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    • 4. 发明申请
    • 化合物系薄膜太陽電池基板用ステンレス鋼およびその製造方法並びに化合物系薄膜太陽電池
    • 用于复合薄膜太阳能电池基板的不锈钢,其制造方法和复合薄膜太阳能电池
    • WO2017043417A1
    • 2017-03-16
    • PCT/JP2016/075720
    • 2016-09-01
    • ソーラーフロンティア株式会社
    • 秦野 正治山岸 昭仁内田 俊彦浅野 明彦斉藤 雅弘
    • C23C8/18C22C38/00C22C38/38C22C38/60H01L31/0392H01L31/0749
    • C22C38/00C22C38/38C22C38/60C23C8/18H01L31/0392H01L31/0749Y02E10/541
    • 本発明は、コーティングやメッキの表面処理に頼らなくても、化合物系薄膜太陽電池の基板に好適な耐ガス腐食性を備えたステンレス鋼とその製造方法ならびにそれを基板とした化合物系薄膜太陽電池を提供することを課題とする。 上記課題を解決するために、本発明は、質量%で、C:0.03%以下、Si:2%以下、Mn:2%以下、Cr:10~25%、P:0.05%以下、S:0.01%以下、N:0.03%以下、Al:0.5~5%を含み、残部がFeおよび不可避的不純物からなり、膜厚15nm以下、OやCを除いたカチオンイオン分率のプロファイルにおいて、Al濃度の極大値が30質量%以上、かつ表面から2nm深さにおけるFe濃度が30質量%以下であるFe-Cr-Al系酸化皮膜を形成することを特徴とする。さらに、Si:0.3%以上、Ti:0.03~0.5%、Mg+Ga>0.001%を満たし、表面皮膜中にはSiやTiを含有すると良い。表面皮膜は、700~1100℃の温度範囲で低露点水素ガス中の焼鈍を行い付与する。
    • 本发明的目的在于提供:不需要表面处理如涂布或电镀的不锈钢,其具有适用于复合薄膜太阳能电池基板的耐气体腐蚀性; 该不锈钢的制造方法; 以及使用该不锈钢作为基板的复合薄膜太阳能电池。 为了解决上述问题,本发明的特征在于,形成膜厚为15nm以下的Fe-Cr-Al氧化物膜,以质量%计含有0.03%以下的C 2 1%以下的Si,2%以下的Mn,10〜25%的Cr,0.05%以下的P,0.01%以下的S,0.03%以下的N和0.5〜5%的Al, 余量由Fe和不可避免的杂质组成,其中Al浓度的最大值为30质量%以上,离子表面的2nm深度的Fe浓度为30%以下,除了 O和C离子。 此外,优选表面膜含有Si和Ti,同时满足:Si为0.3%以上; Ti为0.03〜0.5%。 和(Mg + Ga)> 0.001%。 通过在低露点氢气中在700-1100℃的温度范围内进行退火获得表面膜。
    • 6. 发明申请
    • THIN-FILM DEVICE WITH ELECTRICAL ISOLATION LAYER
    • 具有电隔离层的薄膜器件
    • WO2016162742A1
    • 2016-10-13
    • PCT/IB2016/000434
    • 2016-04-05
    • FLISOM AG
    • NETTER, ThomasOLDRIDGE, JohnKERN, Roland
    • H01L31/048H01L31/049H01L31/18
    • H01L31/049H01L31/0465H01L31/048H01L31/0749Y02E10/541Y02P70/521
    • A photovoltaic apparatus is provided including a front sheet, a back sheet, and a photovoltaic device disposed between the front sheet and the back sheet. The photovoltaic device includes a first photovoltaic cell and a second photovoltaic cell separated in a first direction. The photovoltaic device further includes a first serial interconnect having a length that extends in a second direction. The first serial interconnect is disposed between the first photovoltaic cell from the second photovoltaic cell. The first photovoltaic cell and the second photovoltaic cell are electrically connected in series by the first interconnect. The photovoltaic apparatus further includes a spacing layer including a first roving disposed between the first interconnect and the back sheet. The first roving has a length that is aligned with the length of first serial interconnect.
    • 提供一种光电装置,包括前片,背片和设置在前片与背片之间的光电器件。 光伏器件包括在第一方向上分离的第一光伏电池和第二光伏电池。 光伏器件还包括具有沿第二方向延伸的长度的第一串联互连。 第一串行互连设置在来自第二光伏电池的第一光伏电池之间。 第一光伏电池和第二光伏电池通过第一互连串联电连接。 光电装置还包括间隔层,该间隔层包括设置在第一互连和背板之间的第一粗纱。 第一条粗纱的长度与第一串行互连的长度对齐。
    • 7. 发明申请
    • APPARATUS FOR LASER SCRIBING
    • 用于激光扫描的装置
    • WO2016108139A1
    • 2016-07-07
    • PCT/IB2015/059832
    • 2015-12-21
    • FLISOM AG
    • ZILTENER, RogerNETTER, Thomas
    • B23K26/03B23K26/362B23K26/402H01L31/0463
    • B23K26/032B23K26/361B23K2203/172B23K2203/50B23K2203/56H01L31/0463H01L31/0749H01L31/206Y02E10/541Y02P70/521
    • A computer-controlled apparatus (1100, 2000) for laser scribing at least one line segment via hole (163, 165, 165', 167) in a thin-film device (200) wherein the apparatus comprising at least one laser source (1110, 1120), at least one mirror (1150, 1151) to form at least one laser spot (7200, 7300, 7400, 7500, 7600, 7700) on the first side of said device, at least one actuator (1115, 1116, 1125, 1126, 1130, 1150, 1151,2140,2150,2260,2265,2280,2285) configured to move at least one laser spot for laser scribing the thin-film device (200) along at least one direction (101, 102), at least one optical sensor (1146, 1160) configured to acquire imaging data, and at least one control system (6000) for processing imaging data, the control system executing image processing instructions (6140, 6146, 6147) for measuring in the imaging data, along a direction (103) that is orthogonal to at least one direction of laser scribing (101, 102): the width of a curl-up (1345) of the back-contact layer (120, 124, 126, 128, 129) and the width of a lip (1355) of conductive alloy resulting from a permanent change in the chemical composition of the semiconductive optoelectronically active layer where the line segment via hole is drilled.
    • 一种用于在薄膜装置(200)中激光刻划至少一个线段通孔(163,165,165',167)的计算机控制设备(1100,2000),其中所述装置包括至少一个激光源(1110 ,1120),至少一个反射镜(1150,1151),以在所述装置的第一侧上形成至少一个激光光斑(7200,7300,700,7500,7600,70000),至少一个致动器(1115,1116) ,其被配置为移动至少一个激光光斑,用于沿着至少一个方向(101,102)激光划线所述薄膜器件(200) ),被配置为获取成像数据的至少一个光学传感器(1146,1160)以及用于处理成像数据的至少一个控制系统(6000),所述控制系统执行图像处理指令(6140,614,6147),以在 沿着与激光划线(101,102)的至少一个方向正交的方向(103)的成像数据:背接触层(120)的卷曲(1345)的宽度 ,124,126,128,129)以及导电合金的唇缘(1355)的宽度,其由穿过线段通孔的半导体光电活性层的化学组成的永久变化而产生。