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1. 发明申请

WO2014094738A2 ARCLÖSCHVERFAHREN UND LEISTUNGSVERSORGUNGSSYSTEM MIT EINEM LEISTUNGSWANDLER 审中-公开
标题翻译：带电源转换器的搂草过程和电源系统
公开(公告)号：WO2014094738A2
公开(公告)日：2014-06-26
申请号：PCT/DE2013/100430
申请日：2013-12-18
申请人： TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG
发明人： GREDE, André , KRAUSSE, Daniel , LABANC, Anton , THOME, Christian , PENA VIDAL, Alberto
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32944 , H01J37/32064 , H01J37/3299
摘要： Arclöschverfahren zur Löschung von Arcs in einer Plasmakammer (6) eines Plasmasystems (1), umfassend die Verfahrensschritte: a. Erzeugung einer Leistung während eines Plasmabetriebs zur Erzeugung eines Plasmas in der Plasmakammer und zur Durchführung eines Plasmabearbeitungsprozesses unter Verwendung des erzeugten Plasmas, indem mit einem Digital-Analog-Wandler (DAC) (41) ein Analogsignal generiert wird, das einem Verstärkerpfad (31, 32) zugeführt und dort verstärkt wird; b. Überwachung des Plasmasystems hinsichtlich des Auftretens eines Arcs durch eine Aberkennung; c. bei Erkennen eines Arcs im Schritt b. : Ansteuern des DACs durch die Aberkennung, derart, dass ein analoges Ausgangssignal des DACs verändert wird.
摘要翻译：用于删除等离子体系统（1）的等离子体腔室（6）中的弧的方法，包括以下方法步骤：a。生成等离子体操作期间的输出瓦特BEAR用于产生在等离子体腔室中的等离子体以及用于执行使用由模拟信号产生的等离子体的等离子体处理方法的导航使用导向件由一个数字 - 模拟转换器（DAC）（41），所述AUML补强＆产生在那里进行放大（图31,32）; 湾通过检测监测等离子体系统是否存在电弧; 温度。当在步骤b中检测到电弧时。通过抑制来激活DAC，从而改变DAC的模拟输出信号

2. 发明申请

WO2012139707A8 CARBON SPARK EVAPORATION 审中-公开
标题翻译：碳无线电扩展
公开(公告)号：WO2012139707A8
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/EP2012001322
申请日：2012-03-26
申请人： OERLIKON TRADING AG , RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , RUHM KURT
发明人： RAMM JUERGEN , WIDRIG BENO , RUHM KURT
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32055 , C23C14/325 , H01J37/32064 , H05B7/148 , H05B7/20 , H05H2001/4682
摘要： The invention relates to a method for operating a pulsed discontinuous spark discharge. The spark is fed via a capacitor. Between the pulses there are switched-off time intervals during which no spark current flows. Within the pulses, that is to say during the switched-on time intervals, the supply of charge is stopped upon a current threshold being reached and is restarted, with the result that subpulses occur within the pulses. The time intervals and subpulses are chosen according to the invention such that when the capacitor is switched on again, the spark discharge readily ignites again.
摘要翻译：本发明涉及一种操作脉冲间歇火花放电的方法。火花通过电容器供给。有在这期间流过无火花电流脉冲的时间间隔之间关闭。内的脉冲，在期间被激活的时间间隔即在电荷供给将实现电流阈值断开并再次接通，从而将有脉冲内的子脉冲。的时间间隔和子脉冲被创造性地选择，使得当所述电容器的一个新的连接时，火花放电再次容易点燃。

