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51. 发明申请

WO2017031258A1 EPITAXIAL GROWTH USING ATMOSPHERIC PLASMA PREPARATION STEPS 审中-公开
标题翻译：使用大气等离子体制备步骤的外延生长
公开(公告)号：WO2017031258A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：PCT/US2016/047442
申请日：2016-08-17
申请人： ONTOS EQUIPMENT SYSTEMS
发明人： SCHULTE, Eric
IPC分类号： H01L21/20 , H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/205
CPC分类号： C30B23/025 , H01J37/32018 , H01J37/32348 , H01J37/32825
摘要： After CMP and before an epitaxial growth step, the substrate is prepared by an atmospheric plasma which includes not only a reducing chemistry, but also metastable states of a chemically inert carrier gas. This removes residues, oxides, and/or contaminants. Optionally, nitrogen passivation is also performed under atmospheric conditions, to passivate the substrate surface for later epitaxial growth.
摘要翻译：在CMP之后并且在外延生长步骤之前，通过大气等离子体制备衬底，其不仅包括化学惰性载气的还原化学，而且包括亚稳态。这可以去除残留物，氧化物和/或污染物。任选地，氮气钝化也在大气条件下进行，以钝化衬底表面以用于随后的外延生长。

52. 发明申请

WO2016127110A2 METHODS AND SYSTEMS FOR GENERATING PLASMA TO CLEAN OBJECTS 审中-公开
标题翻译：用于产生等离子体清洁对象的方法和系统
公开(公告)号：WO2016127110A2
公开(公告)日：2016-08-11
申请号：PCT/US2016/016859
申请日：2016-02-05
申请人： IONFIELD HOLDINGS, LLC
发明人： HENSLEY, Paul, F. , GABRIEL, David
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32348 , H01J37/32018 , H01J37/32532 , H01J37/32568 , H01J2237/335 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2001/2437
摘要： A system to generate plasma to clean at least one object, the apparatus comprising a microplate with an electrode support array comprising a plurality of matched pairs of elongated dielectric barrier members connected to a plurality of electrodes, with said dielectric barrier members of said matched pair being spaced at a pre-determined non-uniform gap, a variable time scale pulsed power source electrically coupled to said electrodes to provide electrical pulses and a plurality of electronic components to control polarity of said electrical pulses, such that said pulses produce electron streamers from opposing elongated dielectric barrier members of said plurality of matched pairs and charge on a surface of said dielectric barrier member is substantially evenly distributed.
摘要翻译：一种用于产生等离子体以清洁至少一个物体的系统，所述装置包括具有电极支撑阵列的微板，所述电极支撑阵列包括连接到多个电极的多个匹配成对的细长电介质阻挡构件，所述匹配对的所述电介质阻挡构件为以预定的非均匀间隙间隔开，电可耦合到所述电极的可变时标脉冲电源以提供电脉冲和多个电子部件来控制所述电脉冲的极性，使得所述脉冲从相对的方向产生电子拖缆所述多个匹配对中的细长电介质阻挡构件并且在所述电介质阻挡构件的表面上充电基本上均匀分布。

53. 发明申请

WO2013011762A1 プラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置审中-公开
标题翻译：等离子体发生装置，以及使用相同的清洁/净化装置
公开(公告)号：WO2013011762A1
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：PCT/JP2012/064530
申请日：2012-06-06
申请人：パナソニック株式会社 , 成田憲二 , 実松渉
发明人：成田　憲二 , 実松　渉
IPC分类号： C02F1/48 , A61L2/18 , B01J19/08 , B08B3/08 , B26B19/48 , C02F1/50 , C02F1/72 , C02F1/78 , H05H1/24 , A45D27/46
CPC分类号： H01J37/32798 , A45D27/46 , A45D27/48 , B08B7/00 , B09B3/0083 , C02F1/48 , C02F1/50 , C02F1/72 , C02F1/78 , H01J37/32018 , H05H1/2406 , H05H2001/2412
摘要：　洗浄浄化装置４０は、プラズマ発生装置１の使用時に発生する非正常事象を検知し、その検知結果に基づいてプラズマ放電を制御する。
摘要翻译：清洁/净化装置（40）检测使用等离子体产生装置（1）时产生的异常事件，并根据检测结果控制等离子体放电。

