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1. 发明申请

WO2012000950A1 DISPOSITIF DE TRAITEMENT POUR BOITES DE TRANSPORT ET DE STOCKAGE 审中-公开
标题翻译：运输和储存箱的处理装置
公开(公告)号：WO2012000950A1
公开(公告)日：2012-01-05
申请号：PCT/EP2011/060749
申请日：2011-06-27
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS , RIOUFRAYS, Sylvain , GODOT, Erwan , FAVRE, Arnaud
发明人： RIOUFRAYS, Sylvain , GODOT, Erwan , FAVRE, Arnaud
IPC分类号： B65G1/04 , C23F1/02 , F24F3/16
CPC分类号： B08B5/04 , B08B9/0821 , B08B9/44 , H01L21/67389 , H01L21/6773
摘要： Un dispositif de traitement pour boîtes de transport et de stockage selon l'invention comprend une pluralité de modules de dépollution (24-27) supportés par un châssis commun (100) et disposés selon une rangée d'au moins une colonne (23c) de modules superposés les uns au-dessus des autres. Chaque module de dépollution (24-27) comprend ses propres moyens de pompage (8) ayant au moins une pompe primaire (8a) logée dans un compartiment de pompage primaire (8c) décalé longitudinalement par rapport à la chambre de dépollution (5). L'accès aux modules de dépollution (24-27) se fait par des portes d'accès latérales qui sont toutes orientées selon un même côté d'accès et qui sont sollicitées par des moyens d'actionnement assurant leurs fermeture et ouverture automatiques. Une zone latérale de transfert est prévue selon le côté d'accès, et comprend un robot (29) apte à déplacer les boîtes de transport et de stockage entre un poste frontal de chargement-déchargement (23a) et les chambres de dépollution (5) de chacun des modules de dépollution (24-27). On optimise ainsi l'encombrement et le débit du dispositif de traitement (23).
摘要翻译：根据本发明的用于运输和储存箱的处理装置包括多个净化模块（24-27），其安装在公共底盘（100）上，并且排列成一列至少一个堆叠在一起的模块（23c）的另一个。每个净化模块（24-27）包括其自己的泵送装置（8），其具有容纳在相对于净化室（5）纵向偏移的主泵室（8c）中的至少一个主泵。进入去污模块（24-27）的侧面通道门都是通过侧面检修门进行的，这些门都位于同一入口侧，并通过自动关闭和打开它们的致动装置作用。横向转移区设置在进入侧，并且包括能够将运输和存放箱移动到正面装卸站（23a）和每个去污模块的去污室（5）之间的机器人（29） 24-27）。因此优化了处理装置（23）占据的空间量和生产量。

