , 박상현 , 차재정
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： H01L31/0272 , H01L21/02614 , H01L21/67115 , H01L31/1828 , Y02E10/543
摘要： 본 발명은 태양 전지용 박막 열처리 시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 태양 전지용 박막 열처리 시스템은 수용공간을 형성하는 챔버;와 기판이 배치되는 밀폐공간을 형성하는 케이싱;과 기판에 열을 가하는 램프;와 밀폐공간에 반응가스를 분사하는 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의하여, 밀폐공간에 균일하게 반응가스를 분사하고 균일하게 열을 가함으로써, 셀레늄 및 반응가스의 확산을 통한 손실이 최소화되는 태양 전지용 박막 열처리 시스템이 제공된다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于太阳能电池薄膜的热处理系统和根据本发明的用于太阳能电池薄膜的热处理系统，包括：用于形成容纳空间的室; 用于形成其中设置有基板的密封空间的壳体; 用于向衬底施加热量的灯; 以及用于将反应气体喷射到密封空间中的喷射单元。因此，本发明提供了一种用于太阳能电池薄膜的热处理系统，其可以将反应气体均匀地喷射到密封空间中并且可以均匀地加热，从而最小化由反应气体和硒的分散引起的损失。

5. 发明申请

WO2016032047A1 CIGS 박막 급속 열처리 장치 审中-公开
标题翻译：快速热处理装置用于CIGS薄膜
公开(公告)号：WO2016032047A1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：PCT/KR2014/009234
申请日：2014-09-30
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 김주원 , 유상우 , 김도훈 , 박상현
IPC分类号： H01L31/024 , H01L31/0445 , H01L31/0749 , H01L31/18
CPC分类号： H01L31/024 , H01L31/0445 , H01L31/0749 , H01L31/18 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： 본 발명은 CIGS 박막 급속 열처리 장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 CIGS 박막 급속 열처리 장치는, 구리, 인듐, 갈륨, 셀레늄이 순차적으로 적층되어 형성되는 전구체 박막이 수용되는 캐리어 박스가 투입되며, 상기 캐리어 박스를 진행방향으로 이송하면서 가열하여 1차 셀렌화 공정을 수행하는 로드락 챔버; 서로 다른 내부온도를 갖는 복수 개의 챔버로 마련되며, 상기 캐리어 박스를 진행방향으로 이동시키며 가열하여 2차 셀렌화 공정을 수행하여 CIGS 광흡수층을 형성하는 가열부; 상기 가열부로부터 제공받은 상기 캐리어 박스를 냉각하는 냉각부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种CIGS薄膜快速热处理装置。根据本发明的用于CIGS薄膜的快速热处理装置包括：负载锁定室，其中放置用于接收通过依次层压铜，铟，镓和硒形成的前体薄膜的载体盒，并且其执行通过在传送载体箱的行进方向上加热载体箱的第一次硒化处理; 具有不同内部温度的多个室的加热部，通过在行进方向移动载体箱的同时加热载体并进行第二硒化处理，以形成CIGS光吸收层; 以及用于冷却从加热部件接收的载体箱的冷却部件。