54. 发明申请

WO2012010374A1 ARCLÖSCHANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM LÖSCHEN VON ARCS 审中-公开
标题翻译： ARCLÖSCHANORDNUNG和方法拆卸ARCS
公开(公告)号：WO2012010374A1
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：PCT/EP2011/059812
申请日：2011-06-14
申请人： HÜTTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG , RICHTER, Ulrich
发明人： RICHTER, Ulrich
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32064 , H01J37/32018 , H01J37/32045 , H01J37/32935
摘要： Bei einem Verfahren zur Löschung eines Ares in einer Gasentiadungskammer (5), bei dem Leistung einer Gasentiadungskammer (5) zugeführt wird und in der sowohl bei einem Stromfluss in einer ersten Richtung als auch bei einem Stromfluss in einer zweiten umgekehrten Richtung jeweils eine Gasentladung erzeugt wird, wird bei Erkennen eines Ares die Leistungszufuhr zur Gasentiadungskammer (5} unterbrochen und Restenergie, die in einer Zuleitung (17, 19) zur Gasentiadungskammer (5) und/oder in der Gasentiadungskammer (5) vorhanden ist, einem Energiespeicher (30) zugeführt.
摘要翻译：在一个方法被馈送用于战神的缺失在Gasentiadungskammer（5），其中，所述功率的Gasentiadungskammer（5）和在这两个时有电流流过在第一方向上和在电流流动在第二相反的方向分别是气体放电产生中，电源在用于Gasentiadungskammer进料管线17，19）在检测到的ARES，其是（的中断Gasentiadungskammer（5}和剩余能量（5）和/或在Gasentiadungskammer（5）本是，提供给能量存储装置（30）。

55. 发明申请

WO2006007336A3 ATMOSPHERIC GLOW DISCHARGE WITH CONCURRENT COATING DEPOSITION 审中-公开
标题翻译：大气玻璃放电与同时涂层沉积
公开(公告)号：WO2006007336A3
公开(公告)日：2009-04-02
申请号：PCT/US2005020277
申请日：2005-06-09
申请人： SIGMA LAB ARIZONA INC , MIKHAEL MICHAEL G , YIALIZIS ANGELO , ELLWANGER RICHARD E
发明人： MIKHAEL MICHAEL G , YIALIZIS ANGELO , ELLWANGER RICHARD E
IPC分类号： H01L21/20 , C23C16/30 , C23C16/509 , H01J37/32 , H05H1/24
CPC分类号： C23C16/30 , B05D1/62 , B05D3/0263 , B05D3/067 , B05D3/068 , C23C16/509 , H01J37/32009 , H01J37/32018 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32532 , H01J37/32724 , H01J37/32825 , H05H1/24
摘要： A plasma is produced in a treatment space (58) by diffusing a plasma gas at atmospheric pressure and subjecting it to an electric field created by two metallic electrodes (54,56) separated by a dielectric material (64), a precursor material is mixed with the plasma, and a substrate film or web (14) is coated by vapor deposition of the vaporized substance at atmospheric pressure in the plasma field. The deposited precursor is cured by electron-beam , infrared-light, visible-light, or ultraviolet-light radiation, as most appropriate for the particular material being deposited. Plasma pre-treatment and post-treatment steps are used to enhance the properties of the resulting coated products. Similar results are obtained by atomizing and spraying the liquid precursor in the plasma field.
摘要翻译：在处理空间（58）中通过在大气压下扩散等离子体气体并对其由电介质材料（64）分开的两个金属电极（54,56）产生的电场产生等离子体，混合前体材料并且通过在等离子体场中的大气压下汽化物质的气相沉积来涂覆基底膜或网（14）。沉积的前体通过电子束，红外光，可见光或紫外光辐射固化，最适合于沉积的特定材料。使用等离子体预处理和后处理步骤来增强所得涂覆产品的性能。通过在等离子体场中雾化和喷射液体前体获得类似的结果。