2. 发明申请

WO2009138637A1 STATION ET PROCEDE DE MESURE DE LA CONTAMINATION D'UNE ENCEINTE DE TRANSPORT DE SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS 审中-公开
标题翻译：用于测量用于运输半导体基板的外壳的污染的站和方法
公开(公告)号：WO2009138637A1
公开(公告)日：2009-11-19
申请号：PCT/FR2009/050713
申请日：2009-04-16
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
发明人： FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
IPC分类号： H01L21/00
CPC分类号： H01L21/67253 , H01L21/67017 , H01L21/67389
摘要： L'invention concerne une station de mesure de la contamination tin particules d'une enceinte de transport pour le convoyage et le stockage atmosphérique de substrats semi- conducteurs, ladite enceinte comprenant une enveloppe obrurable par une porte d'accès amovible, ladite station comportant : une interface (5) susceptible de ^accoupler à une enveloppe d'une enceinte de transport: (3), à la place de ladite porte, l´interface (5) comportant au moins une buse d'injection (9) disposée à un Extrémité mobile d'un tuyau saillant de ladite interface pour diriger un jet de gaz dam une direction perpendiculaire à une portion de paroi (13) à l'intérieur (10) de ladite enveloppe accouplée à ladite station de mesure, de manière â détacher des particules (1 1) de ladite enveloppe (3) par l'impact du jet de gaz sur ladite paroi (13) et, un dispositif de mesure (7) comportant une pompe à vide (17), un compteur de particules (19) et une canalisation de mesure (21) dont une entrée (23) débouche â l´intérieur (10) de ladite enveloppe (3) et dont une sortie (25) est raccordée à la pompe à vide (17), la canalisation de mesure (21) étant en outre raccordée au compteur de particules (19), pour mettre, en communication l'intérieur (10) de l'enveloppe de lénceinteαπte de transport (3) accouplée à ladite section de mesure avec Ie compteur de particules (19). L'invention concerne également un procédé de mesure de la contamination en particules d'une enceinte de transport pour le convoyage en Je stockage atmosphérique de substrats semi- conducteurs.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量用于大气存储和运输半导体衬底的运输箱的颗粒的污染物的站，所述外壳包括可由可拆卸的检修门封闭的外壳，所述站包括：接口（5），其可以联接到运输外壳的外壳;（3）代替所述门，所述接口（5）包括至少一个注射喷嘴（9），所述喷嘴位于软管突出的软管的移动端从所述界面引导气体喷射方向，该方向垂直于耦合到所述测量站的所述壳体的内壁（10）上的壁部分（13）的方向，从而将颗粒（11）从所述壳体（3）通过撞击所述壁（13）的气体射流;以及测量装置（7），包括真空泵（17），颗粒计（19）和测量管（21），一个入口（23）向所述内部（10）开口壳体（3）和一个出口（25）连接到真空泵（17），测量管（21）还连接到颗粒计（19），以便将壳体（10）放置在壳体（3），其与所述测量部分联接，与所述颗粒计（19）连通。本发明还涉及用于测量用于大气存储和运输半导体衬底的运输箱的颗粒污染的方法。

3. 发明申请

WO2015109522A1 CRYOGENIC ENCLOSURE 审中-公开
标题翻译：低温外壳
公开(公告)号：WO2015109522A1
公开(公告)日：2015-07-30
申请号：PCT/CN2014/071360
申请日：2014-01-24
申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , BERNAL, Dominique , FAVRE, Arnaud , KURTZ, Remy , MERINO, Philippe , MINEUR, Bernard , XIANG, Wen Juan
发明人： BERNAL, Dominique , FAVRE, Arnaud , KURTZ, Remy , MERINO, Philippe , MINEUR, Bernard , XIANG, Wen Juan
IPC分类号： F25J3/04
CPC分类号： F25J3/04703 , F25J3/04412 , F25J3/04678 , F25J3/04872 , F25J3/0489 , F25J3/04945 , F25J3/04951 , F25J2290/20 , F25J2290/62
摘要： A cylindrical cryogenic enclosure (CB) is provided for use in the separation of air. The cryogenic enclosure (CB) contains a first distillation column, a second distillation column (AR, AR1) and a cylindrical storage tank (S). The first distillation column is a double column comprising a low pressure column (BP) and a higher pressure column (MP). The low pressure column (BP) is placed above the higher pressure column (MP) and contiguous therewith. The double column has a maximum diameter denoted as a first diameter, and the second distillation column (AR, AR1) has a second diameter and is connected to the low pressure column (BP) to receive an argon enriched stream. The sum of the cross-sections of the first and second distillation columns (AR, AR1) and the storage tank (S) is equal to at least 40 % of the cross-section of the cryogenic enclosure (CB).
摘要翻译：提供圆柱形低温外壳（CB）用于分离空气。低温外壳（CB）包含第一蒸馏塔，第二蒸馏塔（AR，AR1）和圆柱形储罐（S）。第一蒸馏塔是包含低压塔（BP）和高压塔（MP）的双塔。将低压塔（BP）放置在高压塔（MP）上方并与其相邻。双塔具有表示为第一直径的最大直径，第二蒸馏塔（AR，AR1）具有第二直径并连接到低压塔（BP）以接收富氩流。第一和第二蒸馏塔（AR，AR1）和储罐（S）的横截面的总和等于低温外壳（CB）横截面的至少40％。