6. 发明申请

WO2016032046A1 CIGS 열처리 셀레늄 공급장치 및 공급방법 审中-公开
标题翻译： CIGS热处理硒供应装置和供应方法
公开(公告)号：WO2016032046A1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：PCT/KR2014/009233
申请日：2014-09-30
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 전광진 , 최한빈 , 오현필 , 박상현
IPC分类号： H01L31/0749 , H01L31/18 , H01L31/0272 , H01L31/024
CPC分类号： H01L31/024 , H01L31/0272 , H01L31/0749 , H01L31/18 , Y02E10/50 , Y02P70/521
摘要： 본 발명은 CIGS 열처리 셀레늄 공급장치에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 CIGS 열처리 셀레늄 공급장치는 CIGS 태양전지 제조시, CIGS 열처리 장치 측으로 셀레늄을 공급하는 장치에 있어서, 일단이 상기 CIGS 열처리 장치에 연결되며, 셀레늄 가스가 이동하는 경로인 공급관; 상기 공급관의 일측으로부터 분기되는 분기관; 상기 공급관 상에 설치되어 상기 셀레늄 가스의 상기 CIGS 열처리 장치로의 이동을 차단하는 밸브부; 상기 분기관에 연결되며, 상기 밸브부가 폐쇄시 구동하여 상기 셀레늄 가스를 상기 분기관 측으로 안내하는 펌프부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种CIGS热处理硒供应装置，根据本发明的CIGS热处理硒供应装置是在CIGS太阳能电池制造期间向CIGS热处理装置提供硒的装置，其特征在于包括：供给管，其一端连接到CIGS热处理装置，供应管用作硒气体沿其移动的路径; 分支管从供给管的一侧分支; 安装在供给管上的阀单元，以阻止硒气体向CIGS热处理装置的移动; 以及连接到所述分支管的泵单元，当所述阀单元关闭时，所述泵单元被驱动，以便将硒气体引导到所述分支管。

7. 发明申请

WO2014208790A1 박막급속열처리장치 审中-公开
标题翻译：用于薄膜的快速热处理设备
公开(公告)号：WO2014208790A1
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：PCT/KR2013/005683
申请日：2013-06-27
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 유상우 , 김주원 , 최한빈 , 박상현 , 고현진 , 최지원 , 이일환
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/04
CPC分类号： H01L31/18 , H01L21/67109 , H01L21/6719
摘要： 본 발명은 박막급속열처리장치에 관한 것으로서, 판형으로 구비되며 열을 발생시키는 히터; 기판을 수용하며 상기 기판을 가열하는 가열공간과 상기 가열공간을 사이에 두고 각각 배치되는 상기 히터를 수용하는 수용공간을 형성하는 챔버; 상기 수용공간과 상기 가열공간을 구분하도록 상기 수용공간과 상기 가열공간 사이에 각각 배치되는 격벽;을 포함하는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及一种薄膜快速热处理装置，其特征在于包括：用于产生热量的板状加热器; 容纳基板的室，并且具有用于加热基板和容纳空间的加热空间，其间具有加热空间，用于容纳布置在其中的加热器; 以及布置在每个容纳空间和加热空间之间的障碍物以便将其分开。

8. 发明申请

WO2013187625A1 태양 전지용 박막 급속 열처리 시스템 审中-公开
标题翻译：太阳能电池薄膜快速热处理系统
公开(公告)号：WO2013187625A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/KR2013/004878
申请日：2013-06-03
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 유상우 , 김주원 , 전광진 , 박상현 , 차재정
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： H01L31/0272 , H01L21/02614 , H01L21/67115 , H01L31/1828 , Y02E10/543
摘要： 본 발명은 태양 전지용 박막 열처리 시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 태양 전지용 박막 열처리 시스템은 수용공간을 형성하는 챔버;와 기판이 배치되는 밀폐공간을 형성하는 케이싱;과 기판에 열을 가하는 램프;와 밀폐공간에 반응가스를 분사하는 분사부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及太阳能电池薄膜的快速热处理系统。根据本发明的太阳能电池薄膜的快速热处理系统包括：用于形成存储空间的室; 用于形成其中布置基板的封闭空间的壳体; 用于加热基板的灯; 以及用于将反应气体注入封闭空间的注入单元。