56. 发明申请

WO2009036308A1 HYBRID PHOTOVOLTAICALLY ACTIVE LAYER AND METHOD FOR FORMING SUCH A LAYER 审中-公开
标题翻译：混合光伏活性层和形成这种层的方法
公开(公告)号：WO2009036308A1
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/US2008/076220
申请日：2008-09-12
申请人： SUB-ONE TECHNOLOGY , UPADHYAYA, Deepak , BOARDMAN, William, J. , DORNFEST, Charles
发明人： UPADHYAYA, Deepak , BOARDMAN, William, J. , DORNFEST, Charles
IPC分类号： H01L25/00 , H01L31/00
CPC分类号： H01L31/075 , C23C16/04 , C23C16/24 , C23C16/503 , C23C16/515 , C23C16/54 , H01J37/32018 , H01J37/32027 , H01L31/03685 , H01L31/03762 , H01L31/0747 , H01L31/1804 , Y02E10/545 , Y02E10/547 , Y02E10/548 , Y02P70/521
摘要： A "hybrid" photovoltaically active layer is homogenous (in a direction parallel to the major surfaces (29 and 31) of the layer) with respect to film constituents, but is non- homogenous with respect to photovoltaic properties. First regions exhibit (25 and 27) high absorptivity, while second regions (23, 33, 35, 37, 39, and 41) that are perpendicular to the major surfaces of the layer exhibit a higher carrier mobility. The method for forming the layer includes one or all of chemical vapor deposition, the hollow cathode effect, and high power DC pulsing.
摘要翻译： “混合”光伏活性层相对于膜组分是均匀的（在与层的主表面（29和31）平行的方向上），但是相对于光伏特性是不均匀的。第一区域呈现（25和27）高吸收率，而垂直于层的主表面的第二区域（23,33,35,37,39和41）表现出更高的载流子迁移率。形成层的方法包括化学气相沉积，中空阴极效应和高功率DC脉冲中的一种或全部。

57. 发明申请

WO2008155087A3 PLASMA REACTOR, AND METHOD FOR THE PRODUCTION OF MONOCRYSTALLINE DIAMOND LAYERS 审中-公开
标题翻译：等离子体反应器及其制造方法的单晶金刚石LAYERS
公开(公告)号：WO2008155087A3
公开(公告)日：2009-03-19
申请号：PCT/EP2008004840
申请日：2008-06-16
申请人： UNIV AUGSBURG , SCHRECK MATTHIAS , GSELL STEFAN , FISCHER MARTIN
发明人： SCHRECK MATTHIAS , GSELL STEFAN , FISCHER MARTIN
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/06 , C23C14/28 , C23C16/27
CPC分类号： H01J37/32018 , C23C16/27 , C23C16/503 , C23C16/511 , C23C16/517 , H01J37/32009 , H01J37/32027 , H01J37/32192 , H01J37/32339 , H01J37/32541
摘要： The invention relates to a plasma reactor which makes it possible to produce monocrystalline diamond layers on large areas of wafers. The invention further relates to a method for producing such diamond layers.
摘要翻译：本发明涉及一种可与在晶片上的大面积的单晶金刚石层制造的等离子体反应器。本发明还涉及一种用于制造这种金刚石层的方法。

58. 发明申请

WO2008147184A3 ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE PLASMA METHOD AND SYSTEM USING HEATED SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：大气压力放电等离子体方法和使用加热基板的系统
公开(公告)号：WO2008147184A3
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/NL2008050303
申请日：2008-05-22
申请人： FUJIFILM MFG EUROPE BV , DE VRIES HINDRIK WILLEM
发明人： DE VRIES HINDRIK WILLEM
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32018 , H01J37/32724
摘要： Method and plasma treatment apparatus for treatment of a substrate, using a pulsed atmospheric pressure glow discharge plasma in a treatment space (5) filled with a gas composition. At least two electrodes (2, 3) are connected to a power supply (4) for providing electrical power to the at least two electrodes (2, 3), a gas supply device (8) for providing a gas composition to the treatment space (5), and a temperature control unit (16) for controlling the temperature of the substrate within a range from above 70 up to 130°C.
摘要翻译：在填充有气体组合物的处理空间（5）中使用脉冲大气压辉光放电等离子体处理衬底的方法和等离子体处理装置。至少两个电极（2,3）连接到用于向至少两个电极（2,3）提供电力的电源（4），用于向处理空间提供气体组成的气体供应装置（8）（5），以及用于在高于70℃至130℃的范围内控制所述基板的温度的温度控制单元（16）。