4. 发明申请

WO2013057272A1 DISPOSITIF DE POMPAGE ET DE TRAITEMENT DES GAZ 审中-公开
标题翻译：气体泵送和处理装置
公开(公告)号：WO2013057272A1
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：PCT/EP2012/070795
申请日：2012-10-19
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS , PALISSON, Julien , FAVRE, Arnaud
发明人： PALISSON, Julien , FAVRE, Arnaud
IPC分类号： F04B37/02 , F04B37/14 , B01D53/32 , B01D53/68 , B01D53/70 , F04C25/02 , F04D19/04
CPC分类号： F04C19/004 , B01D53/323 , B01D53/68 , B01D2257/204 , B01D2257/2045 , B01D2257/2066 , B01D2258/0216 , B01D2259/818 , F04B37/02 , F04B37/14 , F04C23/003 , F04C2220/10 , Y02C20/30
摘要： L'invention concerne un dispositif de pompage et de traitement des gaz comprenant un stator (5) comportant une pluralité d'étages de pompage (6, 7, 8, 9, 10) raccordés en série les uns à la suite des autres entre une aspiration (11) et un refoulement (12) par les canaux inter-étages (24, 25), caractérisé en ce que le dispositif de pompage et de traitement des gaz comporte : un tube interne (14) et un tube externe (15) borgne, les tubes étant insérés l'un dans l'autre et constitués de matériau céramique, le tube interne (14) étant raccordé au refoulement du logement (19) des rotors d'un étage de pompage (7) et le tube externe (15) étant raccordé au stator et communiquant avec au moins un canal inter-étage ménagé dans le stator, les tubes définissant un trajet pour les gaz pompés (27), et une source de plasma (33) disposée à l'extérieur du stator (5) pour générer un plasma (52) sur le trajet des gaz pompés (27).
摘要翻译：本发明涉及一种气体泵送和处理装置，其包括定子（5），该定子（5）包括多个在进气口（11）和排放口（12）之间逐个连接的泵送级（6,7,8,9,10））通过级间通道（24,25）。该装置的特征在于，气体抽吸和处理装置包括：内管（14）和盲管（15），其内部彼此并排设置并由陶瓷材料形成，内管（14）连接到一个泵送级（7）的转子壳体（19）的排出口，并且外管（15）连接到定子并与形成在定子中的至少一个级间通道连通，所述管限定路径泵送气体（27）; 以及设置在定子（5）外部的等离子体源（33），以在泵送气体（27）的路径中产生等离子体（52）。

5. 发明申请

WO2010142792A1 DISPOSITIF ET PROCEDE D'ANALYSE DE GAZ, ET STATION DE MESURE ASSOCIEE 审中-公开
标题翻译：用于分析气体和相关测量站的装置和方法
公开(公告)号：WO2010142792A1
公开(公告)日：2010-12-16
申请号：PCT/EP2010/058251
申请日：2010-06-11
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
发明人： FAVRE, Arnaud , GODOT, Erwan , BELLET, Bertrand
IPC分类号： G01N33/00
CPC分类号： G01N33/0018
摘要： L'invention concerne une station de mesure de la contamination gazeuse d'une enceinte de transport de substrats semi-conducteurs comportant un dispositif d'analyse de gaz pour déterminer la concentration du gaz à analyser, ledit dispositif d'analyse comprenant : - une unité de dilution (3) configurée pour diluer un flux de gaz à analyser (Q) selon un coefficient de dilution (D), et - une unité d'analyse (5) communiquant avec l'unité de dilution (3) via une canalisation de prélèvement (7) pour prélever par pompage un flux de gaz dilué (Qa), et comportant au moins un moyen de traitement pour : • analyser le flux de gaz dilué prélevé (Qa), et • déterminer la concentration (C) du flux de gaz à analyser (Q) à partir dudit flux de gaz dilué analysé (Qa) et du coefficient de dilution (D). L'invention concerne encore un procédé d'analyse de gaz associé.
摘要翻译：本发明涉及一种用于测量半导体衬底的运输箱体中的气体污染物的站，包括用于确定待分析气体浓度的气体分析装置，所述分析装置包括：稀释单元（3），其被配置为稀释根据稀释系数（D）分析的气体（Q）和通过取样管（7）与稀释单元（3）连通的分析单元（5），以便对稀释气体（Qa）进行采样，并且包括至少一个处理装置，用于分析稀释气体的采样流量（Qa），并根据所分析的稀释气体流量（Qa）确定要分析的气体流量（Q）的浓度（℃））和稀释系数（D）。本发明还涉及一种相关联的气体分析方法。