3. 发明申请

WO2008150136A1 ARC DETECTING APPARATUS AND ARC MONITORING METHOD USING THE SAME 审中-公开
标题翻译：电弧检测装置和使用其的电弧监测方法
公开(公告)号：WO2008150136A1
公开(公告)日：2008-12-11
申请号：PCT/KR2008/003188
申请日：2008-06-05
申请人： PLASMART INC. , LEE, Sang Won , KIM, Hyung-Jun , KIM, Jaehyun , SEO, Sang Hun , LEE, Yong Kwan
发明人： LEE, Sang Won , KIM, Hyung-Jun , KIM, Jaehyun , SEO, Sang Hun , LEE, Yong Kwan
IPC分类号： G01R31/12
CPC分类号： H05H1/26 , H01J37/32055 , H01J37/32064 , H05H2001/3494
摘要： Provided are an arc detecting apparatus and an arc monitoring method using the same. The arc detecting apparatus includes a transmission line connected to a load, and transmitting an electrical signal of a current or voltage, a detector measuring the electrical signal of the current or voltage of the transmission line, and a processor processing the electrical signal to generate at least one arc detection signal. Herein, the arc detection signal is generated corresponding to an arc generated in the load.
摘要翻译：提供一种电弧检测装置和使用该电弧检测装置的电弧监视方法。电弧检测装置包括连接到负载的传输线，并传送电流或电压的电信号，测量传输线的电流或电压的电信号的检测器，以及处理电信号的处理器至少一个电弧检测信号。这里，对应于在负载中产生的电弧产生电弧检测信号。

4. 发明申请

WO2008033968A2 SYSTEM AND METHOD FOR MANAGING POWER SUPPLIED TO A PLASMA CHAMBER 审中-公开
标题翻译：管理向等离子室供电的系统和方法
公开(公告)号：WO2008033968A2
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/US2007/078339
申请日：2007-09-13
申请人： ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC. , PANKRATZ, Josh
发明人： PANKRATZ, Josh
IPC分类号： H01H9/50
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32064 , H01J37/32935 , H01J2237/0206 , H05H2001/4682
摘要： A system and method for managing power delivered to a processing chamber is described. In one embodiment power is delivered to the processing chamber with a power cable, the power cable storing energy and including a first and second conductors, the first conductor having a first voltage polarity relative to the second conductor. The voltage polarity of the first conductor is reversed relative to the second conductor and at least a portion of the stored energy in the power cable is provided to the plasma chamber while the polarity of the first power cable is reversed.
摘要翻译：描述了用于管理输送到处理室的功率的系统和方法。在一个实施例中，功率通过电力电缆输送到处理室，电力电缆储存能量并包括第一和第二导体，第一导体相对于第二导体具有第一电压极性。第一导体的电压极性相对于第二导体反向，并且当第一电力电缆的极性被反转时，电力电缆中的至少一部分储能被提供给等离子体室。

5. 发明申请

WO2015173607A1 METHOD TO FILTER MACRO PARTICLES IN A CATHODIC ARC PHYSICAL VAPOR DEPOSITION (PVD), IN VACUUM 审中-公开
标题翻译：在阴极电化学气相沉积（PVD），真空中过滤大颗粒的方法
公开(公告)号：WO2015173607A1
公开(公告)日：2015-11-19
申请号：PCT/IB2014/061393
申请日：2014-05-13
申请人： ARGOR ALJBA SA
发明人： UKHANOV, Sergey
IPC分类号： C23C14/32
CPC分类号： H01J37/32871 , C23C14/325 , C23C14/54 , H01J37/32055 , H01J37/32064 , H01J37/32541 , H01J37/34
摘要： A method to filter macro particles in a cathodic arc physical vapor deposition (PVD) in vacuum is described, said method comprising the step of evaporating a material from a solid source (1) by means of application of the arc on the source, forming a plasma comprising electrons, micro particles (vapor) and ions of evaporated material, together with macro particles larger in size than the micro particles and ions. The arc is moved on the source at a speed V cs (superficial speed) at which the electrons, the micro particles and the ions of material evaporated at a point P 2 deviate, from a path towards a substrate (2) to be coated facing the source, the macro particles formed at a point P 1 previously passed over by the arc, so as to self-clean the plasma of the macro particles and allow condensation of only the cleaned plasma on the substrate.
摘要翻译：描述了在真空中过滤阴极电弧物理气相沉积（PVD）中的宏粒子的方法，所述方法包括通过在源上施加电弧从固体源（1）蒸发材料的步骤，形成包含电子的等离子体，微粒（蒸气）和蒸发材料的离子，以及大小比微粒子和离子大的宏粒子。电弧在源处以在点P2偏离的材料的电子，微粒和材料离子偏离的速度Vcs（表观速度）移动到待涂覆的基底（2）的面向源，在预先通过电弧的点P1处形成的宏观颗粒，以便自我清洁大颗粒的等离子体，并允许仅将清洁的等离子体冷凝在基板上。