59. 发明申请

WO2008147184A2 ATMOSPHERIC PRESSURE GLOW DISCHARGE PLASMA METHOD AND SYSTEM USING HEATED SUBSTRATE 审中-公开
标题翻译：大气压力放电等离子体方法和使用加热基板的系统
公开(公告)号：WO2008147184A2
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：PCT/NL2008/050303
申请日：2008-05-22
申请人： FUJIFILM MANUFACTURING EUROPE B.V. , DE VRIES, Hindrik Willem
发明人： DE VRIES, Hindrik Willem
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32018 , H01J37/32724
摘要： Method and plasma treatment apparatus for treatment of a substrate, using a pulsed atmospheric pressure glow discharge plasma in a treatment space (5) filled with a gas composition. At least two electrodes (2, 3) are connected to a power supply (4) for providing electrical power to the at least two electrodes (2, 3), a gas supply device (8) for providing a gas composition to the treatment space (5), and a temperature control unit (16) for controlling the temperature of the substrate within a range from above 70 up to 130°C.
摘要翻译：在填充有气体组合物的处理空间（5）中使用脉冲大气压辉光放电等离子体处理衬底的方法和等离子体处理装置。至少两个电极（2,3）连接到用于向至少两个电极（2,3）提供电力的电源（4），用于向处理空间提供气体组成的气体供应装置（8）（5），以及用于在高于70℃至130℃的范围内控制所述基板的温度的温度控制单元（16）。

60. 发明申请

WO2008126068A1 A PLASMA SYSTEM 审中-公开
标题翻译：等离子体系
公开(公告)号：WO2008126068A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/IE2008/000043
申请日：2008-04-10
申请人： UNIVERSITY OF LIMERICK , FORDE, Edward
发明人： FORDE, Edward
IPC分类号： H05H1/24 , H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32724 , H01J37/32018 , H01J37/32541 , H01J37/32825 , H05H1/46 , H05H2001/466 , H05H2001/4682
摘要： A plasma system has a plug-in cartridge (20) having a pair of identical opposed electrode blocks (21, 22) each comprising a series of electrodes (23) in the form of ridges on one side (facing the ionisation path), and on the outside heat sink fins (24). There is a process gas inlet manifold (25). The path between the electrodes (23) outlets into a treatment conduit (26) having openings into catalytic converters (27, 29) through which waste gas is driven to atmosphere by fans (28, 30) respectively. Process gas such as air is drawn in a flow A into the manifold (25), and passes in a flow B along the path where it is ionised. Ionised air outlets into the treatment conduit (26) in a flow C where it impinges against the sample S being treated. Waste air flows (D) through the catalytic converters (27, 29) where ozone is converted to oxygen for safe discharge E to atmosphere. Each pair of opposed electrodes (23) is an ionisation stage in which a high voltage sine wave causes breakdown of the gas in the gaps between the electrodes. The output of the first stage contains some ions and a large number of excited species including metastables. Recombination occurs to some of the species while in transit to the second stage. The species arriving at the second stage cause seeding of the next discharge at that stage and a larger amount of species is created than produced by the first stage. This is because the collision frequency increases with increase in the number of ions, thus accelerating the production of further ions under an electric field. The process continues through each successive stage, yielding a much higher density of active species than would be produced by a single pair of electrodes with an equivalent surface area.
摘要翻译：等离子体系统具有插入式盒（20），该插入式盒（20）具有一对相同的相对的电极块（21,22），每一对包括在一侧（面向电离路径）的隆起形式的一系列电极（23），以及在外部散热片（24）上。有一个工艺气体入口歧管（25）。电极（23）出口之间的路径到具有开口的处理导管（26）中，废气分别通过风扇（28,30）被驱动到大气中。诸如空气的处理气体在流动A中被抽吸到歧管25中，并且沿着其被电离的路径通过流B。电离空气出口流入处理管道（26），流体C撞击处理的样品S. 废气通过催化转化器（27,29）流动（D），其中臭氧转化为氧气以将其安全地排放到大气中。每对相对电极（23）是电离阶段，其中高电压正弦波引起电极间隙中气体的破坏。第一阶段的输出包含一些离子和大量激发物种，包括亚稳态。一些物种在转运到第二阶段时发生重组。到达第二阶段的物种在该阶段导致下一次排放的播种，并且产生比第一阶段产生的更多的物种。这是因为碰撞频率随着离子数的增加而增加，从而加速了电场下的其它离子的产生。该过程通过每个连续阶段继续，产生比由具有等效表面积的单对电极产生的活性物质高得多的密度。

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