6. 发明申请

WO2009112655A1 PROCEDE DE FABRICATION DE PHOTOMASQUES ET DISPOSITIF POUR SA MISE EN ŒUVRE 审中-公开
标题翻译：制作光电子的方法及其实施的装置
公开(公告)号：WO2009112655A1
公开(公告)日：2009-09-17
申请号：PCT/FR2008/052425
申请日：2008-12-29
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , DAVENET, Magali , FORAY, Jean-Marie
发明人： FAVRE, Arnaud , DAVENET, Magali , FORAY, Jean-Marie
IPC分类号： G03F1/00
CPC分类号： G03F1/82 , G03F1/48
摘要： Le procédé de fabrication des photomasques comporte au moins une étape de nettoyage du photomasque et au moins une étape de mise en place d'une pellicule de protection sur le photomasque à la fin de la fabrication. Le procédé selon l'Invention comporte en outre au moins une étape d'élimination des résidus ammoniaques et sulfatés entre l'étape de nettoyage et i'étape de mise en place de la pellicule. Cette étape comprend les opérations suivantes : on place le photomasque dans une enceinte êtanche; on établit une basse pression dans l'enceinte étanche en pompant les gaz qu'elle contient; on soumet le photomasque à un rayonnement infrarouge; on arrête le rayonnement infrarouge; on vérifie que la température du photomasque est au plus égale à 50ºC; on rétablit la pression atmosphérique dans l'enceinte; et on extrait le photomasque de l'enceinte. Le dispositif pour la mise en œuvre du procédé selon l'invention comprend une enceinte étanctie contenant au moins un photomasque, un groupe de pompage pour installer et maintenir ie vide à l'intérieur de fenceinte, un système de maintien d'au moins un photomasque, placé à l'intérieur de l'enceinte ètanche, des moyens de rayonnement infrarouge et un système d'injection de gaz.
摘要翻译：制造光掩模的方法包括清洁光掩模的至少一个步骤和在其被制造之后在光掩模上放置保护膜的至少一个步骤。根据本发明的方法还包括在清洁步骤和薄膜施加步骤之间除去氨和硫酸根残留物的至少一个步骤。该步骤包括以下操作：将光掩模放置在密封的外壳中; 通过泵送其包含的气体在密封的外壳中建立低压; 对光掩模进行红外辐射; 停止红外线照射; 检查光掩模的温度最多等于50℃; 外壳中重新建立大气压力; 并从外壳中提取光掩模。用于实施根据本发明的方法的装置包括：包含至少一个光掩模的密封外壳，用于在壳体内产生和保持真空的抽吸单元，用于将至少一个光掩模保持在适当位置的系统，位于密封外壳内部，红外辐射装置和气体喷射系统。

7. 发明申请

WO2007135347A1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE DEPOLLUTION D'ENVIRONNEMENT CONFINE 审中-公开
标题翻译：从限制环境中移除污染物的方法和装置
公开(公告)号：WO2007135347A1
公开(公告)日：2007-11-29
申请号：PCT/FR2007/051328
申请日：2007-05-24
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , BELLET, Bertrand , BERNARD, Roland , METAIS, Xavier
发明人： FAVRE, Arnaud , BELLET, Bertrand , BERNARD, Roland , METAIS, Xavier
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67389 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , Y10T137/0419 , Y10T137/6579
摘要： La présente invention a pour objet un procédé de dépoiiution d'un environnement confiné comportant un espace intérieur limité par une paroi, comprenant les étapes suivantes: on place l'environnement confiné comportant une fuite dans une chambre étanche comprenant des moyens d'introduction de gaz et des moyens de pompage de gaz; on pompe simultanément le gaz contenu dans la chambre et le gaz contenu à l'intérieur de l'enceinte à travers la fuite, de manière â ce que la différence de pression de part et d'autre de la paroi soit à tout moment inférieure au seuil d'endomniagement de la paroi. L'invention a aussi pour objet un dispositif de dépollution d'un environnement confiné comprenant: une chambre de dépoilutîon apte à contenir l'environnement confiné; des moyens d'introduction de gaz de purge; des moyens de pompage de gaz à capacité de pompage variable; des moyens de pilotage de la vitesse de pompage; des moyens de contrôle de la différence de pression entre l'intérieur et l'extérieur de l'environnement.
摘要翻译：本发明的主题是一种从封闭环境中除去污染的方法，该环境包含由墙壁限定的内部空间，其包括以下步骤：将具有泄漏的密闭环境置于密封室中，该密封室包括引入气体和抽气的手段容纳在腔室中的气体和包含在空间内的气体同时被泵送通过泄漏，使得跨壁的压力差总是低于壁损伤阈值。本发明的另一个主题是一种用于消除受限环境污染的装置，包括：能够容纳有限环境的污染物去除室; 引入净化气体的方法; 泵送具有可变抽吸能力的气体的手段; 控制泵送速率的手段; 用于监测环境内部和外部之间的压力差的装置。