6. 发明申请

WO2013034258A1 PLASMAQUELLE 审中-公开
标题翻译：等离子体源
公开(公告)号：WO2013034258A1
公开(公告)日：2013-03-14
申请号：PCT/EP2012/003623
申请日：2012-08-29
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , HAGMANN, Juerg
发明人： KRASSNITZER, Siegfried , LENDI, Daniel , HAGMANN, Juerg
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H05H1/24 , H01J27/022 , H01J37/32045 , H01J37/32064
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Plasmaquelle die floatend an einer Vakuumkammer angeordnet ist wobei die Plasmaquelle ein Quellengehäuse umfasst und in dem Quellengehäuse ein von diesem isoliert angeordnetes Filament vorgesehen ist, wobei Mittel zu Messung des Potentialabfalls zwischen dem Quellengehäuse und dem Filament vorgesehen. Der Gemessene Potentialabfall kann zur Regelung der das Filament heizenden Spannung verwendet werden. Erfindungsgemäss sind entsprechende Mittel vorgesehen.
摘要翻译：本发明涉及一种在真空室中，其中，所述等离子体源包括源室以及设置在该绝缘长丝的阀在源壳体设置布置成浮动的等离子体源，装置被提供以测量源壳体和被设置在灯丝之间的电势降。所测量的电势降可以被用来控制的灯丝加热电压。根据本发明，提供了适当的装置。

7. 发明申请

WO2012010374A1 ARCLÖSCHANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM LÖSCHEN VON ARCS 审中-公开
标题翻译： ARCLÖSCHANORDNUNG和方法拆卸ARCS
公开(公告)号：WO2012010374A1
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：PCT/EP2011/059812
申请日：2011-06-14
申请人： HÜTTINGER ELEKTRONIK GMBH + CO. KG , RICHTER, Ulrich
发明人： RICHTER, Ulrich
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32064 , H01J37/32018 , H01J37/32045 , H01J37/32935
摘要： Bei einem Verfahren zur Löschung eines Ares in einer Gasentiadungskammer (5), bei dem Leistung einer Gasentiadungskammer (5) zugeführt wird und in der sowohl bei einem Stromfluss in einer ersten Richtung als auch bei einem Stromfluss in einer zweiten umgekehrten Richtung jeweils eine Gasentladung erzeugt wird, wird bei Erkennen eines Ares die Leistungszufuhr zur Gasentiadungskammer (5} unterbrochen und Restenergie, die in einer Zuleitung (17, 19) zur Gasentiadungskammer (5) und/oder in der Gasentiadungskammer (5) vorhanden ist, einem Energiespeicher (30) zugeführt.
摘要翻译：在一个方法被馈送用于战神的缺失在Gasentiadungskammer（5），其中，所述功率的Gasentiadungskammer（5）和在这两个时有电流流过在第一方向上和在电流流动在第二相反的方向分别是气体放电产生中，电源在用于Gasentiadungskammer进料管线17，19）在检测到的ARES，其是（的中断Gasentiadungskammer（5}和剩余能量（5）和/或在Gasentiadungskammer（5）本是，提供给能量存储装置（30）。

8. 发明申请

WO2009059807A1 VERFAHREN ZUM ABSCHEIDEN ELEKTRISCH ISOLIERENDER SCHICHTEN 审中-公开
标题翻译：方法分离电气绝缘层
公开(公告)号：WO2009059807A1
公开(公告)日：2009-05-14
申请号：PCT/EP2008/052521
申请日：2008-02-29
申请人： OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH , RAMM, Jürgen , WOHLRAB, Christian
发明人： RAMM, Jürgen , WOHLRAB, Christian
IPC分类号： H01J37/32 , C23C14/32
CPC分类号： C23C14/325 , C23C14/0021 , C23C14/08 , C23C14/081 , H01J37/32055 , H01J37/32064
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Betreiben einer Arcquelle, wobei eine elektrische Funkenentladung auf einer Oberfläche eines Targets (5) gezündet bzw. betrieben wird, und die Funkenentladung gleichzeitig mit einem Gleichstrom, dem eine Gleichspannung DV zugeordnet ist, als auch mit einem durch ein periodisch angelegtes Spannungs Signal erzeugten Pulsstrom gespeist wird. Dabei wird die Spannung an der Arcquelle über mehrere MikroSekunden erhöht bzw. die Signalform des Spannungsignals im Wesentlichen frei einstellbar.
摘要翻译：本发明涉及一种用于操作电弧源，其中的电火花放电点燃一个目标（5）的表面上并操作，并在同一时间带的直流电流的火花放电时，DC电压DV相关联，并与一个周期性地通过一个产生的电流所施加的电压脉冲信号被馈送。在电弧源极的电压在几个微秒增加或电压信号的波形基本上是可以自由调节。