9. 发明申请

WO2013187624A1 파손방지 기능을 구비한 기판처리 시스템 审中-公开
标题翻译：具有防破坏功能的基板处理系统
公开(公告)号：WO2013187624A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/KR2013/004877
申请日：2013-06-03
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 박상현 , 이동현 , 오현필 , 전광진 , 권진환 , 박성진
IPC分类号： H01L21/203 , H01L21/02
CPC分类号： H01J37/32807 , B01J3/002 , C23C14/06 , C23C14/243
摘要： 본 발명은 파손방지 기능을 구비한 기판처리 시스템에 관한 것으로서, 본 발명에 따른 파손방지 기능을 구비한 유체탱크는 유체를 저장할 수 있는 유체탱크; 상기 유체탱크로부터 유체를 공급받아 기판이 처리되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 유체가 유동 가능하도록 상기 유체탱크와 상기 챔버를 상호 연결하는 파이프; 상기 파이프에서 상기 유체가 유동함에 따라 열을 공급받아 발생하는 열팽창에 대응하여 상기 유체탱크의 위치변경이 가능하도록 하는 파손방지부;를 포함하는 것을 특징으로 한다.
摘要翻译：本发明涉及具有防破坏功能的基板处理系统。根据本发明的具有防破坏功能的流体箱包括：能够储存流体的流体箱; 接收来自流体箱的流体的室，用于提供用于处理基板的空间; 用于将流体箱与腔室连接以使流体在其中流动的管道; 以及用于使得能够根据根据管道中的流体的流动而传递热量产生的热膨胀来改变流体箱的位置的防破坏单元。

10. 发明申请

WO2013187623A1 반도체 박막 제조 시스템 审中-公开
标题翻译：半导体薄膜制造系统
公开(公告)号：WO2013187623A1
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：PCT/KR2013/004874
申请日：2013-06-03
申请人： 에스엔유 프리시젼 주식회사
发明人： 이동현 , 박상현 , 오현필 , 김주원 , 오규운
IPC分类号： H01L31/18 , H01L31/042
CPC分类号： H01L31/0322 , C23C14/56 , H01L21/02568 , H01L21/02614 , H01L31/18 , Y02E10/541 , Y02P70/521
摘要： 본 발명은 반도체 박막 제조 시스템에 관한 것이며, 본 발명의 반도체 박막 제조 시스템은 기판으로 기체상태의 소스를 분사하는 반도체 박막 제조 시스템에 있어서, 내부에 기체상태의 소스가 기판으로 분사되도록 마련되며, 내부로 기판이 통과하도록 마련된 메인 챔버, 상기 메인 챔버로 상기 기판을 제공하는 제1 부챔버, 상기 메인 챔버로부터 소스가 증착된 기판을 공급받는 제2 부챔버, 상기 메인 챔버와 상기 제1 부챔버 사이 또는 상기 메인 챔버와 상기 제2 부챔버 사이에 마련되어 상기 기판이 통과하는 경로를 선택적으로 개폐하며, 상기 기체화된 소스가 고체화되는 것을 방지하기 위하여 상기 메인 챔버와 마주보는 면을 가열하는 방열 게이트 밸브를 포함하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의하면, 방열 게이트 밸브가 메인 챔버의 통로를 가열하여 기화상태의 소스가 메인 챔버 내부의 기판의 통과 경로에 고체화되는 것을 방지하여, 기판의 오염을 방지하고 메인 챔버의 내부를 진공 상태로 유지할 수 있는 할 수 있는 반도체 박막 제조 시스템이 제공된다.
摘要翻译：半导体薄膜制造系统技术领域本发明涉及半导体薄膜制造系统。本发明的半导体薄膜制造系统将气态源注入到基板中，并且包括：主室，其中制备气态源以将其注入到基板中，并且所述基板通过其内部; 用于将基板提供到主室的第一子室; 第二子室，用于从主室接收源沉积衬底; 以及在主室和第一子室之间或主室和第二子室之间制备的散热门，以便选择性地打开或关闭衬底通过的路径，并加热面向主体的表面以防止气体源的凝固。因此，根据本发明，提供了一种半导体薄膜制造系统，其中可以防止基板的污染，并且通过使散热闸阀能够将主室的内部加热，可以将主室的内部保持在真空状态以防止主室内的基板通过路径中的气态源的固化。

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