8. 发明申请

WO2012032059A1 METHOD AND DEVICE FOR THE DEPOLLUTION OF A PELLICULATED RETICLE 审中-公开
标题翻译：用于溶剂化物溶液的方法和装置
公开(公告)号：WO2012032059A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/EP2011/065408
申请日：2011-09-06
申请人： ADIXEN VACUUM PRODUCTS , FAVRE, Arnaud , HADJ RABAH, Smail , BOUNOUAR, Julien
发明人： FAVRE, Arnaud , HADJ RABAH, Smail , BOUNOUAR, Julien
IPC分类号： G03F1/64 , G03F7/20 , G03F1/00
CPC分类号： B08B5/00 , G03F1/64 , G03F1/82 , G03F7/70983
摘要： The object of the present invention is a device for depolluting a non-sealed, confined environment (1) having a natural leakage (6) and including an interior space (9) bounded by a wall (7), comprising a depollution enclosure (11, 30) means (32, 42) for pumping gas and means (33, 43) for introducing gas. The depollution enclosure (11, 30) has at least two chambers (12, 13; 31, 41) separated by a sealing wall (14, 49). A first chamber (12, 31) is constituted by the part of the enclosure that is situated in contact with the wall (7) of the non-sealed, confined environment (1) and cooperates with first means for pumping (42) and first means for introducing gas (43), and a second chamber (13, 41) is constituted by the part of the enclosure which is situated in contact with the natural leakage (6) from the non- sealed, confined environment (1) and cooperates with second means for pumping (42) and second means for introducing gas (43). The first and second means for pumping gas (32) and (42) have a pumping capacity which can vary independently, and the first and second means for introducing gas (33) and (43) having a gas injection flow rate which can vary independently. The device for depolluting also has means to control the difference in pressure between the interior space (9) and the first chamber (12, 31).
摘要翻译：本发明的目的是一种用于对具有自然泄漏（6）并包括由壁（7）限定的内部空间（9））的非密封的密封环境（1）进行污染的装置，包括一个去污的外壳（11），30）用于泵送气体的装置（32,42）和用于引入气体的装置（33,43）。污染污物外壳（11,30）具有由密封壁（14,49）分开的至少两个腔室（12,13; 31,41）。第一室（12,31）由外壳的与非密封的有限环境（1）的壁（7）接触的部分构成，并与第一装置（42）和第一室用于引入气体（43）的装置，并且第二室（13,41）由与非密封的有限环境（1）中的与自然泄漏（6）接触的外壳的一部分构成，具有用于泵送的第二装置（42）和用于引入气体（43）的第二装置。用于泵送气体（32）和（42）的第一和第二装置具有可以独立变化的泵送能力，并且用于引入气体（33）和（43）的第一和第二装置具有可独立变化的气体注入流量。用于去污化的装置还具有控制内部空间（9）和第一室（12,31）之间的压力差的装置。