9. 发明申请

WO2015141521A1 基板処理装置、半導体装置の製造方法及び記録媒体审中-公开
标题翻译：基板加工设备，半导体器件制造方法和记录介质
公开(公告)号：WO2015141521A1
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：PCT/JP2015/056976
申请日：2015-03-10
申请人：株式会社日立国際電気
发明人：佐藤　崇之
IPC分类号： H01L21/31 , C23C16/505 , C23C16/52 , H01L21/3065 , H01L21/316 , H05H1/46
CPC分类号： H01L21/02164 , H01J37/32064 , H01J37/32091 , H01J37/32183 , H01J37/32568 , H01J37/32743 , H01L21/02238 , H01L21/02252 , H01L21/02274
摘要：課題：プラズマを用いた基板処理において、基板の面内均一性を向上させる。　解決手段：処理ガスをプラズマ状態とするプラズマ生成部と、プラズマ状態の処理ガスで基板を処理する処理室と、処理室内にて基板を支持する基板支持部と、基板支持部の内部に設けられ、周方向に区分けされた複数の領域を有する電極部と、周方向に区分けされた複数の領域のそれぞれの領域ごとに電極部のインピーダンスを調整するインピーダンス調整部と、を備える構成を提供する。
摘要翻译：本发明解决了使用等离子体的基板处理中提高基板的面内均匀性的问题。 [解决方案]提供了一种配置，其中处理气体进入等离子体状态的等离子体产生部分; 处理室，其中使用处于等离子体状态的处理气体处理基板; 衬底支撑部，其在所述处理室中支撑所述衬底; 电极部，其设置在所述基板支撑部中，并且具有沿周向隔开的多个区域; 以及阻抗调整部，其通过沿圆周方向分隔的各个区域来调整电极部的阻抗。

10. 发明申请

WO2014071172A1 SNUBBER SYSTEM, APPARATUS, AND METHOD 审中-公开
标题翻译： SNUBBER SYSTEM，APPARATUS和METHOD
公开(公告)号：WO2014071172A1
公开(公告)日：2014-05-08
申请号：PCT/US2013/068033
申请日：2013-11-01
申请人： ADVANCED ENERGY INDUSTRIES, INC.
发明人： FINLEY, Kenneth, W. , CHRISTIE, David
IPC分类号： H02M1/34 , H02M3/04 , C23C14/34
CPC分类号： H01J37/32064 , H01J37/32027 , H01J37/32055 , H01J37/34 , H05H1/46 , H05H1/48 , H05H2001/4682
摘要： This disclosure describes a non-dissipative snubber circuit configured to boost a voltage applied to a load after the load's impedance rises rapidly. The voltage boost can thereby cause more rapid current ramping after a decrease in power delivery to the load which results from the load impedance rise. In particular, the snubber can comprise a combination of a unidirectional switch, a voltage multiplier, and a current limiter. In some cases, these components can be a diode, voltage doubler, and an inductor, respectively.
摘要翻译：本公开描述了一种非耗散缓冲电路，其被配置为在负载的阻抗快速上升之后提升施加到负载的电压。因此，由于负载阻抗上升而导致负载的功率递减降低后，电压提升可以引起更快速的电流斜坡。特别地，缓冲器可以包括单向开关，电压倍增器和限流器的组合。在某些情况下，这些组件可分别是二极管，倍压器和电感。

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