9. 发明申请

WO2009021941A1 PROCEDE DE TRAITEMENT D'UN SUPPORT DE TRANSPORT POUR LE CONVOYAGE ET LE STOCKAGE ATMOSPHERIQUE DE SUBSTRATS SEMI-CONDUCTEURS, ET STATION DE TRAITEMENT POUR LA MISE EN ŒUVRE D'UN TEL PROCEDE 审中-公开
标题翻译：处理大气储存和半导体基板输送的运输支持方法以及实施这种方法的处理站
公开(公告)号：WO2009021941A1
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/EP2008/060548
申请日：2008-08-11
申请人： ALCATEL LUCENT , GODOT, Erwan , THOLLOT, Rémi , FAVRE, Arnaud
发明人： GODOT, Erwan , THOLLOT, Rémi , FAVRE, Arnaud
IPC分类号： F26B5/04 , F26B3/30 , H01L21/00
CPC分类号： F26B5/04 , F26B5/00 , F26B5/048 , F26B25/225 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/6735 , H01L21/67389 , H01L21/67769
摘要： L'invention a pour objet un procédé de traitement d'un support de transport (1) pour le convoyage et le stockage de substrats semi-conducteurs, ledit support (1) pouvant avoir subi au préalable un nettoyage par un liquide. Le procédé comporte une étape de traitement dans laquelle on place le support de transport (1) dans une chambre étanche (4) raccordée à une pompe à vide (5) et on soumet ledit support de transport (1) à l'action combinée d'une pression subatmosphérique et d'un rayonnement infrarouge pour favoriser l'élimination des corps étrangers sur les parois du support de transport (1). L'invention concerne également une station de traitement d'un support de transport (1) pour la mise en œuvre du procédé.
摘要翻译：本发明的主题是一种处理用于输送和储存半导体衬底的运输支撑件（1）的方法，所述支撑件（1）可能首先经过使用液体的清洁操作。该方法包括处理步骤，其中输送支撑件（1）放置在连接到真空泵（5）的密封室（4）中，并且所述运输支撑件（1）经受低于大气压和红外线的组合作用辐射以促进在运输支架（1）的壁上移除异物。本发明还涉及一种用于处理用于实施该方法的运输支撑件（1）的工位。

10. 发明申请

WO2011073348A1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE PILOTAGE DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS PAR MESURE DE CONTAMINATION 审中-公开
标题翻译：通过测量污染来控制半导体制造的方法和装置
公开(公告)号：WO2011073348A1
公开(公告)日：2011-06-23
申请号：PCT/EP2010/069973
申请日：2010-12-16
申请人： ALCATEL LUCENT , FAVRE, Arnaud , BOUNOUAR, Julien
发明人： FAVRE, Arnaud , BOUNOUAR, Julien
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/673
CPC分类号： H01L21/67253 , H01L21/67389 , Y02P90/28
摘要： La présente invention a pour objet un dispositif pour la manutention de substrats dans une usine de fabrication de semi-conducteurs ayant des équipements de traitement de substrats, des moyens de stockage de substrats, des moyens de transport de substrats, et un système de commande de fabrication (MES) en relation fonctionnelle avec les équipements de traitement de substrats, avec les moyens de stockage de substrats, et avec les moyens de transport de substrats, comprenant: - au moins une boîte de stockage et de transport de substrats qui est transportée par les moyens de transport et stockée dans les moyens de stockage, - au moins un dispositif d'analyse des gaz formant l'atmosphère intérieure d'une boîte de stockage et de transport de substrats, qui produit des signaux d'analyse représentatifs de la quantité de gaz critique, susceptible de générer une contamination moléculaire, qui est présente dans la boîte de stockage et de transport, - un dispositif de commande qui pilote les moyens de transport et les moyens de stockage, le dispositif de commande comprenant des instructions pour détecter un besoin de décontamination moléculaire en fonction des signaux d'analyse émis par le dispositif d'analyse de gaz.
摘要翻译：本发明涉及一种用于处理具有衬底处理设备的半导体制造工厂中的衬底的装置，衬底存储装置，衬底传送装置和用于控制与衬底处理设备的功能关系的制造执行系统（MES）的系统，基板存储装置和基板输送装置。所述装置包括：至少一个基板存储和运输箱，由输送装置输送并存储在存储装置中; 用于分析形成基板存储和运输箱内部气氛的气体的至少一个装置，所述分析装置产生表示能够产生分子污染并存在于储存和运输箱中的关键气体量的分析信号; 以及控制装置和控制装置，所述控制装置包括基于由所述气体分析装置发出的分析信号来检测对分子去污的需要的指令。

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